有机发光显示器的制造方法技术

本发明专利技术涉及一种制造用于激光诱发热成像（ＬＩＴＩ）工艺的供体基板的方法。该方法包括：制备供体基板的基底基板；在基底基板上形成光热转换层；在光热转换层上形成缓冲层；通过处理缓冲层的表面增加缓冲层的表面粗糙度；和在经表面处理的缓冲层上形成转印层。通过使用供体基板，在制造ＯＬＥＤ期间可以更好地进行构图工艺。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种有机发光显示器(OLED)的制造方法，更具体而言，涉及一种利用具有经表面处理的缓冲层的供体基板的OLED的制造方法。
技术介绍
在平板显示器(FPD)中，不考虑其尺寸，有机发光显示器(OLED)非常适合用做显示移动图像的介质，因为OLED具有1毫秒或更小的快速响应速度和宽视角，消耗低功率，且是发射显示器。而且，可以在低温下和以基于常规半导体制造技术的简单的工艺制造OLED。为此，OLED作为下一代平板显示器(FPD)已经吸引了许多的注意力。依据用于有机发光装置的材料和工艺的类型，可以将OLED大致分为使用湿工艺的聚合物类型和使用沉积工艺的小分子类型。如果发射层(EML)由小分子材料形成，它可以在真空中利用荫罩沉积。如果EML由聚合物材料形成，它可以由喷墨方法形成。但是，利用荫罩难于在大尺寸的基板上进行真空沉积工艺。而且，因为喷墨打印方法是湿工艺，下层应只由有限种类的材料形成，且在基板上一定应形成岸状(bank)结构。作为构图EML的上述的方法的替代，最近已经开发了一种激光诱发热成像(LITI)工艺。在LITI工艺期间，通过利用从光源辐射的激光束将图案形成材料转印本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种制造用于激光诱发热成像工艺的供体基板的方法，包括：制备基底基板；在所述基底基板上形成光热转换层；在所述光热转换层上形成缓冲层；增加所述缓冲层的表面粗糙度；和在经表面处理的所述缓冲层上形成转印层。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：宋明原，李城宅，陈炳斗，姜泰旻，李在濠，金茂显，
申请(专利权)人：三星SDI株式会社，
类型：发明
国别省市：KR[韩国]