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本发明涉及电磁屏蔽材料技术领域，具体为一种多层结构的透明电磁屏蔽材料制备方法，该制备方法包括有以下步骤：S1：镀膜前，依次采用乙醇、丙酮、去离子水对基材进行清洗，然后用N2将表面吹干；S2：采用磁控溅射技术，将金属靶材铜在基材表面沉积铜层，...
该专利属于深圳市志凌伟业光电有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳市志凌伟业光电有限公司授权不得商用。

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