一种清理设备制造技术

本实用新型专利技术涉及晶硅生产领域，公开了一种清理设备，包括：刷头部分，升降装置，集尘桶，吸尘管和移动承载车；其中，所述刷头部分设置在所述升降装置的顶端，由所述升降装置带动所述刷头部分进行升降活动；所述升降装置设置在所述移动承载车上；所述吸尘管连接所述刷头部分和所述集尘桶，所述集尘桶内嵌在所述移动承载车上。本实用新型专利技术中，通过机械装置对单晶炉副室内壁进行清洁，及时吸收清洁下来的杂质，防止清洁后有挥发物飘散，从而保证单晶炉炉体周围的环境卫生；在节省人力的同时，清洁的力度可控制，并且保证多次清洁的效果一致。并且保证多次清洁的效果一致。并且保证多次清洁的效果一致。

【技术实现步骤摘要】
一种清理设备


[0001]本技术涉及晶硅生产领域，特别涉及一种清理设备。

技术介绍

[0002]单晶炉是生产单晶硅的拉晶装置，其炉体内壁的洁净程度是影响产品质量的关键因素之一。在拉制过程中，氩气从单晶炉副室中通过流入到主室中，氩气会携带反应的挥发物顺着副室向下运动，挥发物的残留物沉积在副室内壁，这些残留物若不及时清理，会影响到硅液纯度，从而影响晶体成晶质量。然而，清理单晶炉副室时，需要人工手握顶部刷头包裹无尘纸的长杆从副室下方伸进副室内部进行内壁的清洁，而使用长杆进行清理无法保证炉体周围的环境卫生。并且，副室内壁狭长，人工作业极不方便，而且会因清洁力度不够导致清理效果不佳，有多次清洁但清洁效果不一致的情况出现。

技术实现思路

[0003]本技术的目的在于提供一种清理设备，通过机械装置对单晶炉副室内壁进行清洁，及时吸收清洁下来的杂质，防止清洁后有挥发物飘散，从而保证单晶炉炉体周围的环境卫生；在节省人力的同时，清洁的力度可控制，并且保证多次清洁的效果一致。
[0004]为解决上述技术问题，本技术的实施方式提供了一种清理设备，包含：刷头部分，升降装置，集尘桶，吸尘管和移动承载车；其中，所述刷头部分设置在所述升降装置的顶端，由所述升降装置带动所述刷头部分进行升降活动；所述升降装置设置在所述移动承载车上；所述吸尘管连接所述刷头部分和所述集尘桶，所述集尘桶内嵌在所述移动承载车上。
[0005]本技术实施方式相对于现有技术而言，通过将刷头部分设置在升降装置的顶端通过升降装置带动刷头部分，使得清理设备能够从单晶炉副室下方伸进单晶炉副室内进行清洁，从而代替人工清理，不仅降低清洁过程中的人力需求，而且使用机械装置清理的力度可控，保证多次清洁效果一致；通过使用吸尘管连接刷头和集尘桶，使得清理设备能够及时吸收清洁下来的杂质，防止清洁后有挥发物飘散，从而保证单晶炉炉体周围的环境卫生。
[0006]另外，所述刷头部分为圆环形刷头，所述圆环形刷头部分的表面设有用于清理杂质的毛刷。本技术实施方式通过将所述刷头部分设置为圆环形刷头，在使用所述清理设备进行清理时，所述刷头部分与单晶炉副室内壁接触，而单晶炉副室内的其他结构可穿过刷头圆环中央区域而不会接触到所述刷头部分，因而不会受到清洁动作产生的磕碰等不良影响。
[0007]另外，所述圆环形刷头部分包括毛刷和开口向上的环形凹槽；所述环形凹槽开设在所述毛刷旁边，用于收集杂质。本技术实施方式通过在环形刷头设置开口向上的环形凹槽，将所述刷头部分的所述毛刷清洁下来的杂质颗粒及时收集，从而保证清洁作业环境的卫生。
[0008]另外，所述环形凹槽内设有与所述吸尘管连接的出口。本技术实施方式通过在所述环形凹槽内设置与吸尘管连接的出口，将所述环形凹槽内收集到的杂质颗粒及时通
过吸尘管进行吸尘清理，减少收集到的杂质颗粒积因攒而溢出凹槽的情况发生，从而保证清洁作业环境的卫生。
[0009]另外，所述刷头部分的材质为镀锡钢材料。本技术实施方式通过使用镀锡钢材料制作所述刷头部分，由于镀锡层韧性和抗氧化能力强，保证需要与氧化物颗粒接触的所述刷头部分的耐腐蚀性强，从而增加所述刷头部分材料的持久和耐用程度。
附图说明
[0010]图1是本技术实施例所提供的清理设备的整体视图；
[0011]图2是本技术实施例所提供的清理设备的平面简化图。
[0012]图中：1
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刷头部分；101
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环形凹槽；102
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环形凹槽内边缘；103
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环形凹槽外边缘；2
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升降装置；3
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集尘桶；4
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吸尘管；5
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移动承载车。
具体实施方式
[0013]为使本技术的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本技术的各实施方式进行详细的阐述。然而，本领域的普通技术人员可以理解，在本技术各实施方式中，为了使读者更好地理解本申请而提出了许多技术细节。但是，即使没有这些技术细节和基于以下各实施方式的种种变化和修改，也可以实现本申请各权利要求所要求保护的技术方案。
[0014]需要说明的是，若本技术实施例中有涉及方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后
……
)，则该方向性指示仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等，如果该特定姿态发生改变时，则该方向性指示也相应地随之改变。
[0015]本技术的实施方式涉及一种清理设备，包括：刷头部分1，升降装置2，集尘桶3，吸尘管4和移动承载车5；其中，所述刷头部分1设置在所述升降装置2的顶端，由所述升降装置2带动所述刷头部分1进行升降活动；所述升降装置2设置在所述移动承载车5上；所述吸尘管4连接所述刷头部分1和所述集尘桶3，所述集尘桶3内嵌在所述移动承载车5上。如图1所示。
[0016]在一个实施例中，所述刷头部分1为圆环形刷头，所述圆环形刷头部分1的表面设有用于清理杂质的毛刷。所述圆环形刷头的外直径可以为345mm～370mm；所述圆环形刷头的内直径可以为250mm～280mm。本技术实施例通过将刷头部分设计为圆环形刷头，在使用所述清理设备进行清理时，所述清理设备刷头部分贴合单晶炉副室内壁进行清洁，而单晶炉副室内的其他热场部件可穿过刷头圆环中央区域而不会接触到所述刷头部分，使得单晶炉副室内的其他热场部件不会受到清洁动作产生的磕碰等不良影响。
[0017]在一个实施例中，所述圆环形刷头部分还包括开口向上的环形凹槽101，用于收集杂质。本技术实施例通过在所述刷头部分设开口向上的环形凹槽101，在使用所述清理设备进行清理的过程中，单晶炉副室内壁的氧化物杂质颗粒被所述刷头清洁后，在重力的作用下掉落至所述环形凹槽101内部，从而收集所述清理设备清洁下来的杂质颗粒，保证了单晶炉副室周围环境的卫生。
[0018]在一个实施例中，所述环形凹槽101内设有与所述吸尘管连接的出口。本技术实施例通过在所述环形凹槽101内部设置与吸尘管连接的出口，在使用所述清理设备进行
清理的过程中，积累在所述环形凹槽101内部的杂质颗粒能够通过出口及时被吸尘管4吸进集尘桶3内，减少因杂质颗粒积攒过多而溢出所述环形凹槽101的情况发生，从而保证单晶炉副室周围环境的卫生。需要说明的是，所述出口设置的位置位于环形凹槽101的内部，所述出口的具体设置位置可根据实际情况和需求进行设置，此处不作限制。
[0019]在一个实施例中，所述环形凹槽101内边缘102高度高于所述环形凹槽外边缘103高度。本技术实施例通过将所述环形凹槽内边缘102的高度设置高于外边缘103高度，使得环形凹槽101附近的毛刷能够清洁到单晶炉副室的内壁且氧化物杂质颗粒能够沿所述环形凹槽101内壁落入环形凹槽101中，减少因重力作用落入其他区域的氧化物杂质颗粒，从而保证单晶炉副室周围环境的卫生本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种清理设备，其特征在于，包括：刷头部分，升降装置，集尘桶，吸尘管和移动承载车；其中，所述刷头部分设置在所述升降装置的顶端，由所述升降装置带动所述刷头部分进行升降活动；所述升降装置设置在所述移动承载车上；所述吸尘管连接所述刷头部分和所述集尘桶，所述集尘桶内嵌在所述移动承载车上。2.根据权利要求1所述的清理设备，其特征在于，所述刷头部分为圆环形刷头，所述圆环形刷头部分的表面设有用于清理杂质的毛刷。3.根据权利要求2所述的清理设备，其特征在于，所述圆环形刷头的外直径为345mm～370mm；所述圆环形刷头的内直径为250mm～280mm。4.根据权利要求2所述的清理设备，其特征在于，所述圆环形刷头部分还包括开口...

【专利技术属性】
技术研发人员：罗永伟，陈铭，赵杰华，
申请(专利权)人：青海晶科能源有限公司，
类型：新型
国别省市：