显示面板的制作方法、显示面板及显示装置制造方法及图纸

本公开涉及一种显示面板的制作方法、显示面板及显示装置，该制作方法包括：在衬底基板上制备第一基底，形成第一基板；在第一基底上制备多个支撑结构，其中，多个支撑结构在第一基底上间隔设置，相邻的支撑结构之间形成第一间隙；在第一间隙内填充第一光刻胶以形成像素墙；将支撑结构去除，以使像素墙形成在第一基板。本公开通过在第一基板上先间隔预设距离制备多个支撑结构，再在支撑结构之间形成的第一间隙中涂覆第一光刻胶以形成像素墙，之后将支撑结构去除，便可在第一基板上制作出高度均一的像素墙，将像素墙与第一基板之间的间隙填充，防止墨水中的黑色微球迁移导致出现显示串扰，保证显示面板显示的稳定性，提高显示面板产品品质。产品品质。产品品质。

【技术实现步骤摘要】
显示面板的制作方法、显示面板及显示装置


[0001]本公开涉及显示
，具体涉及一种显示面板的制作方法、显示面板及显示装置。

技术介绍

[0002]显示面板中的反射显示器件是利用自然光进行显示的器件结构，在强光、弱光条件下都可以利用环境光均实现清晰显示，具有驱动电压低、节能以及对眼睛损伤小等优点。但反射显示面板在制备过程中仍存在诸多技术难点，导致制备的显示面板性能不佳。

技术实现思路

[0003]根据本公开的方案之一，提供一种显示面板的制作方法，包括：
[0004]在衬底基板上制备第一基底，形成第一基板；
[0005]在所述第一基底上制备多个支撑结构，其中，多个所述支撑结构在所述第一基底上间隔设置，相邻的所述支撑结构之间形成第一间隙；
[0006]在所述第一间隙内填充第一光刻胶以形成像素墙；
[0007]将所述支撑结构去除，以使所述像素墙形成在所述第一基板。
[0008]在一些实施例中，所述支撑结构沿所述第一基板的厚度方向延伸。
[0009]在一些实施例中，所述支撑结构的高度大于所述像素墙的高度，其中，所述支撑结构的高度为沿所述第一基板的厚度方向，所述支撑结构远离所述第一基板的表面到所述第一基板的距离；所述像素墙的高度为沿所述第一基板的厚度方向，所述像素墙远离所述第一基板的表面到所述第一基板的距离。
[0010]在一些实施例中，所述在所述第一基底上制备多个支撑结构，包括：
[0011]在所述第一基底上涂覆第二光刻胶；
[0012]对涂覆的所述第二光刻胶进行曝光，并对曝光后的所述第二光刻胶进行显影，得到所述支撑结构。
[0013]在一些实施例中，所述在所述第一基底上制备多个支撑结构，包括：
[0014]在所述第一基底上涂覆压印胶，形成压印层；
[0015]按照预设的图形样式对所述压印层进行压印，压印出凹槽区域，其中，所述凹槽区域形成所述第一间隙，所述压印层未被压印的部分形成所述支撑结构；
[0016]在压印完成的所述压印层上保留预设的所述压印胶形成压印残胶层。
[0017]在一些实施例中，所述将所述支撑结构去除，包括：
[0018]通过使用剥离液或干刻的方式将所述支撑结构去除。
[0019]在一些实施例中，所述方法还包括：
[0020]制备第二基板；
[0021]将所述第一基板与所述第二基板对盒，形成显示面板。
[0022]在一些实施例中，所述方法还包括：
[0023]在所述第一基底上制备透镜层；
[0024]在所述透镜层上制备多个所述支撑结构。
[0025]在一些实施例中，所述第一基底包括同层设置的滤光层和遮光层，所述在所述透镜层上制备多个所述支撑结构，包括：
[0026]在所述透镜层上与所述滤光层对应的位置制备所述支撑结构。
[0027]在一些实施例中，所述在所述第一基底上制备透镜层，包括：
[0028]对设置在所述第一基底上的透镜材料进行涂覆，并通过纳米压印固化成型的方式形成所述透镜层。
[0029]在一些实施例中，所述第一基板为阵列基板，所述第二基板为彩膜基板，所述第二基板包括同层设置的滤光层和遮光层，所述第一基板与第二基板对盒后，形成在所述第一基板的所述像素墙的位置与所述第二基板的所述遮光层对应；或者
[0030]所述第一基板为彩膜基板，所述第二基板为阵列基板，所述方法还包括：
[0031]在所述第二基板上形成像素墙；所述第一基板与所述第二基板对盒后，所述第二基板上的像素墙与所述第一基板上的像素墙一一对应。
[0032]根据本公开的方案之一，还提供一种显示面板，包括第一基板、第二基板以及设置在所述第一基板和所述第二基板之间的像素墙，其中，所述像素墙采用上述的方法形成在所述第一基板。
[0033]在一些实施例中，所述第一基板为彩膜基板，所述彩膜基板上形成有透镜层，所述像素墙形成在所述透镜层上；或者，所述第一基板为阵列基板，所述像素墙形成在所述阵列基板的TFT基底上。
[0034]在一些实施例中，所述像素墙与所述透镜层之间设有压印残胶层；或者，所述像素墙与所述阵列基板的TFT基底之间设有压印残胶层。
[0035]根据本公开的方案之一，还提供一种显示装置，包括上述的显示面板。
[0036]本公开的各种实施例提供的显示面板的制作方法、显示面板及显示装置，通过在第一基板上先间隔预设距离制备多个支撑结构，再在支撑结构之间形成的第一间隙中涂覆第一光刻胶以形成像素墙，之后将支撑结构去除，便可在第一基板上制作出外形规则、统一的像素墙，并将像素墙与第一基板之间的间隙填充，防止墨水中的黑色微球迁移导致显示面板出现显示串扰，保证显示面板显示的稳定性，提高显示面板产品品质。
附图说明
[0037]图1示出相关技术中CID反射显示器件的主要结构示意图；
[0038]图2示出像素墙的俯视结构示意图；
[0039]图3(a)和图3(b)示出相关技术中CID器件结构中黑色微球迁移的示意图；
[0040]图4示出相关技术中制备的像素墙的实物影像图；
[0041]图5示出本公开实施例的显示面板的制作方法的流程图；
[0042]图6至图13示出了本公开实施例的显示面板的制作示意图；
[0043]图14示出了本公开实施例的通过纳米压印法制作的像素墙的实物影像图；
[0044]图15(a)示出了采用本公开实施例的显示面板的制作方法制作的显示面板的结构示意图；
[0045]图15(b)示出了采用本公开实施例的显示面板的制作方法制作的另一显示面板的结构示意图；
[0046]图15(c)示出了采用本公开实施例的显示面板的制作方法制作的又一显示面板的结构示意图。
[0047]附图标记：
[0048]11
‑
彩膜基板；12
‑
阵列基板、121
‑
TFT基底；13
‑
透镜件；14
‑
像素墙；15
‑
密封胶框；16
‑
像素区域；17
‑
油墨、171
‑
黑色微球；
[0049]10
‑
第一基板、20
‑
第二基板；
[0050]1‑
衬底基板；2
‑
彩膜基底、21
‑
滤光层、22
‑
遮光层、211
‑
第一颜色滤光片、212
‑
第二颜色滤光片、213
‑
第三颜色滤光片；3
‑
透镜层；4
‑
支撑结构；5
‑
第一间隙；6
‑
压印残胶层。
具体实施方式
[0051]此处参考附图描述本公开的各种方案以及特征。
[本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种显示面板的制作方法，包括：在衬底基板上制备第一基底，形成第一基板；在所述第一基底上制备多个支撑结构，其中，多个所述支撑结构在所述第一基底上间隔设置，相邻的所述支撑结构之间形成第一间隙；在所述第一间隙内填充第一光刻胶以形成像素墙；将所述支撑结构去除，以使所述像素墙形成在所述第一基板。2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述支撑结构沿所述第一基板的厚度方向延伸。3.根据权利要求1所述的方法，其中，所述支撑结构的高度大于所述像素墙的高度，其中，所述支撑结构的高度为沿所述第一基板的厚度方向，所述支撑结构远离所述第一基板的表面到所述第一基板的距离；所述像素墙的高度为沿所述第一基板的厚度方向，所述像素墙远离所述第一基板的表面到所述第一基板的距离。4.根据权利要求1所述的方法，其中，所述在所述第一基底上制备多个支撑结构，包括：在所述第一基底上涂覆第二光刻胶；对涂覆的所述第二光刻胶进行曝光，并对曝光后的所述第二光刻胶进行显影，得到所述支撑结构。5.根据权利要求1所述的方法，其中，所述在所述第一基底上制备多个支撑结构，包括：在所述第一基底上涂覆压印胶，形成压印层；按照预设的图形样式对所述压印层进行压印，压印出凹槽区域，其中，所述凹槽区域形成所述第一间隙，所述压印层未被压印的部分形成所述支撑结构；在压印完成的所述压印层上保留预设的所述压印胶形成压印残胶层。6.根据权利要求1所述的方法，其中，所述将所述支撑结构去除，包括：通过使用剥离液或干刻的方式将所述支撑结构去除。7.根据权利要求1至6中任一项所述的方法，其中，所述方法还包括：制备第二基板；将所述第一基板与所述第二基板对盒，形成显示面板。8.根据权利要求7所述的方法，其中，所述方法还包括：在...

【专利技术属性】
技术研发人员：侯东飞，张锋，董立文，崔钊，刘文渠，孟德天，王利波，吕志军，姚琪，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：