一种化学气相淀积装置及其调节方法制造方法及图纸

技术编号:37183540 阅读:10 留言:0更新日期:2023-04-20 22:48
本发明专利技术提供一种化学气相淀积装置及其调节方法,涉及化学气相淀积领域。该基于化学气相淀积装置,包括底座和工作台,所述底座的上方固定连接有工作台,所述工作台的上方中部固定连接有淀积室,所述工作台的上方一端固定连接有第一原料室,所述工作台的上方远离第一原料室的一端固定连接有第二原料室,所述工作台的上方靠近第二原料室的一端固定连接有控制台,所述淀积室的两端中部均固定连接有保温管,两个所述保温管的中部均设置有控制阀。通过在淀积室设置对称的原料室进行原料气供应,加速原料气的扩散效率,提高了原料气的供应均匀度,便于后续激光辅助淀积,提高了加工效率。提高了加工效率。提高了加工效率。

【技术实现步骤摘要】
一种化学气相淀积装置及其调节方法


[0001]本专利技术涉及化学气相淀积
,具体为一种化学气相淀积装置及其调节方法。

技术介绍

[0002]化学气相沉积是利用气态或蒸汽态的物质在气相或气固界面上发生反应生成固态沉积物的过程;二硫化钼是由天然钼精矿粉经化学提纯后改变分子结构而制成的固体粉剂,是重要的固体润滑剂,特别适用于高温高压下,它还有抗磁性,可用作线性光电导体和显示P型或N型导电性能的半导体,具有整流和换能的作用,它也被誉为“高级固体润滑油王”,本品色黑稍带银灰色,有金属光泽,触之有滑腻感,不溶于水,产品可添加在各种油脂里,形成绝不粘结的胶体状态,能增加油脂的润滑性和极压性,也适用于高温、高压、高转速高负荷的机械工作状态,延长设备寿命,二硫化钼薄膜一般是由化学气相淀积制备而成。
[0003]现有的化学气相淀积技术,一般只能进行单次衬底镀膜,加工效率较低,无法进行中途调节,多将两种原料加热后直接输送至加热炉内部进行反应,沉积过程中,二硫化钼沉积均匀度不佳,且无法对反应废气进行中和处理,直接排放污染生态环境,使用环保性不佳,具有进一步的改进空间。

技术实现思路

[0004](一)解决的技术问题
[0005]针对现有技术的不足,本专利技术提供了一种化学气相淀积装置及其调节方法,解决了上述
技术介绍
的问题。
[0006](二)技术方案
[0007]为实现以上目的,本专利技术通过以下技术方案予以实现:一种化学气相淀积装置,包括底座和工作台,所述底座的上方固定连接有工作台,所述工作台的上方中部固定连接有淀积室,所述工作台的上方一端固定连接有第一原料室,所述工作台的上方远离第一原料室的一端固定连接有第二原料室,所述工作台的上方靠近第二原料室的一端固定连接有控制台,所述淀积室的两端中部均固定连接有保温管,两个所述保温管的中部均设置有控制阀;
[0008]所述淀积室一面中部设置有紧闭机构,所述淀积室内部两侧与紧闭机构相对应的位置处均固定连接有限位座,两个所述限位座的内侧滑动连接有反应台,所述反应台靠近紧闭机构的一侧穿过淀积室固定连接有密封板,所述反应台的内部阵列固定镶嵌连接有多个金属加热板,所述金属加热板的上方均设置有石英舟,所述淀积室的下方中部固定连接有升降座,所述升降座的输出端固定连接有加热台,所述淀积室的内部上方两侧均固定连接有调节平台,两个所述调节平台的下方均设置有激光器,所述淀积室远离紧闭机构的一面与两个调节平台相对应的位置处均设置有传导光纤,所述底座的内部两侧均固定连接有激光发生器;
[0009]所述第一原料室和第二原料室的内部与保温管相对应的位置处均固定连接有加热炉,两个所述加热炉的上方均固定连接有原料罐,两个所述原料罐远离加热炉的一端均设置有机械泵,两个所述机械泵的进气口处均通过管道固定连通有氩气瓶;
[0010]所述淀积室的顶部固定连接有布气座,所述布气座的顶部固定连接有保护气管道,所述底座的内部的中部固定连接有保护气瓶,所述淀积室的下方两侧均固定连接有负压管道,两个所述负压管道的下方均穿过工作台固定连通有负压泵,两个所述负压泵的出气口均通过管道固定连通有废气处理室。
[0011]优选的,所述紧闭机构包括两个上滑座、两个下滑座、滑动板、旋紧器、同步齿轮座和齿条板,两个所述上滑座和两个下滑座均与淀积室固定连接,且分别固定于密封板的两侧上方和两侧下方位置,所述淀积室的两侧通过两个上滑座和两个下滑座滑动连接有两个滑动板,两个所述滑动板的中部均螺纹连接有旋紧器,所述淀积室在密封板的下方中部的位置处固定连接有同步齿轮座,所述同步齿轮座的内部转动连接有同步齿轮,所述同步齿轮靠近淀积室和远离淀积室的一侧均啮合有齿条板,两个所述齿条板远离同步齿轮的一端均穿过相对应的下滑座与相对应的滑动板固定连接。
[0012]优选的,所述加热台的上方与多个金属加热板相对应的位置处均设置有相对应的电磁加热线圈。
[0013]优选的,两个所述原料罐远离机械泵的一端均通过保温管与淀积室连通,两个所述保温管穿过淀积室的一端上方均设置有温度传感器。
[0014]优选的,所述保护气瓶的上方设置有缓压阀和截止阀,所述保护气管道远离布气座的一端与截止阀固定连通,所述布气座通过保护气管道与保护气瓶相联通,所述保护气瓶的内部保护气体为氮气。
[0015]优选的,所述废气处理室的内部设置有过滤器和碱性吸收池。
[0016]优选的,所述淀积室的内部上方一侧设置有气压传感器。
[0017]优选的,一种化学气相淀积装置的调节方法,具体方法步骤为:
[0018]S1.在石英舟内铺设三氧化钼粉末,通过清理工序将衬底清理干净后,将衬底放入石英舟内,拧开密封板外两侧的旋紧器,将两个滑动板移至两侧,拉出反应台;
[0019]S2.将多个放入衬底的石英舟放置于相对应的金属加热板之上,通过密封板上的把手将反应台推入淀积室内,再通过拉回滑动板,将两侧旋紧器拧紧,确保密封板与淀积室密封;
[0020]S3.通过控制台的控制,利用负压泵和负压管道对淀积室进行抽真空,并在抽真空之后,通过保护气管道和布气座对淀积室注入保护气氛,重复两次,确保排出淀积室的内部空气,然后通过保护气氛恢复淀积室内部常压;
[0021]S4.在进行气相淀积时,首先通过升降座将加热台升至反应台底部,根据放置的石英舟的数量和位置开启相对应的加热线圈,通过电磁涡流加热石英舟;
[0022]S5.两侧原料罐内的硫粉通过加热炉进行升华,再通过氩气载流输送至淀积室内;
[0023]S6.控制台通过对调节平台和激光发生器的控制,通过改变激光功率大小、方向和范围的方式,对相对应的衬底进行激光辅助淀积镀膜,同时,通过真空泵和布气座的工作保证内部常压;
[0024]S7.淀积镀膜完成后,等待衬底常温,打开紧闭机构,抽出反应台取回衬底即可。
[0025](三)有益效果
[0026]本专利技术提供了一种化学气相淀积装置及其调节方法。具备以下有益效果:
[0027]1、本专利技术通过在淀积室设置对称的原料室进行原料气供应,加速原料气的扩散效率,提高了原料气的供应均匀度,便于后续激光辅助淀积,提高了加工效率。
[0028]2、本专利技术设置有废气处理室,配合负压泵可对内部未处理的原料气和反应废气进行处理,避免了直接排放污染生态环境,减少了后续污染,提高了环保性,加强了本专利技术的实用性。
[0029]3、本专利技术的可根据实际情况灵活调节加工数量,并通过激光脉冲对局部的反应速率进行调节,改善沉积均匀度,加强了本专利技术的实用性。
附图说明
[0030]图1为本专利技术的左侧立体结构示意图;
[0031]图2为本专利技术的右侧立体结构示意图;
[0032]图3为本专利技术的背面立体结构示意图;
[0033]图4为本专利技术的正面结构示意图;
[0034]图5为本专利技术的内部结构示意图;
[0035]其中,1、底座;2、工作台;3、淀积室;4、第一原料室;5本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种化学气相淀积装置,包括底座(1)和工作台(2),其特征在于:所述底座(1)的上方固定连接有工作台(2),所述工作台(2)的上方中部固定连接有淀积室(3),所述工作台(2)的上方一端固定连接有第一原料室(4),所述工作台(2)的上方远离第一原料室(4)的一端固定连接有第二原料室(5),所述工作台(2)的上方靠近第二原料室(5)的一端固定连接有控制台(6),所述淀积室(3)的两端中部均固定连接有保温管(7),两个所述保温管(7)的中部均设置有控制阀(8);所述淀积室(3)一面中部设置有紧闭机构(9),所述淀积室(3)内部两侧与紧闭机构(9)相对应的位置处均固定连接有限位座(21),两个所述限位座(21)的内侧滑动连接有反应台(11),所述反应台(11)靠近紧闭机构(9)的一侧穿过淀积室(3)固定连接有密封板(10),所述反应台(11)的内部阵列固定镶嵌连接有多个金属加热板(12),所述金属加热板(12)的上方均设置有石英舟(13),所述淀积室(3)的下方中部固定连接有升降座(14),所述升降座(14)的输出端固定连接有加热台(15),所述淀积室(3)的内部上方两侧均固定连接有调节平台(26),两个所述调节平台(26)的下方均设置有激光器(27),所述淀积室(3)远离紧闭机构(9)的一面与两个调节平台(26)相对应的位置处均设置有传导光纤(28),所述底座(1)的内部两侧均固定连接有激光发生器(29);所述第一原料室(4)和第二原料室(5)的内部与保温管(7)相对应的位置处均固定连接有加热炉(24),两个所述加热炉(24)的上方均固定连接有原料罐(25),两个所述原料罐(25)远离加热炉(24)的一端均设置有机械泵(23),两个所述机械泵(23)的进气口处均通过管道固定连通有氩气瓶(22);所述淀积室(3)的顶部固定连接有布气座(16),所述布气座(16)的顶部固定连接有保护气管道(17),所述底座(1)的内部的中部固定连接有保护气瓶(30),所述淀积室(3)的下方两侧均固定连接有负压管道(18),两个所述负压管道(18)的下方均穿过工作台(2)固定连通有负压泵(19),两个所述负压泵(19)的出气口均通过管道固定连通有废气处理室(31)。2.根据权利要求1所述的一种化学气相淀积装置,其特征在于:所述紧闭机构(9)包括两个上滑座(901)、两个下滑座(902)、滑动板(903)、旋紧器(904)、同步齿轮座(905)和齿条板(906),两个所述上滑座(901)和两个下滑座(902)均与淀积室(3)固定连接,且分别固定于密封板(10)的两侧上方和两侧下方位置,所述淀积室(3)的两侧通过两个上滑座(901)和两个下滑座(902)滑动连接有两个滑动板(903),两个所述滑动板(9...

【专利技术属性】
技术研发人员:任斌王乃雷刘军贤
申请(专利权)人:江苏籽硕科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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