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在等离子体中改性施于基体上的诸层的最外原子层的方法，该方法能在基体上产生以共价键固定结合的ＣＦ↓［３］基团。本发明不涉及有限定厚度的层的应用，而是对表面进行调整以预定所要求的吸附和滑移性能。在最小化学改变的同时发生了物理参数的最大改变。...
该专利属于国际商业机器公司所有，仅供学习研究参考，未经过国际商业机器公司授权不得商用。

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