一种防滑耐污瓷砖及其制备方法技术

本发明专利技术公开了一种防滑耐污瓷砖的制备方法，其包括：制备坯体，在坯体上依次施加底釉、印刷图案、施加保护釉，然后经干燥、烧成得到瓷砖坯体；进而先采用第一目数的树脂磨片进行粗磨抛光，然后在所述半成品的表面加入防滑液，采用第二目数的树脂磨片进行细磨抛光；其中，保护釉以重量份计包括以下原料：熔块40

【技术实现步骤摘要】
一种防滑耐污瓷砖及其制备方法


[0001]本专利技术涉及陶瓷砖
，尤其涉及一种防滑耐污瓷砖及其制备方法。

技术介绍

[0002]目前市面上销售占比较高的陶瓷砖为抛釉砖，抛釉砖是一种可以在釉面进行抛光工序的一种特殊配方釉，它是施于仿古砖的最后一道釉料，一般为透明面釉或透明凸状花釉，由于施于抛釉的抛釉砖表面是层薄釉，表面光滑，瓷质硬度却不够高，其缺点为：1.遇水极易滑溜，会造成摔倒摔伤等安全隐患问题；2.表面需打防污蜡，铺贴时还需除蜡，降低施工进度。
[0003]目前防滑陶瓷砖的方法主要由以下几种：1.采用腐蚀性液体处理成品砖表面，使砖面形成微孔结构；但此法破坏了瓷砖的釉层，降低了砖面光泽度，制备的瓷砖防污性能反而变差；2.在瓷砖施以止滑釉料，此法制备的瓷砖烧结后能够使砖面上形成均匀细小的点状凹凸釉面，从而产生防滑效果；但却降低瓷砖表面的光泽度；3.在砖面涂抹防滑涂层，以此提高砖面的摩擦系数；但普遍存在防滑涂层与砖面的附着力差、耐久性不好，而且涂层的通透性可能会影响砖面原有的装饰性。即现有技术难以同时实现光泽度不变、低粗糙度、高耐污性和高防滑性。

技术实现思路

[0004]本专利技术所要解决的技术问题在于，提供一种防滑耐污瓷砖及其制备方法，其制备得到的防滑耐污瓷砖釉面光泽度不变，表面粗糙度低，耐污性和防滑性能优良。
[0005]为了解决上述技术问题，本专利技术公开了一种防滑耐污瓷砖的制备方法，其包括：
[0006](1)制备坯体；
[0007](2)在所述坯体上施加底釉，得到底釉层；
[0008](3)在所述底釉层上印刷图案，得到图案层；
[0009](4)在所述图案层上施加保护釉，得到保护釉层；
[0010](5)将带有底釉层、图案层、保护釉层的坯体经干燥、烧成后得到瓷砖坯体；
[0011](6)采用第一目数的树脂磨片对所述瓷砖坯体进行粗磨抛光，得到半成品；
[0012](7)在所述半成品的表面加入防滑液，采用第二目数的树脂磨片对其进行细磨抛光，得到防滑耐污瓷砖；
[0013]其中，所述保护釉以重量份计包括以下原料：熔块40
‑
50份、悬浮胶水60
‑
80份，巴西棕榈蜡乳液4
‑
7份，渗透剂1
‑
3份，添加剂15
‑
20份；
[0014]所述熔块的粒度≤250目。
[0015]作为上述方案的改进，所述保护釉的化学成分按重量百分比包括：SiO
2 70
‑
75％、Al2O
3 11.2
‑
14.3％、Fe2O
3 0.1
‑
0.2％、TiO
2 0.03
‑
0.06％、CaO 3
‑
5％、MgO 2
‑
3％、ZnO 4
‑
6％、BaO 2.8
‑
5.4％、SrO
2 0.03
‑
0.05％、K2O 0.5
‑
2％、Na2O 1.2
‑
2.5％。
[0016]作为上述方案的改进，所述防滑液主要由以下质量百分比的原料制成：
[0017]有机硅烷4
‑
6％，阳离子聚电解质0.4
‑
0.8％，二氧化硅溶胶3
‑
5％，乳化剂0.2
‑
0.6％，水88
‑
92％，余量为有机酸。
[0018]作为上述方案的改进，所述防滑液的由下述方法制得：
[0019](1)将有机硅烷、水和一半量的阳离子聚电解质混合反应，得到羟基化硅树脂；
[0020](2)向所述羟基化硅树脂中加入乳化剂和剩余的阳离子聚电解质，得到混合硅树脂；
[0021](3)向所述混合硅树脂中加入二氧化硅溶胶和有机酸，得到防滑液。
[0022]作为上述方案的改进，所述有机硅烷为烷基卤硅烷，所述烷基卤硅烷中的烷基的碳数为1
‑
5；
[0023]所述有机酸为甲酸、乙酸、丙酸、草酸、柠檬酸、苯甲酸和苯磺酸中的一种或多种；
[0024]所述阳离子聚电解质为聚乙烯亚胺、聚乙烯胺、聚乙烯吡啶中的一种或多种；
[0025]所述乳化剂为脂肪醇聚氧乙烯醚、烷基酚聚氧乙烯醚、聚氧乙烯烷醇酰胺、十二烷基苯磺酸钠、十二烷基硫酸钠中的一种或多种。
[0026]作为上述方案的改进，所述渗透剂为脂肪醇聚氧乙烯醚、烷基酚聚氧乙烯醚、聚氧乙烯烷醇酰胺、十二烷基苯磺酸钠、十二烷基硫酸钠中的一种或多种。
[0027]作为上述方案的改进，所述添加剂由以下重量份的原料制成：长石15
‑
20份，石英5
‑
10份，烧滑石4
‑
6份，碳酸钡2
‑
3份，煅烧氧化锌5
‑
7份，高岭土5
‑
10份。
[0028]作为上述方案的改进，所述第一目数为150
‑
300目；所述第二目数为800
‑
1200目；
[0029]所述熔块的粒度为300
‑
350目；
[0030]所述熔块的325筛筛余≤0.5％，比重为1.8
‑
1.85g/mL，流速为70
‑
100s
[0031]作为上述方案的改进，所述防滑耐污瓷砖的干法静摩擦系数≥0.86，湿法静摩擦系数≥0.9；耐污性≥5级。
[0032]相应的，本专利技术还公开了一种防滑耐污瓷砖，其采用上述的制备方法制备而得；
[0033]所述防滑耐污瓷砖的干法静摩擦系数≥0.86，湿法静摩擦系数≥0.9；耐污性≥5级。
[0034]实施本专利技术，具有如下有益效果：
[0035]本专利技术提供了一种防滑耐污瓷砖的制备方法，通过保护釉中SiO2含量提升至70
‑
75wt％，同时配合巴西棕榈蜡乳液，可以提高釉面的附着力，增强瓷砖表面防滑效果。
[0036]进一步的，在细磨抛光工艺中滴加防滑液对瓷砖表面进行细磨和抛光，能够在强压渗入瓷砖表面容易藏污纳垢的微小孔隙，将其填补平，同时防滑液在磨片的高速螺旋摩擦下不断升温，与具有附着力的釉面互相作用不断堆积，形成纳米型微针状凸起，在瓷砖表面起到防滑耐污作用。
[0037]本专利技术提供了一种防滑耐污瓷砖的制备方法，通过保护釉以及防滑液两者的协同作用，在保证瓷砖光泽度不变的情况下，降低表面粗糙度，提升了瓷砖的防滑耐污性能，所制得的防滑耐污瓷砖的干法静摩擦系数≥0.86，湿法静摩擦系数≥0.9；耐污性≥5级。
具体实施方式
[0038]为使本专利技术的目的、技术方案和优点更加清楚，下面对本专利技术作进一步地详细描述。仅此声明，本专利技术在文中出现或即将出现的上、下、左、右、前、后、内、外等方位用词本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种防滑耐污瓷砖的制备方法，其特征在于，包括：(1)制备坯体；(2)在所述坯体上施加底釉，得到底釉层；(3)在所述底釉层上印刷图案，得到图案层；(4)在所述图案层上施加保护釉，得到保护釉层；(5)将带有底釉层、图案层、保护釉层的坯体经干燥、烧成后得到瓷砖坯体；(6)采用第一目数的树脂磨片对所述瓷砖坯体进行粗磨抛光，得到半成品；(7)在所述半成品的表面加入防滑液，采用第二目数的树脂磨片对其进行细磨抛光，得到防滑耐污瓷砖；其中，所述保护釉以重量份计包括以下原料：熔块40
‑
50份、悬浮胶水60
‑
80份，巴西棕榈蜡乳液4
‑
7份，渗透剂1
‑
3份，添加剂15
‑
20份；所述熔块的粒度≤250目。2.如权利要求1所述的防滑耐污瓷砖的制备方法，其特征在于，所述保护釉的化学成分按重量百分比包括：SiO
2 70
‑
75％、Al2O
3 11.2
‑
14.3％、Fe2O30.1
‑
0.2％、TiO
2 0.03
‑
0.06％、CaO 3
‑
5％、MgO 2
‑
3％、ZnO 4
‑
6％、BaO 2.8
‑
5.4％、SrO 2 0.03
‑
0.05％、K2O 0.5
‑
2％、Na2O 1.2
‑
2.5％。3.如权利要求1所述的防滑耐污瓷砖的制备方法，其特征在于，所述防滑液主要由以下质量百分比的原料制成：有机硅烷4
‑
6％，阳离子聚电解质0.4
‑
0.8％，二氧化硅溶胶3
‑
5％，乳化剂0.2
‑
0.6％，水88
‑
92％，余量为有机酸。4.如权利要求3所述的防滑耐污瓷砖的制备方法，其特征在于，所述防滑液的由下述方法制...

【专利技术属性】
技术研发人员：彭天奎，李淑贤，魏曹中，
申请(专利权)人：佛山碧虎大理石瓷砖有限公司，
类型：发明
国别省市：