表面处理设备制造技术

一种形成一疏水层于待处理物的表面处理设备，其特征在于，至少包含：　　　　一清洗单元，其进行一清洗程序以清洁一待处理物的表面；　　　　一疏水层形成单元，其进行一疏水层形成程序以形成一疏水层于待处理物之上；以及　　　　一第一热处理单元。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种表面处理设备，特别是一种用于形成一疏水层于待处理物的表面处理设备。
技术介绍
一般而言，一平面显示器具有一盖板或保护层，以便保护平面显示器的内部结构不受外界因素的影响，进而延长产品的寿命。其中，有机发光显示器是一种利用有机官能性材料(organic functionalmaterials)的自发光的特性来达到显示效果的显示器，依照有机官能性材料的分子量不同，可分为小分子有机发光显示器(small moleculeOLED，SM-OLED)与高分子有机发光显示器(polymer light-emittingdevice，PLED)两大类。此外，依照有机发光显示器的驱动方式也可分为主动驱动有机发光显示器(AM-OLED)与被动驱动有机发光显示器(PM-OLED)。而此有机官能性材料对外界的水气特别敏感，所以有机发光显示器的盖板或保护层必须能够防止外界的水气进入其中。如图1所示，现有的有机发光显示器1包括一基板11、一第一电极12、一有机官能层13、一第二电极14以及一盖板15。其中，基板11与第一电极12为透光材质，而第一电极12及第二电极14分别作为阳极与阴极；当施以一电流于有机发光显示器1时，电洞由第一电极12注入，同时电子由第二电极14注入，此时，由于外加电场所造成的电位差，使得载子在有机官能层13中移动、相遇而产生再结合，而由电子与电洞结合所产生的激子(exciton)能够激发有机官能层13中的发光分子，然后激发态的发光分子以光的形式释放出能量，最后，盖板15通过一封胶层151而黏设于基板11上，封胶层151通常为紫外光硬化胶，如环氧树脂(epoxy)。此时，基板11、盖板15及封胶层151形成一密闭空间(airtight space)，而第一电极12、有机官能层13及第二电极14设于密闭空间中。然而，由于紫外光硬化胶中的主要成份环氧树脂的分子结构与玻璃基板有较大的差异，因此其接着度较差；另外，因为紫外光硬化胶材料本身的限制，使得封胶层与基板及盖板的接着度不佳，外界的水气还是会从其接合处进入有机发光显示器内，进而造成日后有机发光显示器的品质劣化。除此之外，若蒸镀设备中残余的水气蓄积在封胶层与盖板及基板间，则由于盖板和基板间的距离很小，因此水气会因毛细现象而蓄积于此一死角，不易去除。另一方面，为了减少封装时平面显示面板的各元件上的污染物，盖板或基板于封装前需要经过一清洗程序，例如是利用具有清洁液的湿式清洗设备所进行的湿式清洗程序，或是利用电浆或是紫外线照射处理的干式清洗设备所进行的干式清洗程序。但是，无论干式或湿式清洁程序，盖板或基板表面皆会形成亲水性的表面，使得空气中的水气或是挥发性的污染物容易沾附在盖板或基板的表面上，进而影响封胶层于封装时的接着力。而由于封胶层与盖板的接着强度较差，因此水气便容易从此界面进入有机发光显示器中，造成显示器品质的劣化。上述的问题同样会存在如图2所示的另一种现有的有机发光显示器2，其包括一基板11、一第一电极12、一有机官能层13、一第二电极14以及一保护层25。其中，保护层25与基板11构成一密闭空间，且第一电极12、有机官能层13及第二电极14位于密闭空间中，此时，水气便容易从保护层25与基板11的接着界面进入有机发光显示器2中，并造成前述的问题。为解决上述问题，经本专利技术表面处理后的平面显示面板，其具有一疏水层。例如但不限于，如图3所示，有机发光显示器3于盖板15上形成有疏水层16。承上所述，本专利技术将揭露一种形成一疏水层于待处理物的「表面处理设备」。
技术实现思路
有鉴于上述课题，本专利技术的目的在于克服现有技术的不足与缺陷，提供一种形成一疏水层于待处理物的表面处理设备。为达上述目的，依本专利技术的表面处理设备至少包含一清洗单元、一疏水层形成单元、及一第一热处理单元。在本专利技术中，待处理物先被传送至清洗单元中，以进行一清洗程序来清洁待处理物的表面；接着，待处理物自清洗单元传送至疏水层形成单元，且在疏水层形成单元中进行一疏水层形成程序以形成一疏水层于待处理物之上；最后，待处理物再自疏水层形成单元传送至第一热处理单元，以便干燥疏水层。上述的待处理物包含盖板、基板、形成有发光区的基板或平面显示面板。本专利技术清洗单元、疏水层形成单元及第一热处理单元可为一丛簇式(Cluster)配置或一直线式配置。承上所述，因依本专利技术的表面处理设备是于现有的清洗单元之后再设置疏水层形成单元，所以，在进行清洗程序来处理待处理物的表面后，能够于待处理物的亲水性表面上形成一疏水层，以避免空气中的水气或是挥发性的污染物沾附在待处理物的表面上，进而改善封胶层或保护层于封装时的接着力，故能够降低水气从此界面进入平面显示面板的机会，以提升平面显示面板的品质。附图说明图1为一示意图，显示现有的有机发光显示器的结构；图2为一示意图，显示另一现有的有机发光显示器的结构；图3为一示意图，显示具有疏水层的有机发光显示器的结构；图4A至4I为示意图，显示依本专利技术较佳实施例的表面处理设备的示意图，其为于待处理物上形成疏水层，其中待处理物为盖板、形成有发光区的基板或平面显示面板；图5为一示意图，显示依本专利技术另一较佳实施例的表面处理设备的示意图，其中清洗单元为一干式清洗单元；图6为一示意图，显示依本专利技术另一较佳实施例的表面处理设备的示意图，其中清洗单元为一湿式清洗单元；图7为一示意图，显示依本专利技术另一较佳实施例的表面处理设备的示意图，其中清洗单元为一干式清洗单元，且更利用传送单元来传送储存有数个待处理物的储存盒；图8为一示意图，显示依本专利技术另一较佳实施例的表面处理设备的示意图，其中清洗单元为一湿式清洗单元，且更利用传送单元来传送储存有数个待处理物的储存盒。图中符号说明1 有机发光显示器11基板12第一电极13有机官能层14第二电极15盖板151 封胶层16疏水层2 有机发光显示器25保护层3 有机发光显示器4 表面处理设备41清洗单元411 干式清洗单元413 湿式清洗单元42疏水层形成单元 43第一热处理单元44第一装载单元45第一卸载单元46第二热处理单元47第二卸载单元48传送单元49第二装载单元5 表面处理设备6 表面处理设备7 表面处理设备8 表面处理设备具体实施方式以下将参照相关附图，说明依本专利技术较佳实施例的表面处理设备，其中相同的元件将以相同的参照符号加以说明。请参照图4A所示，依本专利技术较佳实施例的表面处理设备4包括一清洗单元41、一疏水层形成单元42以及一第一热处理单元43。在本实施例中，表面处理设备4用以形成一疏水层于平面显示器，其将待处理物依序经过清洗单元41、疏水层形成单元42及第一热处理单元43。如前所述，平面显示器依序包含一基板、至少一发光区以及一盖板，或是依序包含一基板、至少一发光区以及至少一保护层；本实施例的待处理物是一盖板15，其材质选自玻璃、塑料及金属至少其中之一。热处理单元用以使疏水层干燥、固化或交联(crosslinking)。在清洗单元41中，进行一清洗程序以清洁盖板15的表面。在本实施例中，清洗单元41中所进行的清洗程序可以是干式清洗程序或是湿式清洗程序，例如，可以利用电浆或是紫外线照射处理的干式清洗单元来执行干式清洗程序，或是利用具有清洁液的湿式清本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：郑同昇，苏怡帆，林燕华，段继贤，
申请(专利权)人：铼宝科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：