【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
【技术保护点】
一种使用完全蚀刻的电磁干扰膜的ＰＤＰ滤光器，该滤光器通过电磁干扰膜与至少一种其它功能膜层压而形成，其中将所述电磁干扰膜的整个表面蚀刻以使由有效屏幕部分构成的区域扩大至所述电磁干扰膜的整个表面。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
【专利技术属性】
技术研发人员：李东郁，李渊槿，黄仁晳，金承旭，
申请(专利权)人：LG化学株式会社，
类型：发明
国别省市：KR
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