本发明专利技术提供了一种等离子体显示器（ＰＤＰ）的滤光板，包括玻璃基片，采用真空连续磁控溅射的方法在玻璃基片的一面镀有减反射增透导电膜系，减反射增透导电膜系是由以银或银合金为导电基础膜层、在银或银合金导电基础膜层两面对称有低折射率透明金属氧化物膜层Ｍｅｌ、在低折射率透明金属氧化物膜层两面对称有高折射率透明金属氧化物膜层Ｍｅｈ而形成Ｍｅｈ／Ｍｅｌ／银或银合金／Ｍｅｌ／Ｍｅｈ／的５层膜组成的，这５层膜经过３次或４次重叠而形成在玻璃基片上的１３层或１７层镀膜层，镀膜层上有塑料膜层，与镀膜层接触的作为引出电极的金属薄膜及树脂层。本发明专利技术滤光板能大大降低成本，生产效率高，强度高，透光率高，防电磁辐射和滤光效果佳，使用寿命长。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术与显示器件中的滤光板有关，特别与等离子体显示器(PDP)中的具有 防电磁辐射及滤光功能的滤光板有关，与采用滤光板的等离子显示装置有关。技术背景-目前的PDP滤光板的抗反射和防电磁辐射及滤光功能是这样形成的在一片玻 璃的外表面粘贴镀有或沉积有抗反射膜层的塑料膜片，在另一面粘贴由二层塑料形 成的防电磁辐射和滤光功能的膜片，其中一层是采用光刻蚀法或金属丝网布线方法 在膜片上制成金属导电网格形成防电磁辐射功能，在这层具有金属线或金属丝网格 的膜上采用刷涂颜料膜形成膜层或用红外光光衰减塑料膜粘贴的方法，由这两层膜 形成防电磁辐射及滤光的功能。因为叠层层压复合的方法，各种功能膜在各种膜片 上，贴合工艺和复合工艺要求高，不易机械化连续生产，成本高，成品率低，生产 效率低，透光率低。还有公开号CN1509490A的专利文献名称为等离子体显示板滤光片公开了在透 明基片上层压和叠层各种抗反射(AR)膜，近红外(NIR)屏蔽膜和电磁干扰(EMI) 屏蔽膜，这功能性膜是滤光板需要的关键性膜，他们是分别镀膜在塑料基材或塑料 膜上，再按功能需要一层一层的层压和叠层在透明基片上，透明基片是由至少两个 薄膜层和至少一个置于树脂层之间的粘结剂层的叠压而成的。这种分别镀膜，再层压的成形制作方法，仍然与前述方法没有实质进步，仍然 效率低、成品率低、成本高。特别是多层次的叠层层压，叠层之间的气泡和粘结剂 可能存在的溶剂的残余挥发物，使成品率大为降低。还有专利申请号200410069275.7的专利文献，名称为叠层体及使用该叠层体的 显示器用滤光器公开了在滤光器最需要的关键功能膜电磁干扰(EMI)的屏蔽膜中 如何解决EMI屏蔽膜中银膜层的抗氧化或侵蚀问题，在文献中将侵蚀称为银薄膜层 的银原子的凝聚,侵蚀的表现为银薄膜层产生"白点"，文献讲在抗电磁干扰的关键 薄膜层银薄膜层上为增透而必须具有的透明高折射率的薄膜上也即在三层银薄膜 层的最表面层上增加一保护层，该保护层是由高分子物的粘合剂材料和无机微粒子 组成，无机微粒子是采用金属氧化物如其推荐的二氧化硅、氧化锡、氧化锌、氧化铟、三氧化二锑、氧化铝、氧化锆等，更特别优先选择氧化锑一氧化锡复合氧化物， 氧化锑一氧化锌复合氧化物，粘和剂和无机微粒子是通过溶剂或溶液溶解粘合剂， 并分散无机微粒子，用涂布法涂在有银薄膜层和增透高折射率薄膜层组成的膜层 上，实际上是涂在高折射率薄膜层上，而最终形成保护层，文献称对形成"白点" 有明显惊奇的抑制作用。这种利用溶剂或溶液涂布形成的金属氧化物与粘结剂组合 的薄膜层，就工艺过程讲涉及环保问题和污染，薄膜的厚度和可见光透过率不易控 制.，且在生产线上无法检测产品合格率，不能控制且合格率低，膜层牢度不够，且 膜层最表面、在保护层面上测表面电阻率，因有高分子树脂参与组合，表面电阻率 反而比不增加该保护层更高，使EMI屏蔽功能下降，降低了三层银的EMI屏蔽能 力。该文献讲到了抑制对银薄膜层侵蚀或称减少"白点"的控制办法，但由于只采 用在三层银结构薄膜层的最表面层的透明高折射率薄膜层上涂该层保护层，对EMI 屏蔽膜的效果还不够，表面电阻率最好只能达2.2Q/口，还达不到家用电器小于1.5 Q/口的标准，文献没有方法或方案在每层银薄膜层与透明高折射率薄膜层之间分为 三层(若是四层银薄膜层结构应有四层)之间增加透明的低折射率的金属氧化物薄 膜层的报道或提示，更没有提示利用连续磁控溅射方法来镀这三层或四层透明的低 折射率的金属氧化物如ITO (铟锡氧化物)或AZO (铝、锌氧化物)或Sn02或ZnO 或NiCrOX薄膜与透明高折射率金属氧化物薄膜针对银的薄膜结合来形成减反射增 透膜系，也没有利用此设计来提高可见光透光率，提高镀膜层抗氧化抗侵蚀能力及 提高EMI屏蔽能力，也即降低其表面电阻率、提高透光率、同时对近红外光、紫红 外光阻挡起滤光功能的报道和提示。还有专利申请号01804419.0的专利文献，该专利技术方案与本专利技术最为接近， 该专利公开了一种显示器滤光板，这种滤光板是在高分子薄膜(B)的一面或两面 上层积透明导电层(D)，透明导电层是将高折射率透明薄膜层(Dt)和金属薄膜层 (DM)的组合(Dt) / (DM)作为重复单元，反复2—4次进行层积，再在其上层 积高折射率透明薄膜层(Dt)而构成，也公开了该高折射率透明薄膜层(Dt)中的 至少一层由以铟、锡和锌的一种以上为主要成分的氧化物形成，也公开了多个金属 薄膜层(DM)中的至少一层由银或银合金形成，也公开了在高分子薄膜(B)的靠 近空气侧也即观看面制有单层减反射膜层的方案，也公开透明导电层(D)具有0.01 一30Q/口的表面电阻，但实际上公开的层积的Dt/DM薄膜的2—4次重复的膜即使 是7层膜，只要是采用镀膜层积的方式形成透明导电薄膜，其表面电阻都在2.2Q/ 口以上，多数在5Q/口以上，达不到家用电视低于1.5Q/口的标准，实际上是无法 投入使用的。即使按其专利公开的方法能够使用，实际上该所谓的透明导电层(D) 仍然是采用的前面几个专利公开的刻蚀复合的铜板或釆用金属丝布网方法形成的 EMI干扰波屏蔽网，该层网并不同时具备吸收或阻挡紫外光、近红外光的功能。该 专利公开的方案是专用于粘贴在显示器荧光屏上的高分子薄膜，该专利没有公开和 启示以银为导电基础膜层，在其两面对称镀上低折射率的金属氧化物和高折射率的 金属氧化物膜层，形成5层膜层的减反增透膜系设计和方案，并经3至4次的重叠 镀膜形成13层或17层的以银或银合金为基础的透明导电膜系，来实现L5Q/口的 表面电阻及对紫外光、近红外光的滤光功能，也没有公开和提示利用在银层上层积 的这些透明的金属氧化物膜层自身防氧化能力的稳定性来增加对银层的保护，同时 利用这些膜是纳米级薄膜对紫外光和近红外光波有特殊吸收和反射能力，多层膜层 组合后共同提高紫外光、近红外光的吸收和阻挡能力，该专利也没有公开以这些镀 膜层及其对紫外光、近红外光的屏蔽能力及光学特性，结合滤光板具备有机涂层或 膜层中的对596mn氖气辉光发出黄色特征光有吸收能力的染料的光学特性，组合起 来实现等离子显示器的滤光功能，使绿色和红色都鲜艳，提高显示器的色彩性能和 光学性能。
技术实现思路
本专利技术的目的是为了克服以上不足，采用可大面积连续的磁控溅射镀膜的方 法，提供一种能大大降低成本，生产效率高，强度高，透光率高，防电磁辐射和滤 光效果佳，等离子显示器红色和绿色更鲜艳，使用寿命长的，具有防电磁福射及滤 光功能的滤光板。本专利技术的另一个目的是为了提供一种用该滤光板的等离子显示 器。本专利技术的目的是这样实现的本专利技术等离子体显示器(PDP)的滤光板，包括玻璃基片，采用真空连续磁控 溅射的方法在玻璃基片的一面镀有减反射增透导电膜系，减反射增透导电膜系是由 以银或银合金为导电基础膜层、在银或银合金导电基础膜层两面对称有低折射率透明金属氧化物膜层Mel、在低折射率透明金属氧化物膜层两面对称有高折射率透明 金属氧化物膜层Meh而形成Meh/Mel/银/Mel/Meh或Meh/Mel/银合金/Mel/Meh的5 层膜组成的，这5层膜经过3次或4次重叠而形成在玻璃基片上的13层或17层镀 膜层，它们是镀在玻璃基片的一本文档来自技高网...
【技术保护点】
等离子体显示器的滤光板，其特征在于包括玻璃基片，采用真空连续磁控溅射的方法在玻璃基片的一面镀有减反射增透导电膜系，减反射增透导电膜系是由以银或银合金为导电基础膜层、在银或银合金导电基础膜层两面对称有低折射率透明金属氧化物膜层Ｍｅｌ、在低折射率透明金属氧化物膜层两面对称有高折射率透明金属氧化物膜层Ｍｅｈ而形成Ｍｅｈ／Ｍｅｌ／银／Ｍｅｌ／Ｍｅｈ或Ｍｅｈ／Ｍｅｌ／银合金／Ｍｅｌ／Ｍｅｈ的５层膜组成的，这５层膜经过３次或４次重叠而形成在玻璃基片上的１３层或１７层镀膜层，它们是镀在玻璃基片一面上的第一层Ｍｅｈ、第二层Ｍｅｌ、第三层银或银合金、第四层Ｍｅｌ、第五层Ｍｅｈ、第六层Ｍｅｌ、第七层银或银合金、第八层Ｍｅｌ、第九层Ｍｅｈ、第十层Ｍｅｌ、第十一层银或银合金、第十二层Ｍｅｌ、第十三层Ｍｅｈ的１３层镀膜层或者镀在玻璃基片一面上的第一层Ｍｅｈ、第二层Ｍｅｌ、第三层银或银合金、第四层Ｍｅｌ、第五层Ｍｅｈ、第六层Ｍｅｌ、第七层银或银合金、第八层Ｍｅｌ、第九层Ｍｅｈ、第十层Ｍｅｌ、第十一层银或银合金、第十二层Ｍｅｌ、第十三层Ｍｅｈ、第十四层Ｍｅｌ、第十五层银或银合金、第十六层Ｍｅｌ、第十七Ｍｅｈ的１７层镀膜层，该镀膜层具有低于２Ω／□的表面电阻，镀膜层上复合有阻止镀膜层氧化或侵蚀的塑料膜层，有与镀膜层接触的作为引出电极的金属薄膜，该滤光板有吸收等离子显示器的氖气辉光发出的５９６ｎｍ的黄色特征光的染料及调色染料的树脂层，该玻璃基片上的镀膜层的光学特性与含有染料的树脂层的光学特性组合后，使滤光板可见光波长为３８０－７８０ｎｍ时的透过率为２５％至６５％，紫外光波长为３８０ｎｍ以下时的透过率低于１５％，近红外光波长为８５０ｎｍ以上时的透过率低于１５％，光波长５６０ｎｍ至６１５ｎｍ处有最大黄光吸收波谷。...
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：甘国工，
申请(专利权)人：甘国工，
类型：发明
国别省市：90[中国|成都]
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