一种多层结构的透明电磁屏蔽材料制备方法技术

本发明专利技术涉及电磁屏蔽材料技术领域，具体为一种多层结构的透明电磁屏蔽材料制备方法，该制备方法包括有以下步骤：S1：镀膜前，依次采用乙醇、丙酮、去离子水对基材进行清洗，然后用N2将表面吹干；S2：采用磁控溅射技术，将金属靶材铜在基材表面沉积铜层，厚度为500nm；通过化学黑化加成法，将表层铜氧化层黑色，该氧化层化学性能稳定；S3：菲林图案设计；S4：通过黄光刻蚀工艺，形成铜线路；S5：在基材双面覆盖PE保护膜；S6：撕开未处理面的PE保护膜；S7：采用磁控溅射技术，将金属靶材铟锡合金在在基材表面沉积ITO层，厚度为200nm,方阻为6Ω/

【技术实现步骤摘要】
一种多层结构的透明电磁屏蔽材料制备方法


[0001]本专利技术涉及电磁屏蔽材料
，具体为一种多层结构的透明电磁屏蔽材料制备方法。

技术介绍

[0002]随着电子设备广泛的应用，工作器件的电磁波相互干扰致失效，或是影响人类身体健康，甚至导致国家机密泄密，因此电磁屏蔽材料的需求相应而生。
[0003]对于窗口显示等地方，还对材料的透明度提出高要求。金属网格的周期远大于光学波长，同时又远小于电磁波长时可起到良好的屏蔽效果，可以满足基本的电磁屏蔽性能和透光性能，但金属面积占比率越大，屏蔽能力则越强，而透光能力则越弱。
[0004]由电磁屏蔽原理可知，增大金属网格厚度可在一定程度上提高材料的电磁屏蔽效能，但金属网格越厚，与基体材料之间结合力减弱，有脱落风险。
[0005]运用传输线理论进行分析，单层金属网格结构等效为感性导纳，因此由透明介质隔开的双层金属栅格结构等效为由短传输线连接的两个并联感性导纳，与单层结构相比，双层结构整体的感性导纳显著降低，减小了电磁波透过率，进而增强了电磁屏蔽性能。
[0006]《基于圆环和本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种多层结构的透明电磁屏蔽材料制备方法，其特征在于：该制备方法包括有以下步骤：SⅠ：进行镀膜前准备，对基材进行清洗和风干；SⅡ：进行图案设计，并在基材表面形成金属网格；SⅢ：进行保护层的制备。2.根据权利要求1所述的一种多层结构的透明电磁屏蔽材料制备方法，其特征在于：该制备方法包括有以下步骤：S1：镀膜前，依次采用乙醇、丙酮、去离子水对基材进行清洗，然后用N2将表面吹干；S2：采用磁控溅射技术，将金属靶材铜在基材表面沉积铜层，厚度为500nm；通过化学黑化加成法，将表层铜氧化层黑色，该氧化层化学性能稳定；S3：菲林图案设计；S4：通过黄光刻蚀工艺，形成铜线路；S5：在基材双面覆盖PE保护膜；S6：撕开未处理面的PE保护膜；S7：采用磁控溅射技术，将金属靶材铟锡合金在在基材表面沉积ITO层，厚度为200nm,方阻为6Ω/
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，透过率为...

【专利技术属性】
技术研发人员：苏伟，李慧，
申请(专利权)人：深圳市志凌伟业光电有限公司，
类型：发明
国别省市：