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本发明涉及掩模版相关设备技术领域,公开一种掩模版位置调节装置。该掩模版位置调节装置包括机架、翻转机构和旋转机构,翻转机构设置在机架上,翻转机构能夹持或松开掩模版,并能带动掩模版绕X轴方向翻转,旋转机构沿Z轴方向移动设置在机架上,并位于翻转机...该专利属于苏州光斯奥光电科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过苏州光斯奥光电科技有限公司授权不得商用。
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