一种用于化学气相沉积的气体控制柜制造技术

本发明专利技术涉及一种用于化学气相沉积的气体控制柜，包括第一控制柜以及第二控制柜，第一控制柜与第二控制柜相邻设置且第一控制柜的内部空间与第二控制柜的内部空间互相隔绝，第一控制柜用于控制气体流入，第二控制柜用于控制输送液体。本发明专利技术能够使得气体控制柜中的液体源材料管路与气体输入管路互不影响。体源材料管路与气体输入管路互不影响。体源材料管路与气体输入管路互不影响。

【技术实现步骤摘要】
一种用于化学气相沉积的气体控制柜


[0001]本专利技术涉及半导体
，特别是涉及一种用于化学气相沉积的气体控制柜。

技术介绍

[0002]化学气相沉积中的反应物以气相的形式参与反应，液体源材料都会在气体控制柜里使用气化阀由液态加热转换成气态，并通过氦气的载流流入反应腔室。为了防止正硅酸乙酯等气体的冷却还原，反应腔室的气体管路都需要包装上加热带来维持温度，温度升高会影响到气体控制柜中的其他气体管路的升温，造成通入反应腔室的气体不能精准控制。部分现有技术采用将液体源材料管路远离气体管路排布，但这远不能达到两者互不影响的结果。

技术实现思路

[0003]本专利技术的目的在于提供一种用于化学气相沉积的气体控制柜，以使得气体控制柜中的液体源材料管路与气体输入管路互不影响。
[0004]本专利技术的目的是采用以下的技术方案来实现的。依据本专利技术提出的一种用于化学气相沉积的气体控制柜，包括第一控制柜以及第二控制柜，所述第一控制柜与所述第二控制柜相邻设置且所述第一控制柜的内部空间与所述第二控制柜的内部空间互相隔绝，所述第一控制柜用于控制气体流入，所述第二控制柜用于控制输送液体。
[0005]在一些实施方式中，所述第一控制柜包括第一面板，所述第二控制柜包括第二面板，所述第一面板上集成有气体输入系统，所述第二面板上集成有液体输送系统。
[0006]在一些实施方式中，所述气体控制柜还包括第一盖板以及第二盖板，所述第一盖板盖合于所述第一控制柜，所述第二盖板盖合于所述第二控制柜。
[0007]在一些实施方式中，所述气体控制柜还包括漏液检测器，所述漏液检测器设置在所述第二控制柜中，用于检测漏液。
[0008]在一些实施方式中，所述气体控制柜还包括包装加热带，所述包装加热带设置于所述第二控制柜中，用于防止气化后的反应气体再次冷却还原。
[0009]在一些实施方式中，所述气体控制柜还包括互锁装置，所述互锁装置设置于所述第一控制柜以及所述第二控制柜中。
[0010]在一些实施方式中，所述气体输入系统包括气动阀、手动阀、过滤阀以及流量质量控制器。
[0011]在一些实施方式中，所述液体输送系统包括气化阀、液体流量质量控制器、气动阀、手动阀、过滤阀、流量质量控制器。
[0012]本专利技术的有益效果至少包括：。
[0013]1、本专利技术通过第一控制柜与第二控制柜相邻设置且第一控制柜用于控制气体流入，第二控制柜用于控制输送液体，能够使得第一控制柜与第二控制柜完全分离，从而使得第一控制柜与第二控制柜的温度差异互不影响。
[0014]2、本专利技术通过第一盖板盖合于第一控制柜且第二盖板盖合于第二控制柜，能够使得单独打开其中一个控制柜而不会影响到另一个控制柜，第一控制柜与第二控制柜中的互锁装置互不影响，减少了维护作业空间，缩短了维护恢复时间。
[0015]3、本专利技术所述的用于化学气相沉积的气体控制柜将漏液检测器设置在第二控制柜中，用于检测液体输送系统中的漏液。
[0016]4、本专利技术所述的用于化学气相沉积的气体控制柜将包装加热带设置于第二控制柜中，用于防止气化后的反应气体再次冷却还原。
[0017]5、本专利技术所述的用于化学气相沉积的气体控制柜将互锁装置设置于第一控制柜以及第二控制柜中，用于在打开第一控制柜以及第二控制柜时，切断第一控制柜以及第二控制柜中的气体或切断电源。
[0018]上述说明仅是本专利技术技术方案的概述，为了能更清楚了解本专利技术的技术手段，而可依照说明书的内容予以实施，并且为让本专利技术的上述和其他目的、特征和优点能够更明显易懂，以下特举较佳实施例，并配合附图，详细说明如下。
附图说明
[0019]图1为本专利技术第一个实施例的用于化学气相沉积的气体控制柜的内部的平面结构示意图；
[0020]图2为本专利技术第一个实施例的用于化学气相沉积的气体控制柜的第一盖板以及第二盖板的结构示意图。
具体实施方式
[0021]为更进一步阐述本专利技术的技术手段，以下结合附图及较佳实施例，对依据本专利技术提出的一种用于化学气相沉积的气体控制柜的具体实施方式详细说明。以下实施例仅用于更加清楚地说明本专利技术的技术方案，因此只作为示例，而不能以此来限制本申请的保护范围。
[0022]除非另有定义,本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本申请的
的技术人员通常理解的含义相同；本文中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本申请；本申请的说明书和权利要求书及上述附图说明中的术语“包括”和“具有”以及它们的任何变形,意图在于覆盖不排他的包含。
[0023]在本申请实施例的描述中,技术术语“第一”、“第二”等仅用于区别不同对象,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量、特定顺序或主次关系。
[0024]如图1所示，本专利技术所述的用于化学气相沉积的气体控制柜包括第一控制柜1以及第二控制柜2，第一控制柜1与第二控制柜2相邻设置，第一控制柜1与第二控制柜2间隔一定距离，且第一控制柜1的内部空间与第二控制柜2的内部空间互相隔绝。第一控制柜1用于控制气体的精确流入，第二控制柜2用于控制输送液体。
[0025]第一控制柜1包括第一面板11，第二控制柜2包括第二面板21，第一面板11上集成有气体输入系统，第二面板21上集成有液体输送系统，其中，气体输入系统包括气动阀、手动阀、过滤阀以及流量质量控制器，液体输送系统包括气化阀、液体流量质量控制器、气动
阀、手动阀、过滤阀、流量质量控制器。
[0026]本专利技术通过第一控制柜1与第二控制柜2相邻设置且第一控制柜1用于控制气体流入，第二控制柜2用于控制输送液体，能够使得第一控制柜1与第二控制柜2完全分离，从而使得第一控制柜1与第二控制柜2的温度差异互不影响。
[0027]本专利技术所述的用于化学气相沉积的气体控制柜还包括互锁装置，互锁装置设置于第一控制柜1以及第二控制柜2中，用于在打开第一控制柜1以及第二控制柜2时，切断第一控制柜1以及第二控制柜2中的气体或切断电源。
[0028]本专利技术所述的用于化学气相沉积的气体控制柜包括第一盖板3以及第二盖板4，第一盖板3盖合于第一控制柜1，第二盖板4盖合于第二控制柜2，本专利技术通过第一盖板3盖合于第一控制柜1且第二盖板4盖合于第二控制柜2，能够使得单独打开其中一个控制柜而不会影响到另一个控制柜，第一控制柜1与第二控制柜2中的互锁装置互不影响，减少了维护作业空间，缩短了维护恢复时间。
[0029]本专利技术所述的用于化学气相沉积的气体控制柜还包括漏液检测器，漏液检测器设置在第二控制柜2中，用于检测液体输送系统中的漏液。
[0030]本专利技术所述的用于化学气相沉积的气体控制柜还包括包装加热带，包装加热带设置于第二控制柜2中，用于防止气化后的反应气体再次冷却还原。
[0031]提供所公开的方面的以上描述以使本领域的任何技术人员能够实施本专利技术。对这些方面的各种修改对于本领域技术人员而言是显而易见的，本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于化学气相沉积的气体控制柜，其特征在于，包括第一控制柜以及第二控制柜，所述第一控制柜与所述第二控制柜相邻设置，所述第一控制柜的内部空间与所述第二控制柜的内部空间互相隔绝，所述第一控制柜用于控制气体流入，所述第二控制柜用于控制输送液体。2.根据权利要求1所述的用于化学气相沉积的气体控制柜，其特征在于，所述第一控制柜包括第一面板，所述第二控制柜包括第二面板，所述第一面板上集成有气体输入系统，所述第二面板上集成有液体输送系统。3.根据权利要求1所述的用于化学气相沉积的气体控制柜，其特征在于，所述气体控制柜还包括第一盖板以及第二盖板，所述第一盖板盖合于所述第一控制柜，所述第二盖板盖合于所述第二控制柜。4.根据权利要求1所述的用于化学气相沉积的气体控制柜，其特征在于，所述气体控制柜...

【专利技术属性】
技术研发人员：蔡宇航，金補哲，黄中山，刘洋，
申请(专利权)人：盛吉盛半导体技术上海有限公司，
类型：发明
国别省市：