掩模版位置调节装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及掩模版相关设备技术领域，公开一种掩模版位置调节装置。该掩模版位置调节装置包括机架、翻转机构和旋转机构，翻转机构设置在机架上，翻转机构能夹持或松开掩模版，并能带动掩模版绕X轴方向翻转，旋转机构沿Z轴方向移动设置在机架上，并位于翻转机构的上方或下方，旋转机构能夹持或松开掩模版，并能带动掩模版绕Z轴方向旋转。该掩模版位置调节装置能对掩模版进行翻转和旋转，适用于不同尺寸的掩模版，工作效率较高，成本较低。成本较低。成本较低。

【技术实现步骤摘要】
掩模版位置调节装置


[0001]本专利技术涉及掩模版相关设备
，尤其涉及掩模版位置调节装置。

技术介绍

[0002]掩模版(MASK)简称掩模，是光刻工艺不可缺少的部件。掩模版上承载有设计图形，光线透过它，把设计图形投射在光刻胶上。在掩模版的使用及生产搬运过程中，需要对掩模版进行翻转与旋转，掩模版翻转与旋转过程中，必须保证掩模版在过程中平稳、安全、并且不得产生颗粒污染，整个过程必须满足高精度和高可靠性的要求。在现有技术中，工字梁焊接装置多为固定式工装，本身无法升降、旋转及翻转，在焊接过程中必须采用起重机进行配合，施工成本高、效率低，且存在一定的安全风险；且只适合刚性较强的产品翻转与旋转，不能对不同大小尺寸的产品进行调节。
[0003]因此，亟需一种掩模版位置调节装置来解决上述问题。

技术实现思路

[0004]基于以上所述，本专利技术的目的在于提供一种掩模版位置调节装置，能对掩模版进行翻转和旋转，适用于不同尺寸的掩模版，工作效率较高，成本较低。
[0005]为达上述目的，本专利技术采用以下技术方案：
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.掩模版位置调节装置，其特征在于，包括：机架(1)；翻转机构(2)，所述翻转机构(2)设置在所述机架(1)上，所述翻转机构(2)能夹持或松开掩模版(100)，并能带动所述掩模版(100)绕X轴方向翻转；旋转机构(3)，所述旋转机构(3)沿Z轴方向移动设置在所述机架(1)上，并位于所述翻转机构(2)的上方或下方，所述旋转机构(3)能夹持或松开所述掩模版(100)，并能带动所述掩模版(100)绕Z轴方向旋转。2.根据权利要求1所述的掩模版位置调节装置，其特征在于，所述翻转机构(2)包括：支撑柱(21)，所述支撑柱(21)在X轴方向和Y轴方向形成的平面上活动设置在所述机架(1)上；第一夹具组件(22)，所述第一夹具组件(22)绕X轴方向转动设置在所述支撑柱(21)上，并能夹持或松开所述掩模版(100)。3.根据权利要求2所述的掩模版位置调节装置，其特征在于，还包括：Y向导轨(4)，所述Y向导轨(4)沿Y轴方向延伸设置在所述机架(1)上；Y向滑块，所述Y向滑块沿Y轴方向滑动设置在所述Y向导轨(4)上；X向导轨(5)，所述X向导轨(5)沿X轴方向延伸设置在所述Y向滑块上，所述支撑柱(21)沿X轴方向滑动设置在所述X向导轨(5)上。4.根据权利要求2所述的掩模版位置调节装置，其特征在于，所述支撑柱(21)设置有两个，两个所述支撑柱(21)沿X轴方向相对设置，所述第一夹具组件(22)包括：两个第一夹持件(221)，每个所述第一夹持件(221)绕X轴方向转动设置在一个所述支撑柱(21)上，两个所述第一夹持件(221)能夹紧所述掩模版(100)的相对两边。5.根据权利要求4所述的掩模版位置调节装置，其特征在于，每个所述第一夹持件(221)包括：支撑梁(2211)，所述支撑梁(2211)绕X轴方向转动设置在一个所述支撑柱(21)上；至少一个第一夹具(2212)，每个所述第一夹具(2212)包括安装板(22121)、下夹板(22122)和上夹板(22123)，所述安装板(22121)沿所述支撑梁(2211)的长度方向移动设置在所述支撑梁(2211)上，所述上夹板(22123)沿所述支撑梁(2211)的宽度方向移动设置在所述安装板(22121)上，并能绕所述支撑梁(2211)的宽度方向转动，所...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘峰，李文荘，
申请(专利权)人：苏州光斯奥光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：