温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明涉及一种用于化学气相沉积的气体控制柜，包括第一控制柜以及第二控制柜，第一控制柜与第二控制柜相邻设置且第一控制柜的内部空间与第二控制柜的内部空间互相隔绝，第一控制柜用于控制气体流入，第二控制柜用于控制输送液体。本发明能够使得气体控制柜中...
该专利属于盛吉盛半导体技术（上海）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过盛吉盛半导体技术（上海）有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。