一种适用于方形基片的洗胶边设备制造技术

本申请涉及基片旋涂设备技术领域，具体涉及一种适用于方形基片的洗胶边设备。包括旋转单元和点胶单元，还包括去胶边单元；旋转单元包括衬底吸附盘，衬底吸附盘的上表面中心处设置有真空开孔；衬底吸附盘的真空开孔通过旋转电机Ⅰ的中空轴与真空泵连通；衬底吸附盘外侧设置有多层环形挡胶板，挡胶板底部设有废液口；点胶单元包括胶筒和旋转点胶装置，胶筒固定在旋转点胶装置，过滤器卡接有点胶嘴；去胶边单元包括水平支撑杆和连接支撑环，连接支撑环固定在水平支撑杆上，接支撑环固定有去胶头；去胶头固定在连接支撑环上。本发明专利技术通过设置洗胶边、去胶边和背洗的设备，避免在压印过程中溢胶，提高产品良率。提高产品良率。提高产品良率。

【技术实现步骤摘要】
一种适用于方形基片的洗胶边设备


[0001]本申请涉及基片旋涂设备
，具体涉及一种适用于方形基片的洗胶边设备。

技术介绍

[0002]纳米压印技术(Nanoimprint Lithography，NIL)是一项成本低廉、分辨率高的光刻技术。纳米压印光刻作为一种全新的微纳米制造技术，较之现行的投影光刻和下一代光刻技术，具有高分辨率、超低成本和高生产率的特点。在纳米压印中，昂贵的光刻只需要用一次来制备印章，就可以大量生产复制品。
[0003]纳米压印技术是通过光刻胶辅助，将模板上的微纳结构转移到待加工材料上的技术。目前最常用的光刻胶涂覆方式是旋涂，旋涂是指在高速旋转的圆形基片上，滴注各类胶液，利用离心力使滴在圆形基片上的胶液均匀地涂覆在圆形基片上。随着半导体材料行业的发展，用于纳米压印行业的基片不仅仅只是圆形基片，还出现了方形基片。由于离心力的影响，常用圆形基片多为圆形，而在方形基片旋涂过程中会出现胶液旋涂不均匀的现象，符合解决方形基片上胶液不均是当前所要解决的问题。在进行压印的过程中很容易出现溢胶的现象，就要耗费人力物力进行清胶，容本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种适用于方形基片的洗胶边设备，包括旋转单元(1)和点胶单元(2)，其特征在于：所述设备还包括去胶边单元(3)；所述旋转单元(1)包括衬底吸附盘(13)，所述衬底吸附盘(13)的上表面中心处设置有真空开孔(131)，所述衬底吸附盘(13)的上表面还设有十字真空槽路(134)和环形真空槽路(132)；所述衬底吸附盘(13)下部设置有旋转电机Ⅰ(15)，所述旋转电机Ⅰ(15)设置有中空轴，所述真空开孔(131)将衬底吸附盘(13)打通，衬底吸附盘(13)上的真空开孔(131)通过旋转电机Ⅰ(15)的中空轴与真空泵(16)相连通；所述衬底吸附盘(13)外侧设置有多层环形挡胶板(11)，所述挡胶板(11)底部设有废液口(12)；所述点胶单元(2)包括胶筒(21)和旋转点胶装置(26)，所述胶筒(21)存放有纳米压印材料，所述胶筒(21)固定在旋转点胶装置(26)上，所述胶筒(21)出胶端设置有过滤器(23)，所述过滤器(23)连接有点胶嘴(22)；所述胶筒(21)中暂存的纳米压印材料经过过滤器(23)的过滤输入点胶嘴(22)点胶；所述去胶边单元(3)包括水平支撑杆Ⅱ(33)和连接支撑环(32)，所述连接支撑环(32)固定在水平支撑杆Ⅱ(33)上，所述连接支撑环(32)上固定有去胶头(31)；所述去胶边单元(3)还包括胶泵(391)和去边液桶(39)，所述胶泵(391)将去边液桶(39)内的去边液通过胶管(392)泵入去胶头(31)。2.根据权利要求1所述一种适用于方形基片的洗胶边设备，其特征在于：所述衬底吸附盘(13)底部设置有插销槽(133)，所述旋转电机Ⅰ(15)设有插销(14)，所述插销槽(133)与插销(14)卡接。3.根据权利要求1所述一种适用于方形基片的洗胶边设备，其特征在于：所述衬底吸附盘(13)底部设有至少三个顶针(17)，顶针(17)下方连接有顶针升降电机Ⅱ(18)。4.根据权利要求1所述一种适用于方形基片的洗胶边设备，其特征在于：所述废液口(12)向外连接有回收旋涂飞溅废液的废液回收桶(19)；废液回收桶(19)的底部设置有废液管路(192)，所述废液管路(192)的末端连接有废液排放阀门(191)。5.根据权利要求1所述一种适用于方形基片的洗胶边设备，其特征在于：所述旋转点胶装置(26)包...

【专利技术属性】
技术研发人员：冀然，彭华，
申请(专利权)人：青岛天仁微纳科技有限责任公司，
类型：发明
国别省市：