【技术实现步骤摘要】
本专利技术是关于在电·电子设备等中广泛使用的,具有在平滑平面的高分子薄膜上形成铜金属层的层压体,及其制造方法,进而关于适宜制造电路基板的。更详细地,是关于通过半导体添加法制造高密度印刷配线板,及其制造方法。本专利技术是关于使用半导体添加加工法得到的组合多层印刷配线板用的层压体、使用该层压体,使用该加工法制造的组合多层印刷配线板及其制造方法。更详细地,是关于在形成电路图形的配线板(内层电路板)的金属层上,使绝缘树脂层和形成电路图形的金属层依次形成层压的多层印刷配线板用的层间接合薄膜,使用该薄膜得到的组合多层印刷配线板,及其制造方法。
技术介绍
为了安装电子部件和半导体元件等,广泛使用在绝缘基板表面上形成电路的印刷配线板。随着近年来对电子设备小型化、高功能化的要求,对于印刷配线板也强烈希望电路的高密度化和薄型化。进而确立导线/线间的间距在25μm/25μm以下的形成细微电路的方法,是印刷配线板领域中最重要的课题。作为制造这样高密度印刷配线板的方法,研究了称作半导体添加法的方法,作为代表例,可按以下过程制造印刷配线板。粗化绝缘基板的表面,并给与钯化合物等电镀催化剂后, ...
【技术保护点】
在高分子薄膜的一个面上具有1000nm或以下厚度金属层A,在另一个面上具有粘接层的层压体。
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员:西中贤,下大迫宽司,伊藤卓,村上睦明,
申请(专利权)人:钟渊化学工业株式会社,
类型:发明
国别省市:JP[日本]
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。