【技术实现步骤摘要】
一种高效高质量低损伤液膜剪切抛光新方法
[0001]本专利技术涉及超精密抛光
，具体涉及一种高效高质量低损伤液膜剪切抛光新方法，适用于多晶硬脆材料的高效高质量超精密抛光。
技术介绍
[0002]超精密加工是适应现代高新技术需要而发展起来的先进制造技术，是提高产品性能、质量、工作寿命和可靠性的主要途径，对尖端技术和国防工业的发展具有重要影响。目前，该技术已广泛应用于国防工业、航空航天、集成电路、信息技术、半导体等行业，已成为国家科学技术发展水平的重要标志。
[0003]现阶段，为了提升工件及装备的使用性能和服役寿命，对于工件的加工精度要求越来越高，有的元器件甚至要求加工精度达到纳米级或更高。接触式抛光是目前较为常用的加工方法，主要依靠磨粒与被加工表面的直接接触和摩擦来获得超光滑表面。虽然接触式抛光能够获得较大的去除率和较好的表面粗糙度，但直接接触容易划伤加工表面，导致加工变质层和亚表损伤层的形成，同时会不可避免的带入位错、空位、微裂纹等缺陷，影响材料的使用性能和寿命。
[0004]非接触抛光是指抛光时工件...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种高效高质量低损伤液膜剪切抛光新方法，其特征在于，包括如下步骤：1)以非牛顿流体作为基液配制抛光液，将磨粒分散在非牛顿流体中，并加入活性剂；抛光液包括2～15wt.％的活性剂、10～50wt.％的磨料和50～90wt.％的基液，磨料的粒径范围为0.05～50μm；2)将工件安装于夹具上，工件位置与抛光盘上设计好的位置相对应，抛光盘包括平行区域及凹槽区域，且平行区域与凹槽区域在抛光盘表面交替设置；3)在抛光盘平行区域与工件表面之间设置1～5mm的加工间隙，并将工件表面完全浸没在抛光液中；4)采用非牛顿流体抛光液对工件进行抛光，利用抛光盘的旋转运动在其与工件之间产生具有高速剪切作用的非牛顿流体液膜，形成液膜剪切效应；同时表面结构化抛光盘的界面约束作用下，强化流体的液膜剪切效应，磨粒近似水平冲击工件表面粗糙峰。2.根据权利要求1所述的一种高效高质量低损伤液膜剪切抛光新方法，其特征在于，所述抛光盘的凹槽区域有四种不同结构，分别为楔形槽、L形槽、上抛物线形槽或下抛物线形槽，且从抛光盘内圆端到外圆端凹槽区域和平面区域分...
【专利技术属性】
技术研发人员：陈泓谕，王林，吕冰海，袁巨龙，杭伟，
申请(专利权)人：浙江工业大学，
类型：发明
国别省市：
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