带电粒子束装置和带电粒子束装置的控制方法制造方法及图纸

提供能防止数据取得时间的长时间化的带电粒子束装置等。一种带电粒子束装置，包含：消隐器，其进行带电粒子束的消隐；载台，其保持试样且使所述试样能倾斜；消隐控制部，其对带电粒子束的消隐进行控制来向试样照射脉冲束；以及倾斜控制部，其控制试样的倾斜角度，消隐控制部基于试样的倾斜角度来设定脉冲束的占空比。比。比。

【技术实现步骤摘要】
带电粒子束装置和带电粒子束装置的控制方法


[0001]本专利技术涉及带电粒子束装置和带电粒子束装置的控制方法。

技术介绍

[0002]已知通过对透射型电子显微镜(TEM)或扫描透射型电子显微镜(STEM)应用CT法而能进行三维结构物的结构观察/结构解析的手法(层析成像：Tomography)(例如，专利文献1)。在层析成像中，使试样以各种各样的角度倾斜，并取得每个倾斜角度的透射电子显微镜像(倾斜像系列)。在此，若使试样倾斜，则试样的表观的厚度会改变，因此要进行：根据试样的倾斜角度来改变曝光时间(倾斜像的数据取得时间)，使得倾斜角度越大则曝光时间越长。
[0003]现有技术文献
[0004]专利文献
[0005]专利文献1：特开2005
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19218号公报

技术实现思路

[0006]专利技术要解决的问题
[0007]若如上述这样通过检测器的数据取得时间来控制电子束照射量，则在取得倾斜像系列时需要很多时间。当数据取得时间变长时，会出现试样漂移(drift)，从而招致取得图像的劣化，另本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种带电粒子束装置，其特征在于，包含：消隐器，其进行带电粒子束的消隐；载台，其保持试样且使所述试样能倾斜；消隐控制部，其对所述带电粒子束的消隐进行控制来向所述试样照射脉冲束；以及倾斜控制部，其控制所述试样的倾斜角度，所述消隐控制部基于所述试样的倾斜角度来设定所述脉冲束的占空比。2.根据权利要求1所述的带电粒子束装置，其中，所述消隐控制部将所述占空比设定为：所述倾斜角度的绝对值越大，则所述占空比越大。3.根据权利要求1...

【专利技术属性】
技术研发人员：金子武司，石川勇，奥西荣治，
申请(专利权)人：日本电子株式会社，
类型：发明
国别省市：