用于厚膜介电电致发光显示器的阻挡层制造技术

一种厚膜介电电致发光显示器的子结构，该子结构顺序包括：　　　　基板　　　　阻挡层；　　　　下部电极；和　　　　厚膜介电层，　　　　所述阻挡层关于所述基板和下部电极具有化学惰性，所述阻挡层抑制至少一种化学物质扩散穿过那里。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及厚膜介电电致发光显示器。具体的，本专利技术涉及一种用于厚膜介电电致发光显示器的阻挡层，和涉及一种包括这种阻挡层的厚膜介电电致发光显示器。
技术介绍
例如用于电视应用的大面积厚膜介电电致发光显示器的制造，要求基板能够制造在大的面积上，同时在制造过程的热处理步骤中仍旧保持它们的尺寸稳定性。特别的，为了降低这些显示器的制造成本，表现这些特性的低成本的基板是优选的。在厚膜介电电致发光显示器中，通过在荧光层的相对侧上的选定地址行和选定地址列之间施加电压来寻址一个显示像素，荧光层夹在两个介电层之间，其中一个介电层为厚膜介电层。所施加的电压在位于选定行和列位置的交点的像素处产生一个穿过荧光膜的电场。当跨像素的电压超过一个阈值电压时，来自在荧光层和一个相邻介电层之间的接触面的电子射入到荧光层，使它电导通并且使全部施加电压跨越两个介电层。厚膜介电电致发光显示器一般构建在玻璃、玻璃陶瓷、陶瓷、其它耐热基板或类似基板上。显示器的制造过程首先需要将一组下部电极沉积在基板上。接下来使用在美国专利5,432,015(其全文在此引入作为参考)中示例说明的沉积技术，沉积一厚膜介电层。随后沉积一种薄本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

【专利技术属性】
技术研发人员：浜田弘喜，吉田功，丹尼尔·J·西尔，张辉，杨迈之，叶羽丰，李武，威廉·M·斯梅，
申请(专利权)人：伊菲雷技术公司，三洋电机株式会社，
类型：发明
国别省市：