一种清理设备制造技术

本实用新型专利技术涉及晶硅生产领域，公开了一种清理设备，包括：刷头部分，升降装置，集尘桶，吸尘管和移动承载车；其中，所述刷头部分设置在所述升降装置的顶端，由所述升降装置带动所述刷头部分进行升降活动；所述升降装置设置在所述移动承载车上；所述吸尘管连接所述刷头部分和所述集尘桶，所述集尘桶内嵌在所述移动承载车上。本实用新型专利技术中，通过机械装置对单晶炉副室内壁进行清洁，及时吸收清洁下来的杂质，防止清洁后有挥发物飘散，从而保证单晶炉炉体周围的环境卫生；在节省人力的同时，清洁的力度可控制，并且保证多次清洁的效果一致。并且保证多次清洁的效果一致。并且保证多次清洁的效果一致。

【技术实现步骤摘要】
一种清理设备


[0001]本技术涉及晶硅生产领域，特别涉及一种清理设备。

技术介绍

[0002]单晶炉是生产单晶硅的拉晶装置，其炉体内壁的洁净程度是影响产品质量的关键因素之一。在拉制过程中，氩气从单晶炉副室中通过流入到主室中，氩气会携带反应的挥发物顺着副室向下运动，挥发物的残留物沉积在副室内壁，这些残留物若不及时清理，会影响到硅液纯度，从而影响晶体成晶质量。然而，清理单晶炉副室时，需要人工手握顶部刷头包裹无尘纸的长杆从副室下方伸进副室内部进行内壁的清洁，而使用长杆进行清理无法保证炉体周围的环境卫生。并且，副室内壁狭长，人工作业极不方便，而且会因清洁力度不够导致清理效果不佳，有多次清洁但清洁效果不一致的情况出现。

技术实现思路

[0003]本技术的目的在于提供一种清理设备，通过机械装置对单晶炉副室内壁进行清洁，及时吸收清洁下来的杂质，防止清洁后有挥发物飘散，从而保证单晶炉炉体周围的环境卫生；在节省人力的同时，清洁的力度可控制，并且保证多次清洁的效果一致。
[0004]为解决上述技术问题，本技术的实施方式提供了一种清理设备，包含本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种清理设备，其特征在于，包括：刷头部分，升降装置，集尘桶，吸尘管和移动承载车；其中，所述刷头部分设置在所述升降装置的顶端，由所述升降装置带动所述刷头部分进行升降活动；所述升降装置设置在所述移动承载车上；所述吸尘管连接所述刷头部分和所述集尘桶，所述集尘桶内嵌在所述移动承载车上。2.根据权利要求1所述的清理设备，其特征在于，所述刷头部分为圆环形刷头，所述圆环形刷头部分的表面设有用于清理杂质的毛刷。3.根据权利要求2所述的清理设备，其特征在于，所述圆环形刷头的外直径为345mm～370mm；所述圆环形刷头的内直径为250mm～280mm。4.根据权利要求2所述的清理设备，其特征在于，所述圆环形刷头部分还包括开口...

【专利技术属性】
技术研发人员：罗永伟，陈铭，赵杰华，
申请(专利权)人：青海晶科能源有限公司，
类型：新型
国别省市：