一种纳米薄膜成形机制造技术

本实用新型专利技术公开了一种纳米薄膜成形机，其包括：底座、箱体和真空泵Ⅰ，所述箱体内顶部固定连接有升降杆，所述升降杆一端固定连接有正极板，所述正极板下方固定连接有真空吸盘，所述真空吸盘下方吸附有镀膜板，所述箱体内侧壁两边固定连接有离子源，所述箱体内底部固定连接有三块磁块，三块所述磁块按照N端、S端和N端朝向依次摆放，所述磁块上方固定连接有水冷板，所述水冷板上方设有负极板，所述负极板上设有靶材，所述水冷板下方设有进水口和出水口，所述箱体外侧固定连接有真空装置。通过上述结构，在镀膜板和靶材之间增加一个电磁场，增加成膜速度，在靶材下方设置冷却装置降温可长时间工作。长时间工作。长时间工作。

【技术实现步骤摘要】
一种纳米薄膜成形机


[0001]本技术涉及镀膜
，特别涉及一种纳米薄膜成形机。

技术介绍

[0002]在申请专利时经检索发现专利号为CN213577525U的中国专利：一种纳米薄膜成形机，包括箱体和真空泵，通过抽空箱体内空气，用离子束撞击靶材溅射镀膜，但是其成膜速度缓慢，靶材撞击后温度升高不能长时间工作，固定原料板的磁块产生磁场影响镀膜效率，因此需要改进。

技术实现思路

[0003]针对现有技术的不足，本技术提供了一种纳米薄膜成形机，解决了成膜速度慢，不可控和靶材温度过高的问题。
[0004]本技术还提供具有上述一种纳米薄膜成形机，包括：底座、箱体和真空泵Ⅰ，所述箱体内顶部固定连接有升降杆，所述升降杆一端固定连接有正极板，所述正极板下方固定连接有真空吸盘，所述真空吸盘下方吸附有镀膜板，所述箱体内侧壁两边固定连接有离子源，所述箱体内底部固定连接有三块磁块，三块所述磁块按照N端、S端和N端朝向依次摆放，所述磁块上方固定连接有水冷板，所述水冷板上方设有负极板，所述负极板上设有靶材，所述水冷板下方设有进水口和出水口，所述箱体外侧固定连接有空气管道Ⅰ，所述空气管道Ⅰ另一端固定连接过滤箱，所述过滤箱另一侧固定连接有空气管道Ⅱ，所述空气管道Ⅱ另一端固定连接有真空泵Ⅰ。
[0005]根据所述的一种纳米薄膜成形机，所述箱体前方设有箱门。
[0006]根据所述的一种纳米薄膜成形机，所述正极板接地连接。
[0007]根据所述的一种纳米薄膜成形机，所述箱体顶部固定连接有真空泵Ⅱ，所述真空泵Ⅱ通过空气管道固定连接真空吸盘。
[0008]根据所述的一种纳米薄膜成形机，所述进水口和出水口外接水管。
[0009]根据所述的一种纳米薄膜成形机，所述过滤箱内设有过滤网。
[0010]本技术具有如下有益效果：
[0011]1、本技术中，通过在镀膜板和靶材之间安装电磁场，较之前相比增加了成膜的速率。
[0012]2、本技术中，通过在镀膜板上方安装升降杆，较之前相比可控制成膜的时间。
[0013]3、本技术中，通过在靶材下方安装冷却装置，较之前相比能够使靶材长时间工作。
[0014]本技术的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本技术的实践了解到。
附图说明
[0015]下面结合附图和实施例对本技术进一步地说明；
[0016]图1为本技术一种纳米薄膜成形机的结构图；
[0017]图2为本技术一种纳米薄膜成形机的剖面图；
[0018]图3为图2中A处结构放大图；
[0019]图4为图2中真空吸盘结构图。
[0020]图例说明：
[0021]1、底座；2、箱体；3、箱门；4、正极板；5、过滤箱；6、空气管道Ⅱ；7、真空泵Ⅰ；8、空气管道Ⅰ；9、离子源；10、升降杆；11、真空吸盘；12、镀膜板；13、靶材；14、负极板；15、磁块；16、水冷板；17、进水口；18、出水口；19、真空泵Ⅱ。
具体实施方式
[0022]本部分将详细描述本技术的具体实施例，本技术之较佳实施例在附图中示出，附图的作用在于用图形补充说明书文字部分的描述，使人能够直观地、形象地理解本技术的每个技术特征和整体技术方案，但其不能理解为对本技术保护范围的限制。
[0023]参照图1
‑
4，本技术实施例一种纳米薄膜成形机，其包括底座1、箱体2和真空泵Ⅰ7，箱体2内顶部固定连接有升降杆10，升降杆10一端固定连接有正极板4，可通过升降杆10调节高度控制成膜的速度，正极板4接地连接，正极板4下方固定连接有真空吸盘11，真空吸盘11为全自动保压真空吸盘11，可吸铝板、塑料、不锈钢和铜板等，真空吸盘11下方吸附有镀膜板12，箱体2内侧壁两边固定连接有离子源9，离子源9可放射出离子束撞击靶材13，使靶材13上的分子溅射入电磁场，在电磁场的作用下沉积在镀膜板12表面形成一层保护膜，箱体2内底部固定连接有三块磁块15，三块磁块15按照N端、S端和N端朝向依次摆放，三块磁块15之间形成一个由两边往中间的磁场，磁块15上方固定连接有水冷板16，水冷板16为光纤激光器水冷板16其内部为U形管，水冷板16上方设有负极板14，负极板14上设有靶材13，靶材13为大部分金属材料，具有密度高、含气量低、内部结构均匀的特点，例如锰三锡(Mn3Sn)、铜镍合金(Cu
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Ni)、钼钒合金(Mo
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V)等，水冷板16下方设有进水口17和出水口18，进水口17和出水口18均外接水管，箱体2外侧固定连接有空气管道Ⅰ8，空气管道Ⅰ8另一端固定连接过滤箱5，过滤箱5另一侧固定连接有空气管道Ⅱ6，空气管道Ⅱ6另一端固定连接有真空泵Ⅰ7，空气管道Ⅰ8材质为不锈钢真空波纹管。
[0024]工作原理：将本技术安装好后，打开箱门2，将镀膜板12放在真空吸盘11下方，打开真空泵Ⅱ19将镀膜板12吸附固定，关闭箱门2，打开真空泵Ⅰ7，真空泵Ⅰ7通过空气管道Ⅰ8和空气管道Ⅱ6将箱体2内空气抽出，箱体2内灰尘通过过滤箱5内的过滤网过滤排出，关闭真空泵Ⅰ7，打开离子源9，接通水冷板16，离子源9发射出离子束，撞击在靶材13上，靶材13在水冷板16的作用下温度降低，靶材13上分子在电磁场的作用下飞向镀膜板12，在其表面沉积，形成薄膜，可根据镀膜板12的不同材质来调节升降杆10的高度控制镀膜时间。
[0025]上面结合附图对本技术实施例作了详细说明，但是本技术不限于上述实施例，在所属
普通技术人员所具备的知识范围内，还可以在不脱离本技术宗旨的前提下做出各种变化。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种纳米薄膜成形机，其特征在于，包括：底座(1)、箱体(2)和真空泵Ⅰ(7)，所述箱体(2)内顶部固定连接有升降杆(10)，所述升降杆(10)一端固定连接有正极板(4)，所述正极板(4)下方固定连接有真空吸盘(11)，所述真空吸盘(11)下方吸附有镀膜板(12)，所述箱体(2)内侧壁两边固定连接有离子源(9)，所述箱体(2)内底部固定连接有三块磁块(15)，三块所述磁块(15)按照N端、S端和N端朝向依次摆放，所述磁块(15)上方固定连接有水冷板(16)，所述水冷板(16)上方设有负极板(14)，所述负极板(14)上设有靶材(13)，所述水冷板(16)下方有进水口(17)和出水口(18)，所述箱体(2)外侧固定连接有空气管道Ⅰ(8)，所述空气管道Ⅰ(8...

【专利技术属性】
技术研发人员：任斌，王乃雷，梁飞虎，
申请(专利权)人：江苏籽硕科技有限公司，
类型：新型
国别省市：