一种窗口组件包括：透明窗口层；以及被设置在所述窗口层的第一表面上的第一编码掩模层，所述第一编码掩模层具有被配置为改变穿过所述窗口组件的光的第一性质的第一形状。所述第一编码掩模层可以包括：包括相位调制超图案的超表面。所述超表面还可以包括幅度调制超图案。具有被配置为改变穿过所述窗口组件的光的第二性质的第二形状的第二编码掩模层还可以被设置在所述窗口层的第二表面上。被设置在所述窗口层的第二表面上。被设置在所述窗口层的第二表面上。
【技术实现步骤摘要】
窗口组件、包括窗口组件的成像系统、制造成像系统的方法及包括成像系统的电子装置
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请基于2021年10月8日在韩国知识产权局提交的韩国专利申请No.10
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2021
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0134457并且要求其优先权，其公开内容通过引用整体并入本文。
[0003]本公开涉及成像系统，并且具体涉及窗口组件、包括该窗口组件的成像系统、制造该成像系统的方法及包括该成像系统的电子装置。
技术介绍
[0004]成像系统一般包括：包括驱动电路的图像传感器芯片、覆盖该图像传感器芯片的封装、该封装中的光入射窗、该光入射窗上方的波长过滤器、以及该封装上方的透镜系统。窗和透镜的材料可以对光具有适当的透射率和折射率。
[0005]最近，已经引入了无透镜成像系统。无透镜成像系统不使用有关技术的成像系统中使用的透镜。在现有成像系统的情况下，因为设置了透镜，所以需要光行进所需的空间——即至少与透镜的焦距相对应的空间。因为无透镜成像系统不使用传统透镜，所以其不需要光行进的空间。因此，无透镜成像系统与有关技术的成像系统相比可以具有减小的体积。因此，通过使用无透镜成像系统可以实现紧凑成像系统。
技术实现思路
[0006]提供了能够恢复希望的图像的窗口组件。
[0007]提供了通过包括所述窗口组件而具有紧凑的尺寸的成像系统。
[0008]提供了制造所述成像系统的方法。
[0009]提供了包括所述成像系统的电子装置。
[0010]附加的方面将部分地在以下描述中阐述，且将部分地通过该描述而变得清楚，或者可以通过对本公开的示例实施例的实践来获知。
[0011]根据本公开的一个方面，一种窗口组件包括：透明窗口层；以及第一编码掩模层，被设置在所述透明窗口层的第一表面上，所述第一编码掩模层具有第一形状，所述第一形状被配置为改变穿过所述窗口组件的光的第一性质。
[0012]所述第一编码掩模层可以包括：包括相位调制超图案的超表面。
[0013]所述超表面还可以包括幅度调制超图案。
[0014]所述窗口组件还可以包括：被直接设置在所述透明窗口层的第二表面上的第二编码掩模层，所述第二编码掩模层具有被配置为改变穿过所述窗口组件的光的第二性质的第二形状。
[0015]所述第一编码掩模层和所述第二编码掩模层都可以包括相位调制编码掩模层。
[0016]所述第一编码掩模层和所述第二编码掩模层中的每一个可以包括相应的多个相
位调制超图案。
[0017]所述第一编码掩模层和所述第二编码掩模层中的一个可以包括相位调制编码掩模层，并且所述第一编码掩模层和所述第二编码掩模层中的另一个可以包括幅度调制编码掩模层。
[0018]所述相位调制编码掩模层可以包括多个相位调制超图案，并且所述幅度调制编码掩模层包括多个幅度调制超图案。
[0019]所述窗口组件还可以包括：顺序堆叠在所述透明窗口层的第二表面上的滤光层和抗反射膜，所述第二表面与所述第一表面相对。
[0020]所述窗口组件还可以包括：顺序堆叠在所述第二编码掩模层上的滤光层和抗反射膜。
[0021]所述第一编码掩模层和所述第二编码掩模层都可以都包括相位调制编码掩模层，并且幅度调制编码掩模层还可以被设置在所述第二编码掩模层上。
[0022]所述窗口组件还可以包括：所述透明窗口层的所述第一表面与所述第一编码掩模层之间的光分离层。
[0023]所述透明窗口层可以对长波红外(LWIR)线是透明的，并且所述第一编码掩模层可以包括改变所述LWIR线的相位的多个超图案，并且所述多个超图案可以被配置为恢复穿过所述窗口组件的光中所包括的图像。
[0024]所述透明窗口层可以包括硅层，并且所述多个超图案可以包括非晶硅图案。
[0025]一种成像系统可以包括：不包括透镜的本公开的上述方面的窗口组件；以及图像传感器，被配置为：接收穿过所述窗口组件的光并且生成电信号以用于生成图像。
[0026]所述图像传感器可以包括互补金属氧化物半导体(CMOS)图像传感器。
[0027]根据本公开的一个方面，一种制造成像系统的方法包括：在衬底上形成图像传感器；在所述衬底上环绕所述图像传感器形成第一凸块；在窗口层的第一表面上形成第一编码掩模层；在所述第一表面上环绕所述第一编码掩模层形成第二凸块；在所述窗口层与所述第一表面相对的第二表面上顺序形成滤光层和抗反射膜；使所述衬底与所述窗口层对准，以使所述第一凸块与所述第二凸块彼此面对并使所述图像传感器与所述第一编码掩模层彼此面对；以及通过在保持对准的同时移动所述窗口层、直到所述图像传感器与所述第一编码掩模层具有指定的距离为止，使所述第一凸块与所述第二凸块彼此进行接触接合。
[0028]所述方法还可以包括：在所述窗口层的所述第一表面与所述第一编码掩模层之间形成透明光分离层。
[0029]所述方法还可以包括：在所述窗口层的所述第二表面与所述滤光层之间形成第二编码掩模层。
[0030]形成所述第一编码掩模层可以包括：形成包括改变LWIR线的相位的多个超图案在内的超表面。
[0031]所述超表面还可以包括：改变所述LWIR线的幅度的另外的多个超图案。
[0032]所述第一编码掩模层和所述第二编码掩模层都可以包括相位调制编码掩模层。
[0033]所述第一编码掩模层和所述第二编码掩模层中的一个可以包括相位调制编码掩模层，并且所述第一编码掩模层和所述第二编码掩模层中的另一个可以包括幅度调制编码掩模层。
[0034]所述方法还可以包括：在所述第二表面上形成幅度调制编码掩模层。
[0035]所述窗口层可以包括硅层，并且所述第一编码掩模层可以包括多个非晶硅图案。
[0036]一种电子装置可以包括本公开的上述方面的成像系统，其中，所述成像系统被配置为生成物体的图像。
附图说明
[0037]根据以下结合附图进行的描述，本公开的某些实施例的以上和其他方面、特征和优点将更清楚，在附图中：
[0038]图1至图6是示出根据实施例的成像系统的截面图；
[0039]图7是示出图1至图6的成像系统的窗口组件中所包括的编码掩模层(超表面)的示例的平面图；
[0040]图8是沿图7的线8
‑8’
截取的截面图；
[0041]图9是示出图1至图6的成像系统的窗口组件中所包括的编码掩模层(超表面)的示例的平面图；
[0042]图10是沿图9的线10
‑
10
’
截取的截面图；
[0043]图11至图14是示出根据实施例的制造成像系统的方法的平面图/截面图；
[0044]图15是示出根据实施例的电子装置的框图；以及
[0045]图16是示出图15的电子装置中包括的相机模块的示意配置的框图。
具体实施方式
[0046]现在将详细参考实本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种窗口组件，包括：透明窗口层；以及第一编码掩模层，被设置在所述透明窗口层的第一表面上，所述第一编码掩模层具有第一形状，所述第一形状被配置为改变穿过所述窗口组件的光的第一性质。2.根据权利要求1所述的窗口组件，其中，所述第一编码掩模层包括：包括相位调制超图案的超表面。3.根据权利要求2所述的窗口组件，其中，所述超表面还包括幅度调制超图案。4.根据权利要求1所述的窗口组件，还包括：第二编码掩模层，被直接设置在所述透明窗口层的第二表面上，所述第二编码掩模层具有第二形状，所述第二形状被配置为改变穿过所述窗口组件的光的第二性质。5.根据权利要求4所述的窗口组件，其中，所述第一编码掩模层和所述第二编码掩模层都包括相位调制编码掩模层。6.根据权利要求5所述的窗口组件，其中，所述第一编码掩模层和所述第二编码掩模层中的每一个包括相应的多个相位调制超图案。7.根据权利要求4所述的窗口组件，其中，所述第一编码掩模层和所述第二编码掩模层中的一个包括相位调制编码掩模层，并且所述第一编码掩模层和所述第二编码掩模层中的另一个包括幅度调制编码掩模层。8.根据权利要求7所述的窗口组件，其中，所述相位调制编码掩模层包括多个相位调制超图案，并且所述幅度调制编码掩模层包括多个幅度调制超图案。9.根据权利要求1所述的窗口组件，还包括：滤光层和抗反射膜，顺序堆叠在所述透明窗口层的第二表面上，所述第二表面与所述第一表面相对。10.根据权利要求4所述的窗口组件，还包括：滤光层和抗反射膜，顺序堆叠在所述第二编码掩模层上。11.根据权利要求10所述的窗口组件，其中，所述第一编码掩模层和所述第二编码掩模层都包括相位调制编码掩模层，并且幅度调制编码掩模层还被设置在所述第二编码掩模层上。12.根据权利要求1所述的窗口组件，还包括：所述透明窗口层的第一表面与所述第一编码掩模层之间的光分离层。13.根据权利要求4所述的窗口组件，还包括：所述透明窗口层的第一表面与所述第一编码掩模层之间的光分离层。14.根据权利要求1所述的窗口组件，其中，所述透明窗口层对于长波红外LWIR线是透明的，并且所述第一编码掩模层包括改变所述LWIR线的相位的多个超图案，并且其中，所述多个超图案被配置为恢复穿过所述窗口组件的光中所包括的图像。15.根据权利要求4所述的窗口组件，其中，所述透明窗口层对于LWIR线是透明的，并且所述第一编码掩模层包括改变所述LW...
【专利技术属性】
技术研发人员：李斗铉，金镇明，宋炳权，梁有盛，李丙圭，
申请(专利权)人：三星电子株式会社，
类型：发明
国别省市：
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