磁头的表面改性制造技术

在等离子体中改性施于基体上的诸层的最外原子层的方法，该方法能在基体上产生以共价键固定结合的ＣＦ↓［３］基团。本发明专利技术不涉及有限定厚度的层的应用，而是对表面进行调整以预定所要求的吸附和滑移性能。在最小化学改变的同时发生了物理参数的最大改变。（*该技术在2017年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术的问题涉及普通磁盘驱动器(硬磁盘)以及特别是磁盘和磁头的排列。本专利技术特别涉及磁头的表面改性。磁盘是容量极大的数据存储器。在一约95mm大小的磁盘上可以存储将近4亿个字符(字节)。磁盘除了有高的存储密度外，还须有准确的机械和摩擦学特性。在近期的应用中，磁盘的运动速度接近5400转/分。这就是说磁盘外周的速度高达100km/h，其中写/读头距磁盘表面仅有万分之几毫米。只有最精确的制造和统计学工艺控制才能达到这些质量要求。自从生产出有低悬的磁头的硬磁盘驱动器以来，这些硬磁盘配有滑润剂以防止摩擦、磨损和损坏(摩擦学效应)。滑润剂(一般是直链或支化的全氟化聚醚)首先施于磁盘上，以确保均匀的表面分布。这种配置从例如DE-AS-2839378和EP-A-0123707得知。其它的体系基于一个选择性蒸汽压储存器，其中在驱动器中导入了附加的可汽化滑润剂，以便使其从汽相凝结到临界区上。如果现在将磁头用于用此方式润滑的磁盘并启动驱动器，则磁头通过从磁盘到磁头的分子转移被磁盘外层上的滑润剂“污染”，这样便得到了一层滑润剂。在硬盘界面的这种磁头和磁盘配置中，通过的空气流也遇到两个氟化表面。本文档来自技高网...

【技术保护点】
在等离子体室中改性基体上诸层的外原子层的方法，其特征在于从根本上决定等离子体室工作方法的参数，即压力、气体组成和ＲＦ发生器输出互相匹配，因而等离子体室在蚀刻和气相淀积间的平衡状态下工作；气体组成中含至少一种能从化学／物理上活化基体表面的气体和至少一种带有在等离子体中是反应性的并能与该活化表面化学键合的组分的气体。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：H希尔杰斯，P乔里斯，M斯特劳伯，
申请(专利权)人：国际商业机器公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]