【技术实现步骤摘要】
用于带电粒子显微镜的再入式气体系统
[0001]本专利技术大体上涉及用于带电粒子显微镜的气体递送技术，且确切地说，涉及将气体从低电压电势递送到高电势的再入式气体递送系统，所述再入式气体递送系统允许灵活设计同时最小化或消除由于高电场而导致的气体分解。
技术介绍
[0002]许多工业和高科技领域使用气体系统来处理材料。例如，在这些系统中的一些中，气体可从接地电压或低电压递送到高电压，其中气体用于形成等离子体。此类系统中的气体的递送可能需要遵守严格的约束以避免不合需要的影响，例如递送系统中的气体分解。虽然这些约束有助于减少或防止此类分解，但其还减小了气体递送系统在设计上的灵活性。因此，需要提供更大设计灵活性同时仍提供气体分解减少/防止的替代气体递送技术。
技术实现思路
[0003]本文公开了用于再入式流体递送技术的设备和系统。实例系统至少包含在第一电势与第二电势之间延伸的流体递送管道，其中流体递送管道形成为倾斜的螺旋状，使得流动穿过流体递送管道的流体经历贯穿流体递送管道的每一绕组的电场反转。
[0004]另...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种流体递送系统，其包括：在第一电势与第二电势之间延伸的流体递送管道，其中所述流体递送管道形成为倾斜的螺旋状，使得流动穿过所述流体递送管道的流体经历贯穿所述流体递送管道的每个绕组的电场反转。2.根据权利要求1所述的流体递送系统，其进一步包含在第一电极与第二电极之间延伸的心轴，其中所述流体递送管道缠绕在所述心轴周围，且其中所述第一电极与第二电极处于所述第一电势和第二电势处。3.根据权利要求2所述的流体递送系统，其中所述心轴是杆状的。4.根据权利要求2所述的流体递送系统，其中凹槽形成于所述心轴中，所述凹槽被布置成使得所述流体递送管道装配在所述凹槽内。5.根据权利要求1所述的流体递送系统，其中所述第一电势是低电压且所述第二电势是高电压。6.根据权利要求5所述的流体递送系统，其中所述低电压为接地电压且所述高电压在从10 kV到50 kV的范围内。7.根据权利要求1所述的流体递送系统，其进一步包含在第一电极与第二电极之间延伸的圆锥形支撑结构，其中所述流体递送管道缠绕在所述圆锥形支撑结构周围。8.根据权利要求1所述的流体递送系统，其中等势线建立于所述第一电势与第二电势之间，且其中所述流体递送管道的每个绕组前进通过至少两个等势线且返回至少一个等势线。9.根据权利要求8所述的流体递送系统，其中在所述第一电势与第二电势之间建立等势线，且其中所述流体递送管道的每个绕组前进通过至少两个等势线且返回至少一个等势线，从而沿着任何形状的等势线经由自适应形式行进。10.根据权利要求1所述的流体递送系统，其中所述流体递送管道安置于带电粒子柱中。11.根据权利要求10所述的流体递送系统，其中所述带电粒子柱为等离子体聚焦离子束柱。12.一种系统，其包括：聚焦离子束柱，其...
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