一种电磁感应线圈调节装置及蚀刻设备制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供了一种电磁感应线圈调节装置及蚀刻设备，涉及半导体生产技术领域，该电磁感应线圈调节装置包括：支撑板、第一线圈调节机构以及第二线圈调节机构；第一线圈调节机构的内圈设有第二线圈调节机构，第一线圈调节机构包括第一调节组件，以及与第一调节组件连接的第一线圈组件；第二线圈调节机构包括至少一第二调节组件，以及与第二调节组件连接的第二线圈组件，第二调节组件于远离第二线圈组件的一侧连接支撑板；通过第一调节组件和第二调节组件分别调节第一线圈组件和第二线圈组件相对于支撑板的距离。本实用新型专利技术能够解决现有技术中电磁感应线圈所激发出来的电磁场均匀性差，造成PSS衬底均匀性差的技术问题。造成PSS衬底均匀性差的技术问题。造成PSS衬底均匀性差的技术问题。

【技术实现步骤摘要】
一种电磁感应线圈调节装置及蚀刻设备


[0001]本技术涉及半导体生产
，具体涉及一种电磁感应线圈调节装置及蚀刻设备。

技术介绍

[0002]随着电子设备的广泛应用，半导体的制造工艺得到了飞速的发展。在半导体的制造工艺中，通常需要对PSS衬底表面进行图形化处理，其中一种方法是对PSS衬底进行表面蚀刻，其中，PSS衬底为图形化蓝宝石衬底(Patterned Sapphire Substrate,PSS)的简称。
[0003]目前比较常见的PSS衬底表面蚀刻方法为通过交流电源在电磁感应线圈上施加交流电，从而在电磁感应线圈的周围产生电磁场。然后刻蚀气体从喷嘴被通入刻蚀装置中，刻蚀气体在电磁场的作用下发生电离并形成等离子体，等离子体把PSS衬底表面的氧化物蚀刻掉。但是承载的PSS衬底的铝盘包括内圈承载盘和外圈承载盘，由于电磁感应线圈一般为螺旋状，这将导致电磁感应线圈所激发出来的电磁场在中部位置和边缘位置的强度不一致，等离子体分布不均匀，造成内圈承载盘的PSS衬底与外圈承载盘的PSS衬底，存在蚀刻环境差异，从而使外圈PSS衬底和内圈PSS衬底本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种电磁感应线圈调节装置，其特征在于，所述电磁感应线圈调节装置包括：支撑板、第一线圈调节机构以及第二线圈调节机构；所述第一线圈调节机构的内圈设有第二线圈调节机构，所述第一线圈调节机构包括第一调节组件，以及与所述第一调节组件连接的第一线圈组件；所述第二线圈调节机构包括至少一第二调节组件，以及与所述第二调节组件连接的第二线圈组件，所述第二调节组件于远离所述第二线圈组件的一侧连接所述支撑板；通过所述第一调节组件和所述第二调节组件分别调节所述第一线圈组件和所述第二线圈组件相对于所述支撑板的距离。2.根据权利要求1所述的电磁感应线圈调节装置，其特征在于，所述第一调节组件包括若干个第一调节件和第二调节件，第一调节件包括第一连接件以及与所述第一线圈组件连接的第二连接件，所述第一连接件于靠近所述第二连接件的一侧设有第一滑动孔，紧固件穿入所述第一滑动孔活动连接于第二连接件上，通过紧固件与所述第一滑动孔的配合活动以调节所述第一线圈组件相对于所述支撑板的距离，第二调节件包括第三连接件以及与所述第一线圈组件连接的第四连接件，所述第三连接件于靠近所述第四连接件的一侧设有第二滑动孔，紧固件穿入所述第二滑动孔活动连接于第二连接件上，通过紧固件与所述第二滑动孔的配合活动以调节所述第一线圈组件相对于所述支撑板的距离。3.根据权利要求2所述的电磁感应线圈调节装置，其特征在于，所述第二调节组件包括连接所述支撑板的第三调节件，以及与所述第二线圈组件连接的第四调节件，所述第三调节件上分别套设有两锁紧件以及设于所述两锁紧件之间的所述第四调节件，通过所述第四调节件与所述两锁紧件的配合活动，以调节所述第二线圈组件相对于所述支撑板的距离。4.根据权利要求3所述的电磁感应线圈调节装置，其特征在于，所述第二调节组件还包括第三调节组件，第三调节组件包括第五调节件和第六调节件，第五调节件包括第五连接件以及与所述第一线圈组件连接的第六连接件，所述第五连接件于靠近所述第六连接件的一侧设有第三滑动孔，紧固件穿入所述第三滑动孔活动连接于第六连接件上...

【专利技术属性】
技术研发人员：何庚，梁毅，林冠宏，崔思远，文国昇，金从龙，
申请(专利权)人：江西兆驰半导体有限公司，
类型：新型
国别省市：