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一种曝光装置，对基板与掩模进行校准，在将上述掩模密合于上述基板的状态下进行曝光，其中基板具有多个定位用的校准标记，掩模具有用来与上述校准标记对准位置的多个掩模标记并设有规定图案，曝光装置具有：以多个掩模标记为基础，求出掩模整个区域的对角线彼...
该专利属于株式会社ORC制作所所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社ORC制作所授权不得商用。

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