一种光学偏振成像系统技术方案

本实用新型专利技术涉及一种光学偏振成像系统，包括基座、光阑、渥拉斯顿棱镜、半波片以及成像探测器，所述光阑、所述渥拉斯顿棱镜和所述成像探测器沿光路传播方向依次设置并均支撑于所述基座上，所述半波片活动设置在所述基座上，以使所述半波片位于或者离开所述渥拉斯顿棱镜和所述光阑之间的光路上。本实用新型专利技术计算得到的斯托克斯参量准确度也就更好。到的斯托克斯参量准确度也就更好。到的斯托克斯参量准确度也就更好。

【技术实现步骤摘要】
一种光学偏振成像系统


[0001]本技术涉及偏振透镜成像领域，特别是涉及一种光学偏振成像系统。

技术介绍

[0002]现阶段为了获得目标光线的斯托克斯参量，需要基于目标光线的至少四幅不同偏振角的图像。而不同偏振角的图像主要有分时偏振成像技术和同时偏振成像技术。其中，分时偏振成像技术是通过转动偏振片的方式获得不同偏振角的图像，不同时刻下偏振片的转动角度不同，因此整个测试过程偏振片至少要转动三次，测试时间较长，环境变量很容易导致获得的图像不准。而同时偏振成像技术是通过分光镜将光线分别照射至两个渥拉斯顿棱镜，以同时获得四个偏振角的图像，由于两个渥拉斯顿棱镜之间因为工艺和氧化等原因，很容易造成结构对称性下降，最终导致四个偏振角的实际值无法很好相互匹配，最终导致斯托克斯参量的数值不准确。

技术实现思路

[0003]基于此，有必要针对斯托克斯参量计算结果不准确的问题，提供一种光学偏振成像系统。
[0004]一种光学偏振成像系统，包括基座、光阑、渥拉斯顿棱镜、半波片以及成像探测器，所述光阑、所述渥拉斯顿棱镜和所述成像探测器沿光路传播方向依次设置并均支撑于所述基座上，所述半波片活动设置在所述基座上，以使所述半波片位于或者离开所述渥拉斯顿棱镜和所述光阑之间的光路上。
[0005]本技术所述基座上开设有容置槽，所述光学偏振成像系统还包括夹具，所述半波片安装在所述夹具上，所述夹具的底部活动设置在所述容置槽内，以使所述半波片进出于所述容置槽。
[0006]本技术所述容置槽的内壁和所述夹具的外壁之一设置有滑槽，另一个设置有滑动件，所述滑槽和所述滑动件配合，以对所述夹具的移动进行导向。
[0007]本技术所述容置槽的槽口处可拆式安装有封盖，所述封盖上开设有供所述半波片进行移动的避让口，当所述夹具位于所述容置槽内的部分与所述封盖的底面贴合的时候，所述夹具定位于所述封盖上。
[0008]本技术所述容置槽的内壁上设置有两条导轨，两条所述导轨和所述容置槽的内壁围拢形成所述滑槽，所述滑动件为滑块，所述导轨的一端位于所述容置槽的底壁上，所述导轨的另一端位于所述容置槽的槽口下方并对所述封盖进行支撑，以使所述封盖位于所述容置槽内，并使所述容置槽内壁对所述封盖进行限位。
[0009]本技术所述滑动件为第一磁吸件，所述封盖的底面设置有第二磁吸件，当所述第一磁吸件和所述第二磁吸件磁吸时，所述封盖对所述夹具进行定位。
[0010]本技术所述夹具包括底座、连杆和镜框，所述连杆的两端分别固定在所述底座和所述镜框的外壁上，所述半波片安装在所述镜框内，当所述半波片位于所述渥拉斯顿
棱镜和所述光阑之间的光路上时，所述镜框的一部分位于所述容置槽外侧。
[0011]本技术所述连杆的外壁上设置有压杆，当所述镜框位于所述避让口的上方时，所述压杆位于所述避让口的上方。
[0012]本技术所述光学偏振成像系统还包括望远透镜组、成像透镜组和滤光片，所述望远透镜组、所述光阑、所述成像透镜组、所述滤光片和所述渥拉斯顿棱镜沿光路传播方向依次设置，所述半波片位于或离开所述滤光片和所述渥拉斯顿棱镜之间的光路上。
[0013]本技术所述光学偏振成像系统还包括位于所述渥拉斯顿棱镜和所述成像探测器之间的会聚透镜。
[0014]本技术的有益效果为：
[0015]基于渥拉斯顿棱镜的特性，光线若直接经过渥拉斯顿棱镜后，会分别射出偏振角为0
°
和90
°
的偏振光，光线若通过半波片射向渥拉斯顿棱镜，则会分别射出45
°
和135
°
的偏振光，而上述偏振光的偏振角度变化，就是通过改变半波片的位置实现的。由于上述过程只需要改变一次半波片的位置，相对分时偏振成像技术转动三次半波片的方案而言，本技术的测试时间更短，环境变量的变化也就更小，偏振光图像也就更加准确。由于四个偏振角度对应的偏振光图像都是由同一个渥拉斯顿棱镜得到的，因此四个偏振角度对应的偏振光图像匹配度也相较于同时偏振成像技术中双渥拉斯顿棱镜的情况更好。因此，本技术计算得到的斯托克斯参量准确度也就更好。
附图说明
[0016]图1为本技术实施例的光学偏振成像系统的光路图一；
[0017]图2为本技术实施例的光学偏振成像系统的光路图二；
[0018]图3为本技术实施例的基座的俯视结构示意图；
[0019]图4为本技术实施例的夹具的主视结构示意图。
具体实施方式
[0020]为使本技术的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本技术的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本技术。但是本技术能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本技术内涵的情况下做类似改进，因此本技术不受下面公开的具体实施例的限制。
[0021]在本技术的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。
[0022]此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本技术的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两
个，三个等，除非另有明确具体的限定。
[0023]在本技术中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。
[0024]在本技术中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
[0025]需要说明的是，当元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光学偏振成像系统，其特征在于，包括基座、光阑、渥拉斯顿棱镜、半波片以及成像探测器，所述光阑、所述渥拉斯顿棱镜和所述成像探测器沿光路传播方向依次设置并均支撑于所述基座上，所述半波片活动设置在所述基座上，以使所述半波片位于或者离开所述渥拉斯顿棱镜和所述光阑之间的光路上。2.根据权利要求1所述的光学偏振成像系统，其特征在于，所述基座上开设有容置槽，所述光学偏振成像系统还包括夹具，所述半波片安装在所述夹具上，所述夹具的底部活动设置在所述容置槽内，以使所述半波片进出于所述容置槽。3.根据权利要求2所述的光学偏振成像系统，其特征在于，所述容置槽的内壁和所述夹具的外壁之一设置有滑槽，另一个设置有滑动件，所述滑槽和所述滑动件配合，以对所述夹具的移动进行导向。4.根据权利要求3所述的光学偏振成像系统，其特征在于，所述容置槽的槽口处可拆式安装有封盖，所述封盖上开设有供所述半波片进行移动的避让口，当所述夹具位于所述容置槽内的部分与所述封盖的底面贴合的时候，所述夹具定位于所述封盖上。5.根据权利要求4所述的光学偏振成像系统，其特征在于，所述容置槽的内壁上设置有两条导轨，两条所述导轨和所述容置槽的内壁围拢形成所述滑槽，所述滑动件为滑块，所述导轨的一端位于所述容置槽的底壁上，所述导轨的另一端位于所述容置槽的槽口下方并对所述封盖进行支撑，以使所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：张思旗，刘泉，李博，杨絮，
申请(专利权)人：长春理工大学，
类型：新型
国别省市：