曝光装置制造方法及图纸

一种曝光装置，对基板与掩模进行校准，在将上述掩模密合于上述基板的状态下进行曝光，其中基板具有多个定位用的校准标记，掩模具有用来与上述校准标记对准位置的多个掩模标记并设有规定图案，曝光装置具有：以多个掩模标记为基础，求出掩模整个区域的对角线彼此交叉所得到的分配点ＭＢ的单元；以上述校准标记为基础，求出基板的整个区域的对角线彼此交叉所得到的分配点ＷＢ的单元；对掩模标记的分配点ＭＢ与校准标记的分配点ＷＢ进行比较的第一比较单元；根据第一比较单元的比较结果，判断上述校准标记的分配点ＷＢ相对于上述掩模标记的分配点ＭＢ是否在容许范围内的第一判断单元；在上述第一判断单元判断出在容许范围内时，将曝光光线照射于上述基板整体。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种印刷电路板、液晶基板等基板和掩模的曝光装置，特别涉及根据掩模与基板的分配点(按分点)进行曝光作业的曝光装置。
技术介绍
专利文献1特开平11-194507号公报(段落0011～0014、图3)专利文献2特开2000-122303号公报(全文)以往，在制作印刷电路板时，使用下述的曝光装置，该曝光装置将设有电路图案的掩模与基板校准后，通过在使两者密合的状态下照射曝光光线，将电路的图案复制到基板上。这样的曝光装置具有放置基板的基座；对基座上的基板进行曝光的具有规定图案并位于基座上部的掩模；使掩模或基板进行校准移动的校准移动装置；对掩模及基板曝光的由光源及反射镜等组合构成的光学系统。此外，已经公知如下的曝光方法(例如，参照专利文献1)将基板与掩模划分成任意区域(例如四个区域)，首先进行基板整体的校准，然后进行各个区域的校准，从完成校准的区域开始顺序进行曝光作业，反复进行该动作而完成基板整体的曝光作业。而且，提出了如下方法(例如，参照专利文献2)对多个图案整体进行曝光(通过光束扫描进行描绘)时，测量应被曝光的区域各自的重心位置以及整体的重心位置，以此测量数据为基础，根据多本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种曝光装置，对基板与掩模进行校准，在将上述掩模密合于上述基板的状态下进行曝光，其中基板具有多个定位用的校准标记，掩模具有用来与上述校准标记对准位置的多个掩模标记并设有规定图案，该曝光装置具有：以上述多个掩模标记为基础，求出上述掩模 整个区域的对角线彼此交叉所得到的分配点ＭＢ的单元；以上述多个校准标记为基础，求出上述基板整个区域的对角线彼此交叉所得到的分配点ＷＢ的单元；对上述掩模标记的分配点ＭＢ与上述校准标记的分配点ＷＢ进行比较的第一比较单元；根 据上述第一比较单元的比较结果，判断上述校准标记的分配点ＷＢ相对于上述掩模标记的分配点ＭＢ...

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：屋木康彦，薮慎太郎，氏益稔，
申请(专利权)人：株式会社ORC制作所，
类型：发明
国别省市：JP[日本]