一种双工位全自动晶片表面缺陷视觉检测设备制造技术

本实用新型专利技术公开了一种双工位全自动晶片表面缺陷视觉检测设备，包括：相互平行设置的两条用于传输料盘的传送流水线，沿料盘传送方向依次设置的上料单元、测高机构、视觉检测机构、激光标定机构、人工干预单元以及收料单元；上料单元及收料单元与所述传送流水线配合完成晶片的上料和下料，测高机构用于检测料盘内晶片的位置并传送晶片的位置信息至视觉检测机构，视觉检测机构用于拍照检测料盘内晶片是否存在不良品，当视觉检测机构检测到晶片为不良品时，激光标定机构形成十字光标用于标记不良品晶片的位置。本实用新型专利技术提供的双工位全自动晶片表面缺陷视觉检测设备，对晶片外观缺陷视觉检测，代替人工显微镜目检，实现高效、高准确率的表面检测。确率的表面检测。确率的表面检测。

【技术实现步骤摘要】
一种双工位全自动晶片表面缺陷视觉检测设备


[0001]本技术涉及半导体制造的
，特别是涉及一种双工位全自动晶片表面缺陷视觉检测设备。

技术介绍

[0002]在半导体制造行业，CMOS晶片和具有镜面表面的芯片产品，在生产过程中外观缺陷检查，目前几乎全是人工借助显微镜目检，近两年随着产量的飞速增长，人工检查的效率和准确率已无法满足生产需求，漏检、二次污染和人工周转损坏数量也相应越来越多，另外，由于检查项目多，缺陷情况分散不易判断，人工目检必需是熟练的质检人员才能胜任，人力的短缺也同样限制了生产进程。

技术实现思路

[0003]本技术主要解决的技术问题是提供一种双工位全自动晶片表面缺陷视觉检测设备，对晶片外观缺陷进行视觉检测，代替人工显微镜目检，实现高效、高准确率的表面检测。
[0004]为解决上述技术问题，本技术采用的一个技术方案是：提供一种双工位全自动晶片表面缺陷视觉检测设备，包括：相互平行设置的两条用于传输料盘的传送流水线，沿料盘传送方向依次设置的上料单元、测高机构、视觉检测机构、激光标定机构、人工干预单元以及收料单元本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种双工位全自动晶片表面缺陷视觉检测设备，其特征在于，包括：相互平行设置的两条用于传输料盘的传送流水线，沿料盘传送方向依次设置的上料单元、测高机构、视觉检测机构、激光标定机构、人工干预单元以及收料单元；所述上料单元及收料单元与所述传送流水线配合完成晶片的上料和下料，所述测高机构用于检测料盘内晶片的位置并传送晶片的位置信息至所述视觉检测机构，所述视觉检测机构用于拍照检测料盘内晶片是否存在不良品，当所述视觉检测机构检测到晶片为不良品时，所述激光标定机构形成十字光标用于标记不良品晶片的位置，以便于在人工干预单元对不良品晶片进行剔除。2.根据权利要求1所述的双工位全自动晶片表面缺陷视觉检测设备，其特征在于，所述上料单元包括设置于传送流水线支架上的上料仓、滑动设置于送流水线支架上的用于承托所述料盘的托盘支架、用于推动托盘支架运动的推送气缸以及设置于上料仓下方用于顶起料盘的第一顶升机构，所述传送流水线支架上设置有托盘承板，所述托盘承板上设置有第一导轨，所述托盘支架与所述第一导轨滑动连接且与推送气缸的输出端相连接。3.根据权利要求2所述的双工位全自动晶片表面缺陷视觉检测设备，其特征在于，所述托盘承板为“U”字型结构，所述料盘侧面设置有与所述托盘支架相配合的托举缺口，两组所述托盘承板在所述推送气缸的带动下做相向运动以托举多层所述料盘。4.根据权利要求1所述的双工位全自动晶片表面缺陷视觉检测设备，其特征在于，所述上料仓由对称设置于传送流水线支架上的四根“L”型立板合围形成。5.根据权利要求1所述的双工位全自动晶片表面缺陷视觉检测设备，其特征在于，所述测高机构包括跨设于传送流水线支架上的测高支架、设置于测高支架上的两条第二直线导轨、设置于两条第二直线导轨之间的传动齿条、步进电机以及激光位移传感器，所述步进电机的电机轴上设置有与所述传动齿条相啮合的传动齿轮，所述步进电机设置于电机安装板上，所述电机安装板的两端分别与第二直线导轨上的滑块相连接，所述激光位移传感器设置于电机安装板的侧边用于检测料盘内晶片的高度。6.根据权利要求1所述的双工位全自动晶片表面缺陷视觉检测设备，其特征在于，所述视觉检测机构包括跨设于两条传送流水线上方...

【专利技术属性】
技术研发人员：李孟超，许乐乐，王兴华，
申请(专利权)人：苏州河图电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：