一种磁体镀膜装置制造方法及图纸

技术编号:37055777 阅读:13 留言:0更新日期:2023-03-29 19:32
本实用新型专利技术涉及镀膜技术领域,尤其是一种磁体镀膜装置,包括主体,驱动电机和密封盖,所述主体的上方设有真空镀膜罐,所述真空镀膜罐固定连接所述主体,所述真空镀膜罐的内部设有均匀环绕分布的镀膜组件,所述镀膜组件固定连接所述真空镀膜罐,所述真空镀膜罐的顶部设有所述密封盖,所述密封盖活动连接所述真空镀膜罐,所述密封盖的下方设有吸热件,所述主体的内部设有所述驱动电机;最终使得高温辐射无法对磁体进行长时间的加热,避免了磁体受到高温的影响从而降低其磁性,进而保证了磁体的质量;最终使得翻转架所放置的磁体受到了镀膜组件多方向地辐射镀膜,进而提高了镀膜的效率。进而提高了镀膜的效率。进而提高了镀膜的效率。

【技术实现步骤摘要】
一种磁体镀膜装置


[0001]本技术涉及镀膜
,尤其涉及一种磁体镀膜装置。

技术介绍

[0002]钕铁硼磁体是磁体的一种,钕铁硼磁体是一种磁性功能材料,其耐蚀性差且磁性结构易受温度影响;采用真空镀膜的方式可以在钕铁硼磁体表面进行防腐性金属膜层和功能性金属膜层的电镀;真空溅镀是由电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞,电离出大量的氩离子和电子,电子飞向基片;氩离子在电场的作用下加速轰击靶材,溅射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉积在基片上成膜,而最终达到对基片表面镀膜的目的。
[0003]现有的磁体镀膜装置,在镀膜时,有时需加热基片,而真空腔体内的高温热量会辐射到磁体上从而使得磁体的磁场受到影响进而会降低磁体的质量,同时在辐射镀膜的过程中,只能对磁体一面进行镀膜,进而限制了磁体镀膜的效率。

技术实现思路

[0004]针对现有技术中对于存在的上述问题,现提供一种磁体镀膜装置。
[0005]具体技术方案如下:
[0006]设计一种磁体镀膜装置,包括主体,驱动电机和密封盖,所述主体的上方设有真空镀膜罐,所述真空镀膜罐固定连接所述主体,所述真空镀膜罐的内部设有均匀环绕分布的镀膜组件,所述镀膜组件固定连接所述真空镀膜罐,所述真空镀膜罐的顶部设有所述密封盖,所述密封盖活动连接所述真空镀膜罐,所述密封盖的下方设有吸热件,所述主体的内部设有所述驱动电机。
[0007]优选的,所述驱动电机的输出端设有联动轴,所述联动轴固定连接所述驱动电机,所述联动轴洞穿活动连接所述真空镀膜罐的底部。
[0008]优选的,所述真空镀膜罐的内部设有底板,所述底板被所述联动轴洞穿活动连接,所述底板的内部设有驱动齿轮,所述驱动齿轮固定连接所述联动轴。
[0009]优选的,所述驱动齿轮的外部设有均匀环绕分布的联动齿轮,所述联动齿轮均啮合连接所述驱动齿轮。
[0010]优选的,所述驱动齿轮和所述联动齿轮活动连接所述底板的内部,所述驱动齿轮和所述联动齿轮的上方均设有固定连接的翻转立柱。
[0011]优选的,所述翻转立柱的外部设有翻转架,所述翻转架固定连接所述翻转立柱。
[0012]优选的,所述密封盖固定连接所述吸热件,所述吸热件位于所述真空镀膜罐的内部,所述吸热件的内部设有冷却管。
[0013]上述技术方案具有如下优点或有益效果:
[0014]1、通过设置的主体和密封盖,在镀膜组件对翻转架上所放置的磁体进行高温辐射镀膜后,高温会在真空镀膜罐内的顶部聚集,同时冷却管的端口连接泵体从而对吸热件进
行降温,进而使得热量将被吸热件吸收,最终使得高温辐射无法对磁体进行长时间的加热,避免了磁体受到高温的影响从而降低其磁性,进而保证了磁体的质量。
[0015]2、通过设置的主体和驱动电机,驱动电机运作后使得驱动齿轮以及联动齿轮进行旋转,从而使得其对应上方的翻转立柱和翻转架进行旋转,配合运作的镀膜组件,最终使得翻转架所放置的磁体受到了镀膜组件多方向地辐射镀膜,进而提高了镀膜的效率。
附图说明
[0016]参考所附附图,以更加充分的描述本技术的实施例。然而,所附附图仅用于说明和阐述,并不构成对本技术范围的限制。
[0017]图1为本技术提出的一种磁体镀膜装置的整体结构示意图;
[0018]图2为本技术提出的一种磁体镀膜装置的主体部分内部结构示意图;
[0019]图3为本技术提出的一种磁体镀膜装置的真空罐内部结构示意图;
[0020]图4为本技术提出的一种磁体镀膜装置的联动底盘及其物件结构示意图;
[0021]图5为本技术提出的一种磁体镀膜装置的密封盖体结构示意图。
[0022]上述附图标记表示:主体10;真空镀膜罐11;镀膜组件12;驱动电机20;联动轴21;底板22;驱动齿轮23;联动齿轮24;翻转立柱25;翻转架26;密封盖30;吸热件31;冷却管32。
具体实施方式
[0023]下面将结合本技术实施例中的附图,对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例,都属于本技术保护的范围。
[0024]需要说明的是,在不冲突的情况下,本技术中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。
[0025]下面结合附图和具体实施例对本技术作进一步说明,但不作为本技术的限定。
[0026]参照图1

5,一种磁体镀膜装置,包括主体10,驱动电机20和密封盖30,主体10的上方设有真空镀膜罐11,真空镀膜罐11固定连接主体10,真空镀膜罐11的内部设有均匀环绕分布的镀膜组件12,镀膜组件12固定连接真空镀膜罐11,真空镀膜罐11的顶部设有密封盖30,密封盖30活动连接真空镀膜罐11,密封盖30的下方设有吸热件31,主体10的内部设有驱动电机20;在主体10的顶部设有控制组件用于对整个物件进行控制,真空镀膜罐11的两侧设有衔接端口,用于通过线路连接真空镀膜罐11内部的镀膜组件12,从而使得其运作对翻转架26所放置的磁体进行高温辐射镀膜。
[0027]进一步的,驱动电机20的输出端设有联动轴21,联动轴21固定连接驱动电机20,联动轴21洞穿活动连接真空镀膜罐11的底部;驱动电机20通过电线连接主体10上方的控制组件,并受其控制。
[0028]进一步的,真空镀膜罐11的内部设有底板22,底板22被联动轴21洞穿活动连接,底板22的内部设有驱动齿轮23,驱动齿轮23固定连接联动轴21;底板22整体固定连接在真空镀膜罐11的底部,且驱动齿轮23和联动轴21固定连接后是活动连接在底板22的内部,活动
连接处设有轴承。
[0029]进一步的,驱动齿轮23的外部设有均匀环绕分布的联动齿轮24,联动齿轮24均啮合连接驱动齿轮23;驱动齿轮23和联动齿轮24都是活动连接在底板22的内部,进而可以进行旋转。
[0030]进一步的,驱动齿轮23和联动齿轮24活动连接底板22的内部,驱动齿轮23和联动齿轮24的上方均设有固定连接的翻转立柱25;翻转立柱25贯穿活动连接在底板22的顶部,并在其内部贯穿固定连接了对应的驱动齿轮23和联动齿轮24,从而使得驱动齿轮23和联动齿轮24活动连接底板22的内部,同时底板22也开设有容纳驱动齿轮23和联动齿轮24的空腔。
[0031]进一步的,翻转立柱25的外部设有翻转架26,翻转架26固定连接翻转立柱25;翻转架26开设有均匀分布的孔洞用于放置磁体,且翻转架26卡接在翻转立柱25的两侧,使得翻转架26与翻转立柱25固定连接,也便于镀膜后取出磁体。
[0032]进一步的,密封盖30固定连接吸热件31,吸热件31位于真空镀膜罐11的内部,吸热件31的内部设有冷却管32;密封盖30本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种磁体镀膜装置,其特征在于:包括主体(10),驱动电机(20)和密封盖(30),所述主体(10)的上方设有真空镀膜罐(11),所述真空镀膜罐(11)固定连接所述主体(10),所述真空镀膜罐(11)的内部设有均匀环绕分布的镀膜组件(12),所述镀膜组件(12)固定连接所述真空镀膜罐(11),所述真空镀膜罐(11)的顶部设有所述密封盖(30),所述密封盖(30)活动连接所述真空镀膜罐(11),所述密封盖(30)的下方设有吸热件(31),所述主体(10)的内部设有所述驱动电机(20)。2.根据权利要求1所述的一种磁体镀膜装置,其特征在于:所述驱动电机(20)的输出端设有联动轴(21),所述联动轴(21)固定连接所述驱动电机(20),所述联动轴(21)洞穿活动连接所述真空镀膜罐(11)的底部。3.根据权利要求2所述的一种磁体镀膜装置,其特征在于:所述真空镀膜罐(11)的内部设有底板(22),所述底板(22)被所述联动轴(21)洞...

【专利技术属性】
技术研发人员:唐显辉
申请(专利权)人:杭州中磁科技有限公司
类型:新型
国别省市:

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