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本申请涉及基片旋涂设备技术领域，具体涉及一种适用于方形基片的洗胶边设备。包括旋转单元和点胶单元，还包括去胶边单元；旋转单元包括衬底吸附盘，衬底吸附盘的上表面中心处设置有真空开孔；衬底吸附盘的真空开孔通过旋转电机Ⅰ的中空轴与真空泵连通；衬底吸...
该专利属于青岛天仁微纳科技有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过青岛天仁微纳科技有限责任公司授权不得商用。

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