制备有机发光显示装置的工艺制造方法及图纸

通过磁力抑制当使基板与掩模彼此紧密接触时导致的基板与掩模之间的位置位移。在通过气相沉积穿过掩模（３）在基板（２）上形成包括在有机发光显示装置中的有机化合物层（有机ＥＬ元件膜）的步骤中，使基板（２）与掩模（３）对准，然后通过多个按压部件（５）将基板（２）按压到掩模（３）以执行临时固定。当通过临时固定抑制基板（２）与掩模（３）之间的位置位移时，通过磁体（６）使基板（２）与掩模（３）紧密接触。分别通过多个按压部件（５）临时固定已对准的基板（２）的多个位置，从而能够执行高精度图案化，以防止有机ＥＬ元件膜从阳极的偏离。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及用于制备用于显示器等的具有高清晰度和大尺寸的诸如有机电致发光显示装置(有机EL显示装置)的有机发光显示装置 的工艺。
技术介绍
近年来，使用有机发光元件的平板显示器正在被关注。特别地， 使用有机电致发光元件(有机EL元件)的显示器具有能够执行低电 压驱动与获得高速响应和宽视角的优点，因此包括材料开发的装置应 用研究已被积极地进行。有机EL元件是利用使到达发光层的电子与空穴结合时产生的发 光的载流子注入型表面发光装置。通过有机材料的选择获得各种发光 颜色。在有机EL显示器中，当使用红、绿和蓝(R、 G和B)三原色作 为各像素发光的颜色时，实现了全色显示。当前，在制备有机EL显 示板的工艺中，正在开发用于实现全色显示的外围技术。考虑到当前有机EL元件的装置特性，使用低分子EL材料的真 空气相沉积在实践上被采用。特别地，为了实现全色显示，用于通过 使用掩模(气相沉积掩模)的气相沉积来选择性地使R、 G和B的各 发光像素图案化的工艺被釆用。图8示出通过真空气相沉积进行的有机EL显示器的图案化气相 沉积步骤。放置在真空腔(真空气相沉积腔)中的基板102包括事先 通过图案化形成的像素电极102a。基板102上的像素电极与掩模103 的开口部分103a对准。在其中基板102与掩模103紧密接触的状态从 气相沉积源104气相沉积材料，以在基板102上形成具有对应于掩模103开口图案的形状的有机薄膜(有机化合物层)。当要为R、 G和B颜色像素中的每一个蒸发用于获得每个发光颜 色的材料时，根据气相沉积材料将掩模与另一掩模交换。备选地，相 对移动单个掩模的位置，从而实现分开的沉积。当掩模变厚时，阴影(shadow)效应变得较大，从而存在难以获 得具有期望尺寸的膜形成图案的情形。为了获得其中每个像素都具有 期望的厚度和尺寸的膜形成状态，使掩模变薄是有效的。当掩模和基 板之间的空间变得过大时，有可能使气相沉积膜插入所述空间中。当 插入显著时，存在诸如发光颜色混合的缺陷的情形，其是由将发射一 种颜色的光的材料插入相邻像素中发射不同颜色光的另 一种材料中而 引起的。因此，^口曰本专利申请/>开No. 2005 - 158571中戶斤乂>开的，在基 板与掩模对准之后，必须动态按压(press)基板，以使掩模和基板彼 此紧密接触。然而，在日本专利申请公开No. 2005- 158571所7>开的方法中， 由于在不平掩模的凹入部分中导致的间隙，无法使基板和掩模彼此紧 密接触。从而，在气相沉积时发生插入。使用由磁性材料制成的掩模且通过磁力使掩模和基板彼此紧密接 触的方法被广泛采用作为在基板和掩模之间获得紧密接触的方法。然 而，根据本专利技术的专利技术人所进行的研究，在事先被彼此对准的基板和 掩模彼此接触的状态期间，当使用磁体使掩模和基板彼此紧密接触时， 发生基板和掩模彼此摩擦而损坏掩模和基板的现象。即，当使用磁体 使基板和掩模彼此紧密接触时，需要在磁体引起紧密接触时抑制掩模 和基板之间的位置位移的方法。
技术实现思路
考虑到上述问题，为了在气相沉积步骤期间抑制基板和掩模之间 的位置位移，完成了本专利技术。因此，本专利技术的目的是提供制备有机发 光显示装置的工艺，其能够有效制备具有高清晰度和大尺寸的显示板。本专利技术提供用于制备在提供在基板上的电极上具有至少 一个有机化合物层的有机发光显示装置的工艺，包括步骤 通过对准机构将基板与掩模对准；通过按压部件将对准的基板按压在掩才莫上(press against the mask)，以临时将基板固定到掩模上；通过磁化单元使通过按压部件临时固定的基板和掩模紧密固定；以及通过气相沉积穿过紧密固定的掩模在基板上形成有机化合物层。 根据本专利技术，在基板和掩模之间的对准之后，通过按压部件的按 压力临时固定基板和掩模，然后保持临时固定状态，通过磁力使基板 和掩模彼此紧密接触。因此，不发生基板和掩模之间的位置位移。作 为结果，即使在大尺寸基板上也能够执行高清晰度的图案化。从下面参考附图对示例性实施例的描述，本专利技术进一步的特征将变得明显。 附图说明图1是示出用于制备根据例子1的有机发光显示装置的设备的示 意图。图2是示出用于制备根据例子1的有机发光显示装置的步骤的示 意图。图3是示出用于制备根据例子1的有机发光显示装置的另一步骤 的示意图。图4是示出图1的设备中使用的掩模的示意图。 图5是示出图1的设备中使用的按压部件的示意图。 图6是示出图1的设备中按压部件的布置的示意图。 图7是示出用于制备根据例子1的有机发光显示装置的步骤的流 程图。图8是示出通过真空气相沉积进行的有机EL显示器的图案化气 相沉积步骤的示意图。具体实施例方式将参考附图描述用于实施本专利技术的示例性实施例。真空腔l包括基板2、掩模3、真空沉积源4、按压部件5和磁体6。如图1中所示，在真空腔l中提供基板2、掩模3和其保持机构。 真空腔1被维持在例如1 x 10-3 Pa或更小的真空度。在真空腔1中提 供的气相沉积源4位于基板2之下。基板2和气相沉积源4可以是位 置固定的或者彼此相对移动。用于使基板2和掩模3彼此紧密接触的 腔可以与用于气相沉积的真空腔1分开，但是这些腔可以在真空状态 下彼此连接。掩模3包括开口部分3a，且其形状具有薄板形状。为了实现更精 细的图案，掩模部分的板厚度为100 jim或更小，更优选地为50 nm 或更小。磁性材料，例如，M-Co合金适于用作掩模材料。通过蚀刻 或者电铸(electroforming )形成开口。而且，用于大尺寸基板的掩模具有大的面积，从而难以实现开口 尺寸的精确性。因此，合适地使用具有这样的结构的掩模，其中提供 由不胀钢(Invar)制成的高硬度框架部分(掩模框架)，并且在由框 架包围的区域中形成薄膜掩模。为了任何目的，可以使用硅基板、玻璃基板或者塑料基板作为基 板2。其中在无碱(non-alkali)玻璃上事先形成驱动器电路和像素电 极的基板可以被用于显示器。在基板2上提供用于与掩模3对准的对 准标记。以下，将参考图7的流程图描述从在基板2和掩模3紧密接触的 状态执行气相沉积的步骤到分离掩模3的步骤的工艺。在步骤S1，将基板2和掩模3彼此对准。如图1中所示，掩模3 被维持在平坦保持状态。当掩模3和基板2彼此接近时，掩模3的开 口与基板2上的像素对准。这时，期望将基板2和掩模3维持在约100 pm到500 pm的间隔。通过没有示出的对准机构调整形成在基板2和掩模3上的对准标记之间的位置关系而执行对准。在步骤S2，使基板2与掩模3接触。在步骤S3，执行对准确定。 在完成对准之后，使基板2与掩模3的上部接触。这时，基板2被从 对准机构释放，然后通过其自身重力位于掩模3上。当确定基板2和 掩模3之间的位置位移为参考值或更大时，基板2和掩模3之间的状 态再次返回到接近状态并且重复以上步骤。在步骤S4，通过按压部件5临时固定基板2和掩模3。如图2中 所示，按压部件5从掩模3的相反侧向下移动，以将基板2按压在掩 模3上，从而执行临时固定。这时，可以基于基板2的尺寸和对准精 度合适地选择按压部件5的数量。可以合适地选择基板2被按压的位 置，以便不导致基板2和掩模3之间的位移。更期望基于掩模3的强 度和本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于制备有机发光显示装置的工艺，所述有机发光显示装置在提供在基板上的电极上具有至少一层有机化合物层，所述工艺包括步骤：　通过对准机构将所述基板与掩模对准；　通过按压部件将对准的基板按压在所述掩模上，以临时将所述基板固定到所述 掩模；　通过磁化单元紧密固定被所述按压部件临时固定的所述基板与所述掩模；以及　通过气相沉积穿过紧密固定的掩模在所述基板上形成有机化合物层。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：森山孝志，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]