【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
【技术保护点】
一种微电子系统,包括:a)具有电子元件(3,4)的半导体层(1);b)钝化层(5),位于所述半导体层(1)的顶上且具有位于其表面内的凹陷(5a,5b);c)至少一种特殊材料(6,7),置于所述钝化层(5)的凹陷(5a ,5b)内。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员:G沃格特梅尔,R斯蒂德曼,G泽特勒,KJ恩格尔,H韦科佐雷克,
申请(专利权)人:皇家飞利浦电子股份有限公司,
类型:发明
国别省市:NL[荷兰]
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