一种光学元件超洗装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供一种光学元件超洗装置，属于超声清洗设备技术领域，该一种光学元件超洗装置，包括超声清洗器本体，所述超声清洗器本体包括机体和上盖，所述机体具有清洗槽，所述清洗槽底部设有排水管道，所述上盖可向清洗槽内喷洒干净的清洗液，所述清洗槽内设有污渍截留器，所述机体一侧设有用于过滤清洗液中污渍的过滤部件。本实用新型专利技术的有益效果：通过盖板向光学元件喷洒干净的清洗液，在清洗槽内完成二次清洗作业，从而在不需要转移的情况下直接完成光学元件完整的清洗操作，简化清洗操作的步骤，实现更高效的清洗工作。实现更高效的清洗工作。实现更高效的清洗工作。

【技术实现步骤摘要】
一种光学元件超洗装置


[0001]本技术属于超声清洗设备
，具体涉及一种光学元件超洗装置。

技术介绍

[0002]超声波清洗是指利用超声波在液体中的空化作用、加速度作用及直进流作用对液体和污物直接、间接的作用，使污物层被分散、乳化、剥离而达到清洗目的。
[0003]但是，目前在对光学元件进行超声波清洗时，通过超声波从光学元件上剥离的污物，依旧存在于清洗液中，当光学元件从清洗液中取出时，表面仍然带有一定的污物，需要进行二次清洗，把超声清洗之后，光学元件上粘附的污物冲洗掉，才算真正的完成光学元件的清洗作业。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种光学元件超洗装置，旨在解决现有的超声清洗设备清洗之后的光学元件，还需要进二次清洗的问题。
[0005]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种光学元件超洗装置，包括超声清洗器本体，所述超声清洗器本体包括机体和上盖，所述机体具有清洗槽，所述清洗槽底部设有排水管道，所述上盖可向清洗槽内喷洒干净的清洗液，所述清洗槽内设有污渍截留器，所述机体一侧设有用于过滤清洗液中污渍的过滤部件。
[0006]为了使得该一种光学元件超洗装置中的污渍截留器便于加工生产，作为本技术一种优选的，所述污渍截留器为一体式，一体式的所述污渍截留器包括壳体，所述壳体内设有排水腔，所述排水腔与排水管道连通，所述壳体上端开设有多个与排水腔连通的漏污孔。
[0007]为了使得该一种光学元件超洗装置中的污渍截留器便于清理，作为本技术一种优选的，所述污渍截留器为组合式，组合式的所述污渍截留器包括底座和盖板，所述盖板上设有多个漏污孔，所述底座内侧与排水管道连通。
[0008]为了使得该一种光学元件超洗装置中的污渍截留器能够更好的防止污渍反入清洗槽内，作为本技术一种优选的，所述漏污孔呈上大下小的锥形。
[0009]为了使得该一种光学元件超洗装置能够直接在清洗槽内完成二次清洗操作，作为本技术一种优选的，所述上盖内设有蓄水腔，所述蓄水腔底壁上设有多个用于喷洒清洗液的喷淋部件。
[0010]优选的，所述喷淋部件为喷淋头。
[0011]具体的，所述过滤部件包括保护壳，所述保护壳内设有过滤桶，所述过滤桶内设有滤芯，所述保护壳内设有与排水管道连通的水泵A，所述水泵A抽出的污水经导管注入过滤桶内的滤芯上，所述保护壳内设有用于抽出过滤桶内干净的清洗液的水泵B，所述水泵B经导管与盖板的蓄水腔连通。
[0012]为了使得该一种光学元件超洗装置中的滤芯能够起到更好的过滤效果，作为本实
用新型一种优选的，所述滤芯上设有用于承接污水的凹槽。
[0013]为了使得该一种光学元件超洗装置便于放置需要清洗的光学元件，作为本技术一种优选的，所述清洗槽内设有用于盛放需要清洗的元件的过滤篮。
[0014]为了使得该一种光学元件超洗装置便于控制超声清洗器和过滤部件工作，作为本技术一种优选的，所述机体上设有用于控制超声清洗器和过滤部件的控制器。
[0015]与现有技术相比，本技术的有益效果是：
[0016]1.该光学元件超洗装置，当需要进行二次清洗时，首先把清洗槽内的清洗液抽吸进过滤部件内，直到清洗液的液面低于正在清洗的光学元件，此时通过盖板向光学元件喷洒干净的清洗液，在清洗槽内完成二次清洗作业，从而在不需要转移的情况下直接完成光学元件完整的清洗操作，简化清洗操作的步骤，实现更高效的清洗工作；
[0017]2.该光学元件超洗装置，在超声清洗短暂结束之后，污渍经过短暂的沉淀，会落入污渍截留器中，污渍截留器把更多的污渍截留在其内，防止再次清洗时，由于清洗液的激荡，致使清洗液的水质再次浑浊影响清洗效果；
[0018]3.该光学元件超洗装置，过滤部件在工作时，通过水泵A把清洗槽内含有污渍的清洗液抽处，并注入到滤芯上，把其中的污渍过滤干净，保留在过滤桶内，在需要二次清洗时，启动水泵B，把过滤干净的清洗液注入到盖板上的蓄水腔内，再通过喷淋头喷出，实现清洗液的循环使用，节约水资源。
附图说明
[0019]附图用来提供对本技术的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本技术的实施例一起用于解释本技术，并不构成对本技术的限制。在附图中：
[0020]图1为本技术中的具体实施例的轴测示意图；
[0021]图2为本技术中的具体实施例的全剖轴测示意图；
[0022]图3为本技术中的具体实施例中二次清洗的状态示意图；
[0023]图4为本技术中的具体实施例中过滤部件的全剖轴测示意图；
[0024]图5为本技术中的具体实施例中组合式的污渍截留器的示意图；
[0025]图6为本技术中的具体实施例图2中一体式的污渍截留器的局部放大示意图。
[0026]图中：1、机体；2、上盖；3、清洗槽；4、污渍截留器；5、过滤部件； 401、壳体；402、排水腔；403、漏污孔；404、底座；405、盖板；201、蓄水腔；202、喷淋部件；501、保护壳；502、过滤桶；503、滤芯；504、水泵 A；505、水泵B；506、凹槽；6、过滤篮；7、控制器。
具体实施方式
[0027]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0028]请参阅图1
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5，本技术提供以下技术方案：一种光学元件超洗装置，包括超声清洗器本体，所述超声清洗器本体包括机体1和上盖2，所述机体1 具有清洗槽3，所述清洗槽3底部设有排水管道，所述上盖2可向清洗槽3内喷洒干净的清洗液，所述清洗槽3内设有
污渍截留器4，所述机体1一侧设有用于过滤清洗液中污渍的过滤部件5。
[0029]在本技术的具体实施例中，在使用时，需要清洗的光学元件放入清洗槽3内进行清洗，清洗过程中，溶解的污渍掉落到清洗液内，完成正常的超声清洗作业，当需要进行二次清洗时，首先把清洗槽3内的清洗液抽吸进过滤部件5内，直到清洗液的液面低于正在清洗的光学元件，此时通过盖板 405向光学元件喷洒干净的清洗液，在清洗槽3内完成二次清洗作业，从而在不需要转移的情况下直接完成光学元件完整的清洗操作，简化清洗操作的步骤，实现更高效的清洗工作。
[0030]请参阅图2和图6，所述污渍截留器4为便于生产加工的一体式，一体式的所述污渍截留器4包括壳体401，所述壳体401内设有排水腔402，所述排水腔402与排水管道连通，所述壳体401上端开设有多个与排水腔402连通的漏污孔403；在超声清洗短暂结束之后，污渍经过短暂的沉淀，会落入污渍截留器4中，污渍截留器4把更多的污渍截留在其内，防止再次清洗时，由于清洗液的激本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光学元件超洗装置，包括超声清洗器本体，所述超声清洗器本体包括机体(1)和上盖(2)，所述机体(1)具有清洗槽(3)，所述清洗槽(3)底部设有排水管道，其特征在于，所述上盖(2)可向清洗槽(3)内喷洒干净的清洗液，所述清洗槽(3)内设有污渍截留器(4)，所述机体(1)一侧设有用于过滤清洗液中污渍的过滤部件(5)。2.根据权利要求1所述的一种光学元件超洗装置，其特征在于：所述污渍截留器(4)为一体式，一体式的所述污渍截留器(4)包括壳体(401)，所述壳体(401)内设有排水腔(402)，所述排水腔(402)与排水管道连通，所述壳体(401)上端开设有多个与排水腔(402)连通的漏污孔(403)。3.根据权利要求1所述的一种光学元件超洗装置，其特征在于：所述污渍截留器(4)为组合式，组合式的所述污渍截留器(4)包括底座(404)和盖板(405)，所述盖板(405)上设有多个漏污孔(403)，所述底座(404)内侧与排水管道连通。4.根据权利要求2或3所述的一种光学元件超洗装置，其特征在于：所述漏污孔(403)呈上大下小的锥形。5.根据权利要求1所述的一种光学...

【专利技术属性】
技术研发人员：曾宪龙，
申请(专利权)人：南阳市梧桐光电有限公司，
类型：新型
国别省市：