离心风扇制造技术

本发明专利技术提供一种离心风扇。离心风扇包括壳体、叶轮、第一喉部以及第二喉部。壳体包括底板、侧壁以及上盖，底板与上盖通过侧壁连接，以形成作为气流流道的空间以及出风口，上盖包括入风口，入风口通过容置空间与出风口连通。叶轮设置于底板上，且容置于容置空间，其中叶轮以一旋转方向转动形成一气流由入风口引入，经容置空间由出风口导出。第一喉部邻设于出风口的一侧端，且自侧壁向容置空间内凸伸。第二喉部于空间上相对于第一喉部，邻设于出风口的另一侧端，且自侧壁向容置空间内凸伸。从出风口观之，叶轮位于第一喉部以及第二喉部之间。当叶轮沿旋转方向转动时，气流由入风口进入容置空间，依序经过第一喉部及第二喉部后由出风口排出。排出。排出。

【技术实现步骤摘要】
离心风扇


[0001]本专利技术涉及一种风扇，尤其涉及一种离心风扇，配合流道中多个喉部及不规入风口的设计来降低流体速度，达到降低高频噪音的效果。

技术介绍

[0002]目前风扇的种类主要可分为轴流式与离心式。其中离心式风扇的运作方式是气流从风扇的叶轮的轴向进入后，沿叶轮的径向流动，经流道汇流成高压流体，再从径向的出风口流出。然而当气流速度过大时，产生的高压流体便容易影响叶片通过频率(blade passing frequency)而产生噪音，进而降低使用者的使用感受度。因此，如何解决风扇所产生的噪音一直是本领域主要关切的问题。
[0003]当同一风扇使用于不同系统时，可能因不同系统的气流流场影响而造成不同的声音表现。一般而言，现行解决系统内噪音的方式主要有调整入风口或修改扇叶。其中调整入口风的方法是虽可解决系统入风流速所造成的扰人噪音，但无法解决内部流场或出风口造成的噪音。至于修改扇叶的的方法，则需耗费较长的开发时间，成本较高。再者，目前针对离心风扇降噪所采用的措施仍难以完全根除风扇的噪音，故使用者仍受到风扇噪音的困扰。
[0004]有鉴于此，实有必要提供一种离心风扇，配合流道中多个喉部及不规入风口的设计来降低流体速度，达到降低高频噪音的效果，以解决公知技术的缺陷。

技术实现思路

[0005]本专利技术的目的在于提供一种离心风扇，配合流道中的第一喉部、第二喉部、不规入风口以及支撑柱等设计来降低流体速度，达到降低噪音及突出率(Prominence Ratio)、改善声音品质的效果。/>[0006]本专利技术的另一目的在于提供一种离心风扇。通过流道内部设置的第二喉部提供减速机制，配合向风扇外侧冲压段差部形成的不规则入风口结构或流道上的支撑柱结构，即可有效降低流体速度，达到降低噪音、改善声音品质的效果。其中自不规则入风口向外冲压的段差部更形成一转折角度，同时使入风口可兼具降低入风噪音并保持入风量的效能。而段差部自入风口向外冲压的高度，可以增加风扇上盖的强度，避免叶轮与入风口的干扰。另外，第二喉部于空间上相对于第一喉部。第一喉部与第二喉部沿叶轮的旋转方向设置，且分别位于叶轮两相对侧端。将第二喉部设置于流道下游一特定的范围内，均可发挥降低流速的效能。其中第二喉部更相对由第一喉部沿旋转方向导向第二喉部的第一气流和叶轮直接旋转吹向第二喉部的第二气流而产生相反方向的第三气流，以引导流体相互碰撞而减速。再者，针对通过第二喉部作用的第一气流及第二气流，更可通过一支以上的支撑柱形成一第四气流，来降低流体接近出风口处的流场速度，以达到降低噪音及突出率(Prominence Ratio)、改善声音品质的效果。
[0007]本专利技术的另一目的在于提供一种离心风扇。相对第一喉部增设的第二喉部沿叶轮20的旋转方向Q设置，第二喉部还包含有第一壁面与第二壁面。第一壁面面向由第一喉部导
向第二喉部的第一气流，且第一壁面面向叶轮直接吹向第二喉部的第二气流，因此第一壁面为迎风面。第一壁面沿旋转方向增加与侧壁的距离后形成顶峰，顶峰再连接至沿旋转方向减少与侧壁距离的第二壁面，以形成第三气流的顺流。由此，第二喉部形成的第三气流更有助于达到降低噪音及突出率(Prominence Ratio)的效能。第一壁面与第二壁面可依照实际应用需求，可包含平滑曲面、凸部、凹部、气隙、间隔空间或柱体等，进一步提升第二喉部的实用性。相较于传统仅包含第一喉部的风扇，本专利技术的离心风扇通过第二喉部的增设，于相同转速条件下，除了有效降低声音压力位准(Sound Pressure Level,SPL)外，更大幅降低突出率(Prominence Ratio,PR)，免除风扇噪音中的突出异音的生成，优化离心风扇的声音品质。
[0008]为达前述目的，本专利技术提供一种离心风扇，包括壳体、叶轮、第一喉部以及第二喉部。壳体包括底板、侧壁以及上盖，底板与上盖通过侧壁连接，且形成容置空间以及出风口，上盖包括入风口，入风口通过容置空间与出风口连通。叶轮设置于底板上，且容置于容置空间，其中叶轮以一旋转方向转动形成一气流由入风口引入，流经容置空间，并由出风口导出。第一喉部邻设于出风口的一侧端，且自侧壁向容置空间凸伸。第二喉部于空间上相对于第一喉部，邻设于出风口的另一侧端，且自侧壁向容置空间凸伸，其中叶轮位于第一喉部以及第二喉部之间，于叶轮以旋转方向转动时，气流由第一喉部导向第二喉部。
[0009]本专利技术提供一种离心风扇，配合复数喉部、不规入风口以及支撑柱等设计来降低流体速度，达到降低噪音及突出率、改善声音品质的效果。
附图说明
[0010]图1为公开本专利技术第一实施例的离心风扇的外观结构图。
[0011]图2为公开本专利技术第一实施例的离心风扇的分解图。
[0012]图3为公开本专利技术第一实施例的离心风扇的俯视图。
[0013]图4为公开图3的离心风扇沿线段BC的截面图。
[0014]图5为公开本专利技术第一实施例的离心风扇中第二喉部对应叶轮的设置关系图。
[0015]图6为公开本专利技术第一实施例的离心风扇中支撑柱对应叶轮的设置关系图。
[0016]图7为公开本专利技术第一实施例的离心风扇中的气流分布图。
[0017]图8为公开图7中区域P1的放大图。
[0018]图9为公开本专利技术第二实施例的离心风扇的局部放大图。
[0019]图10为公开本专利技术第三实施例的离心风扇的局部放大图。
[0020]图11为公开本专利技术第四实施例的离心风扇的局部放大图。
[0021]图12为公开本专利技术第五实施例的离心风扇的局部放大图。
[0022]图13为公开本专利技术第六实施例的离心风扇的局部放大图。
[0023]图14为公开本专利技术第七实施例的离心风扇的局部放大图。
[0024]图15为公开本专利技术第八实施例的离心风扇的局部放大图。
[0025]附图标记如下：
[0026]1：离心风扇
[0027]10：壳体
[0028]11：底板
[0029]12：侧壁
[0030]120：内表面
[0031]13：上盖
[0032]131：段差部
[0033]132：内表面
[0034]133：外表面
[0035]134：冲压外表面
[0036]15：出风口
[0037]16：入风口
[0038]17：容置空间
[0039]18：暴露区
[0040]20：叶轮
[0041]30：第一喉部
[0042]40：第二喉部
[0043]41：第一壁面
[0044]411：凸部
[0045]412：凹部
[0046]42：顶峰
[0047]43：第二壁面
[0048]430：平滑曲面
[0049]431：凸部
[0050]432：凹部
[0051]44：间隔空间
[0052]45：柱体
[0053]50：支本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种离心风扇，包括:一壳体，包括一底板、一侧壁以及一上盖，该底板与该上盖通过该侧壁连接，且形成一容置空间以及一出风口，该上盖包括一入风口，该入风口通过该容置空间与该出风口连通；一叶轮，设置于该底板上，且容置于该容置空间，其中该叶轮以一旋转方向转动形成一气流由该入风口引入，流经该容置空间，并由该出风口导出；一第一喉部，邻设于该出风口的一侧端，且自该侧壁向该容置空间凸伸；以及一第二喉部，于空间上相对于该第一喉部，邻设于该出风口的另一侧端，且自该侧壁向该容置空间凸伸，其中该叶轮位于该第一喉部以及该第二喉部之间，于该叶轮以旋转方向转动时，该气流由该第一喉部导向该第二喉部。2.如权利要求1所述的离心风扇，其中该入风口呈一非圆形。3.如权利要求1所述的离心风扇，还包括至少一支撑柱，连接于该底板与该上盖之间，邻设于该出风口，且位于该第二喉部与该叶轮之间。4.如权利要求1所述的离心风扇，其中该底板包括一暴露区，邻设于该第二喉部与该出风口之间，从该上盖至该底板的视向上该暴露区未为该上盖所遮盖。5.如权利要求1所述的离心风扇，其中该上盖包括一段差部，邻设于该入风口，且沿该上盖的一内表面朝向一外表面的方向冲压形成一冲压外表面，其中该上盖的该内表面与该外表面之间具有一厚度，该段差部的该冲压外表面与该上盖的该外表面具有一冲压高度，该冲压高度相对该厚度的比值范围介于0.75至3.75。6.如权利要求5所述的离心风扇，其中该段差部与该入风口的外周缘相交于一第一交点以及一第二交点，且该段差部与该入风口连接的边缘具有一转折点，其中该出风口面向的方向具有一轴线通过该叶轮的中心，该转折点至该第一交点的连线垂直于该轴线。7.如权利要求6所述的离心风扇，其中该叶轮具有一转动直径，其中该转折点至该第一交点的连线和该轴线相交于一直交点，该直交点至该叶轮的中心具有一垂直距离，该垂直距离相对该转动直径的范围介于0.1至0.35。8.如权利要求6所述的离心风扇，其中该转折点至该第一交点的连线和该轴线相交于一直交点，该转折点和该直交点相对该叶轮的中心形成一第一夹角，该第一夹角的范围介于35
°
至65
°
。9.如权利要求6所述的离心风扇，其中该转折点至该第一交点的连线和该轴线相交于一直交点，该第二...

【专利技术属性】
技术研发人员：李金鸿，詹智伟，张雅婷，
申请(专利权)人：台达电子工业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：