一种用于半导体工艺的UV照射装置及半导体工艺设备制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种用于半导体工艺的UV照射装置及半导体工艺设备，包括：UV光源，置于待加工的半导体器件上方以沿竖直方向照射半导体器件的待加工表面；分光镜，分光镜设于UV光源与半导体器件之间，分光镜包括分别覆盖UV光源照射范围的斜面和底面，斜面设有紫外反射图层以反射UV光源发出的紫外光，底面为设有红外阻挡图层的挡板以阻挡UV光源发出的红外光透射至半导体器件的待加工表面；以及紫外反射镜，紫外反射镜与分光镜设于同一水平位置，配置用于接收分光镜反射的紫外光后，再将该些紫外光反射并覆盖至半导体器件的待加工表面。外光反射并覆盖至半导体器件的待加工表面。外光反射并覆盖至半导体器件的待加工表面。

【技术实现步骤摘要】
一种用于半导体工艺的UV照射装置及半导体工艺设备


[0001]本专利技术涉及半导体工艺设备，尤其涉及一种用于半导体工艺的UV照射装置。

技术介绍

[0002]在半导体的工艺流程中，不可避免地会需要进行紫外光的照射，即UV照射。例如，在光刻或胶体固化等工艺步骤中UV照射过程必不可少，且UV光照的质量直接影响到工艺生产的产品良率。
[0003]然而，由于UV灯在工作时除了产生工艺设备工作所需要的紫外线外，还会产生其他波段的光，而该些其他波段的光可能会对机台要进行的工艺造成干扰，需要对这些光进行额外的过滤。同时，机台在运转时，半导体器件表面能够照射到的部分各处接受照射的光学效果也不稳定，需要对光路系统进行针对性的调节，从而确保光强在各处的均匀分布，进而确保工艺生产的质量。
[0004]为了克服现有技术存在的上述缺陷，本领域亟需一种用于半导体工艺的UV照射装置，用于过滤去紫外光源中的红外光，同时增加紫外光的反射，从而减小UV灯光对半导体器件表面产生的温度影响，使得温度因素完全由加热盘进行控制，减少光照温度对工艺步骤的影响，同时可以对光路本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于半导体工艺的UV照射装置，包括：UV光源，置于待加工的半导体器件上方以沿竖直方向照射所述半导体器件的待加工表面；分光镜，所述分光镜设于所述UV光源与所述半导体器件之间，所述分光镜包括分别覆盖所述UV光源照射范围的斜面和底面，所述斜面设有紫外反射图层以反射所述UV光源发出的紫外光，所述底面为设有红外阻挡图层的挡板以阻挡所述UV光源发出的红外光透射至所述半导体器件的待加工表面；以及紫外反射镜，所述紫外反射镜与所述分光镜设于同一水平位置，配置用于接收所述分光镜反射的紫外光后，再将该些紫外光反射并覆盖至所述半导体器件的待加工表面。2.如权利要求1所述的UV照射装置，其特征在于，所述紫外反光镜的侧截面为弧面，所述弧面的凹面朝向所述分光镜及所述半导体器件，所述紫外反光镜上还设有旋转轴，所述弧面绕所述旋转轴旋转以调整所述紫外反光镜的设置角度从而调整其反射至所述半导体器件的待加工表面的紫外光的光强分布。3.如权利要求1所述的UV照射装置，其特征在于，还包括：平行光分光器或光强匀化调制器，设于所述UV光源与所述分光镜之间，以使所述UV光源照射至所述分光镜的光线平行或各处光强均匀。4.如权利要求1所述的UV照射装置，其特征在于，所述UV光源包括两条平行放置的UV灯管，所述UV灯管的长度不小于所述半导体器件的待加工表面对应方向的宽度。5.如权利要求4所述的UV照射装置，其特征在于，所述分光镜为长度与所述UV灯管相对应的条状三棱镜，所述条状三棱镜朝向上方的两个斜面分...

【专利技术属性】
技术研发人员：李蓬勃，谭华强，谈太德，
申请(专利权)人：拓荆科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：