一种液相反应碳化硅陶瓷烧结炉制造技术

本实用新型专利技术公开了一种案液相反应碳化硅陶瓷烧结炉，包括烧结炉、悬挂流水线、电驱动系统、真空系统和冷却系统，所述烧结炉中设有石墨坩埚，所述真空系统与烧结炉炉膛连通，用于推动放置于烧结炉中的素坯可于真空状态下浸渍石墨坩埚内硅液发生反应烧结，所述悬挂流水线设于烧结炉内且与电驱动系统电性连接，由电驱动系统控制悬挂流水线于烧结炉内操作，所述悬挂流水线用于承载素坯，所述烧结炉内壁设有循环水管道一。本实用新型专利技术涉及陶瓷烧结设备技术领域，具体是提供了一种液相反应碳化硅陶瓷烧结炉有效解决了硅料数量及硅料位置不好把控的问题，促进了渗硅的均匀性，对提高产品成品率有很大帮助。品率有很大帮助。品率有很大帮助。

【技术实现步骤摘要】
一种液相反应碳化硅陶瓷烧结炉


[0001]本技术涉及陶瓷烧结设备
，具体是指一种液相反应碳化硅陶瓷烧结炉。

技术介绍

[0002]目前市场上反应烧结碳化硅陶瓷均采用真空烧结炉进行烧制，烧结前将所需硅料配料按比例搅拌好进行烘干，由人工称量并均匀分布在已压制完成的素坯上。随后进入真空烧结炉根据设定好的温度曲线进行素坯脱脂、硅液熔化和物质反应。
[0003]采用这种设备存在以下缺陷：
[0004]一是在准备工作中，需要大量人力将提前加工好的硅片、硅粒、硅粉均匀布置在素坯上，且花费时间多，生产效率低，数量不宜把控；
[0005]二是在烧制过程中，需要保持真空烧结炉的真空度，因此需要不间断的运转真空泵，产生能耗与资源浪费，且真空泵的运转会导致炉腔硅料的分散；
[0006]三是在烧制完成后，由于硅料数量把控不精细，导致产品渗硅不充分、不均匀或者表面形成大量残硅，需要打磨、碱煮等处理，造成环境污染。不利于产品的强度、硬度、抗氧化性、抗蠕变及热膨胀系数的提高。

技术实现思路

[0007]针对上述情况，为克服现有本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种液相反应碳化硅陶瓷烧结炉，其特征在于：包括烧结炉(1)、悬挂流水线(2)、电驱动系统(3)、真空系统(4)和冷却系统(5)，所述烧结炉(1)中设有石墨坩埚(10)，所述石墨坩埚(10)用于盛放硅液，所述真空系统(4)与烧结炉(1)炉膛(8)连通，所述悬挂流水线(2)设于烧结炉(1)内且与电驱动系统(3)电性连接，由电驱动系统(3)控制悬挂流水线(2)于烧结炉(1)内操作，所述悬挂流水线(2)用于承载素坯，所述烧结炉(1)内壁设有循环水管道一(25)，所述冷却系统(5)与循环水管道一(25)连通用于炉膛(8)烧结完成后的降温。2.根据权利要求1所述的一种液相反应碳化硅陶瓷烧结炉，其特征在于：所述烧结炉(1)包括底座(6)、炉壳(7)、炉膛(8)、炉门(9)、石墨坩埚(10)、电热装置(11)、控温表(12)和水表一(13)，所述炉壳(7)设于底座(6)上，所述炉膛(8)设于炉壳(7)内部，所述炉门(9)与炉壳(7)连接，所述石墨坩埚(10)设于炉膛(8)内部，所述电热装置(11)设于炉膛(8)内部，且均匀分布于石墨坩埚(10)四周，所述控温表(12)设于炉壳(7)外部并与电热装置(11)电性连接，所述水表一(13)设于炉壳(7)外部用于检测循环水管道一(25)内水压。3.根据权利要求1所述的一种液相反应碳化硅陶瓷烧结炉，其特征在于：所述悬挂流水线(2)包括传送丝杆(14)、连接板(15)、支架杆(16)和架体，所述连接板(15)和支架杆(16)固定在炉膛(...

【专利技术属性】
技术研发人员：董新保，刘福田，谢炎，任意，
申请(专利权)人：山东晶盾新材料科技有限公司，
类型：新型
国别省市：