本发明专利技术提供了一种硅管清洗装置和清洗方法，硅管清洗装置包括集液槽，集液槽的底面设有下液口；过滤器，过滤器设置在集液槽的下方并与下液口连通；输液泵，输液泵设置在集液槽的下方，输液泵的进口与过滤器连通；进液管，进液管的进口端与输液泵的出口连通，进液管的出口端位于集液槽的上方且开口朝上；回液管，回液管的进口端位于进液管的出口端的上方且开口朝下，回液管的出口端位于集液槽内且开口朝下；支杆，支杆的底部与集液槽的侧壁连接，支杆上安装两个固定夹，固定夹用于夹持固定硅管。本发明专利技术设计了一种专用于硅管的清洗装置，采用下进上出的方式通入清洗液，可以使清洗液充满管内部，对管内壁进行冲刷，实现理想的清洗效果。果。果。
【技术实现步骤摘要】
一种硅管清洗装置和清洗方法
[0001]本专利技术涉及清洗设备
，具体而言，涉及一种硅管清洗装置和清洗方法。
技术介绍
[0002]硅材料是半导体设备常用的零部件，其中扩散设备会用到许多硅材料管状零件，行业内一般称为硅管。硅管内部不干净就会影响半导体材料的性能，因此需要定期清洗。
[0003]现有技术一般采用酸液浸泡的方式进行清洗，为了使清洗更加充分，会在清洗槽中进行酸液震荡、鼓泡或对流，这种清洗模式对结构简单的零件较为适用，但对于管状零件酸液无法对管内壁形成有效冲刷，特别是大深径比的硅管内壁上会附着金属离子和有机物等杂质，现有的清洗方式效果不佳。
技术实现思路
[0004]本专利技术所要解决的问题是如何对硅质管状零件进行有效清洗。
[0005]为解决上述问题，本专利技术一方面提供一种硅管清洗装置，包括
[0006]集液槽，用于盛装清洗液，所述集液槽的底面设有下液口；
[0007]过滤器，所述过滤器设置在所述集液槽的下方并与所述下液口连通；
[0008]输液泵，所述输液泵设置在所述集液槽的下方，所述输液泵的进口与所述过滤器连通；
[0009]进液管，所述进液管的进口端与所述输液泵的出口连通，所述进液管的出口端位于所述集液槽的上方且开口朝上；
[0010]回液管，所述回液管的进口端位于所述进液管的出口端的上方且开口朝下，所述回液管的出口端位于所述集液槽内且开口朝下；
[0011]支杆，所述支杆的底部与所述集液槽的侧壁连接，所述支杆上安装两个固定夹，所述固定夹用于夹持固定硅管。
[0012]相对于现有技术，本专利技术设计了一种专用于硅管的清洗装置，由固定夹夹持固定硅管，将硅管下端与进液管连通，上端与回液管连通，采用下进上出的方式通入清洗液，可以使清洗液充满管内部，对管内壁进行冲刷，实现理想的清洗效果，输液泵用于提供清洗液流动动力，过滤器可以过滤掉清洗液中的杂质，实现集液槽内清洗液循环利用，延长清洗液的使用寿命。
[0013]在优选或可选方案中，所述进液管的出口端上设有进液接头，所述回液管的进口端上设有出液连接件，所述出液连接件包括依次设置的连接帽、连接软管和出液接头，所述连接帽安装在所述回液管的进口端上，所述进液接头和所述出液接头分别用于连接硅管的两端。出液接头与连接软管相连，高度可以调节，便于与不同长度尺寸的硅管连接，因此该清洗装置具有很好的通用性。
[0014]在优选或可选方案中，所述进液接头包括第一管座和第一通液管，所述第一管座与所述进液管连接，所述第一通液管设置在所述第一管座上并从所述第一管座顶部穿出，
所述第一通液管与所述进液管连通，所述第一通液管的外径小于所述硅管的内径，所述第一管座的外径大于等于所述硅管的外径，所述出液接头包括第二管座和第二通液管，所述第二管座与所述回液管连接，所述第二通液管设置在所述第二管座上并从所述第二管座底部穿出，所述第二通液管与所述连接软管连通，所述第二通液管的外径小于所述硅管的内径，所述第二管座的外径大于等于所述硅管的外径，所述第一管座的顶部设有第一环形垫片，所述第二管座的底部设有第二环形垫片，所述第一环形垫片和所述第二环形垫片的外径大于等于所述硅管的外径。第一通液管和第二通液管可以进入硅管内部，这样清洗液可以直接通入硅管内部，并沿着第二通液管进入连接软管，再进入回液管，在第一管座和第二管座上设置环形垫片，从而提高了进液接头和出液接头与硅管的连接密封性。
[0015]在优选或可选方案中，所述第一环形垫片具有向上凸起的第一凸台，所述第一凸台适于插入所述硅管并与所述硅管过盈连接，所述第二环形垫片具有向下凸起第二凸台，所述第二凸台适于插入所述硅管与并与所述硅管过盈连接。设置凸台可以使环形垫片与硅管形成紧密连接，避免硅管与进液接头或出液接头脱离。
[0016]在优选或可选方案中，所述支杆在高度方向上设置有多个沿厚度方向贯穿的连接孔，所述固定夹包括连接杆、第一夹持板和第二夹持板，所述第一夹持板与所述连接杆连接，所述第一夹持板和所述第二夹持板通过螺杆连接，使所述硅管夹持在所述第一夹持板和所述第二夹持板之间。两块夹持板结构可以适配与不同管径的硅管，两块夹持板通过螺杆连接夹紧效果好。
[0017]在优选或可选方案中，所述连接孔的内壁上设有内螺纹，所述连接杆与所述支杆连接的一端的外壁上设有外螺纹，所述连接杆与所述连接孔螺纹连接。连接杆与支杆装配方便，连接可靠，由于采用螺纹连接，在螺纹延伸长度范围内，连接杆相对于支杆的伸出长度可以进行调节，便于将硅管定位在合适位置与进液管和回液管进行连接。
[0018]在优选或可选方案中，所述回液管的上部置于所述管托槽内，所述支杆下部设有穿管孔，所述穿管孔位于最下侧的所述连接孔的下方，所述回液管的下部穿过所述穿管孔。管托槽和穿管孔对回液管起到支撑定位作用，避免回液管晃动。
[0019]在优选或可选方案中，所述过滤器包括过滤壳体，所述过滤壳体顶部设有滤液进口，所述过滤壳体底部设有滤液出口，所述过滤壳体内设有三层平行设置的隔板，所述隔板上设有多个滤孔，每层所述隔板上方的空间为过滤空间，所述过滤空间内填充有活性炭颗粒，所述活性炭颗粒的粒径大于所述滤孔的直径，所述隔板的顶面覆盖耐酸滤膜。过滤器具有三层过滤空间，过滤空间内填充有活性炭颗粒，可以吸附硅管清洗液中的金属离子、有机物等杂质，设置隔板清洗液只能从滤孔向下流动，由此延长了清洗液在过滤空间中的停留时间，提高了过滤效果，耐酸滤膜可以进一步提升过滤器对金属离子和有机物的过滤效果，且避免活性炭颗粒进入滤孔造成堵塞。
[0020]在优选或可选方案中，从上往下三层所述过滤空间的高度依次增大，从上往下三层所述过滤空间内填充的所述活性炭颗粒的粒径依次减小。过滤器的这种布局结构能实现含有杂质较多的清洗液在上层过滤空间停留时间较短，而含有杂质较少的清洗液在下层过滤空间停留时间较长，有利于均衡分配各层过滤空间的过滤负荷，从而延长过滤器的使用寿命，同时在不同过滤空间中填充不同粒径的活性炭颗粒，可以对杂质实现分层过滤，逐步提高过滤精度，过滤效果更好。
[0021]本专利技术的第二方面提供一种硅管清洗方法，使用了上述的硅管清洗装置，所述硅管清洗方法包括以下步骤：集液槽内盛装清洗液，将硅管安装在清洗装置上，使进液管与硅管的下端连通，回液管与硅管的上端连通，用固定夹夹持固定硅管，打开输液泵向硅管内通入清洗液，根据硅管内径设置清洗液的流量，满足以下关系，
[0022][0023]其中，d为硅管的内径，p为输液泵的出口压力，q为清洗液的通入流量。
[0024]上述方法使用硅管清洗装置对硅管进行清洗，清洗液采用下进上出的方式在硅管内流动，能有效取出管内部附着的杂质，显著提高清洗效果；本专利技术还根据清洗实验总结出了清洗液流量计算公式，将流量控制在该公式范围内，就可以将硅管清洗干净，且节省能量消耗，保证过滤器可以有效工作，使清洗液能循环使用。
[0025]综上所述，本专利技术具有以下有益效果：
[0026]1)该硅管本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种硅管清洗装置，其特征在于，包括集液槽(1)，用于盛装清洗液，所述集液槽(1)的底面设有下液口；过滤器(2)，所述过滤器(2)设置在所述集液槽(1)的下方并与所述下液口连通；输液泵(3)，所述输液泵(3)设置在所述集液槽(1)的下方，所述输液泵(3)的进口与所述过滤器(2)连通；进液管(4)，所述进液管(4)的进口端与所述输液泵(3)的出口连通，所述进液管(4)的出口端位于所述集液槽(1)的上方且开口朝上；回液管(5)，所述回液管(5)的进口端位于所述进液管(4)的出口端的上方且开口朝下，所述回液管(5)的出口端位于所述集液槽(1)内且开口朝下；支杆(6)，所述支杆(6)的底部与所述集液槽(1)的侧壁连接，所述支杆(6)上安装两个固定夹(7)，所述固定夹(7)用于夹持固定硅管(8)。2.根据权利要求1所述的硅管清洗装置，其特征在于，所述进液管(4)的出口端上设有进液接头(41)，所述回液管(5)的进口端上设有出液连接件，所述出液连接件包括依次设置的连接帽(51)、连接软管(52)和出液接头(53)，所述连接帽(51)安装在所述回液管(5)的进口端上，所述进液接头(41)和所述出液接头(53)分别用于连接所述硅管(8)的两端。3.根据权利要求2所述的硅管清洗装置，其特征在于，所述进液接头(41)包括第一管座(42)和第一通液管(43)，所述第一管座(42)与所述进液管(4)连接，所述第一通液管(43)设置在所述第一管座(42)上并从所述第一管座(42)顶部穿出，所述第一通液管(43)与所述进液管(4)连通，所述第一通液管(43)的外径小于所述硅管(8)的内径，所述第一管座(42)的外径大于等于所述硅管(8)的外径，所述出液接头(53)包括第二管座(54)和第二通液管(55)，所述第二管座(54)与所述回液管(5)连接，所述第二通液管(55)设置在所述第二管座(54)上并从所述第二管座(54)底部穿出，所述第二通液管(55)与所述连接软管(52)连通，所述第二通液管(55)的外径小于所述硅管(8)的内径，所述第二管座(54)的外径大于等于所述硅管(8)的外径，所述第一管座(42)的顶部设有第一环形垫片(44)，所述第二管座(54)的底部设有第二环形垫片(56)，所述第一环形垫片(44)和所述第二环形垫片(56)的外径大于等于所述硅管(8)的外径。4.根据权利要求3所述的硅管清洗装置，其特征在于，所述第一环形垫片(44)具有向上凸起的第一凸台，所述第一凸台适于插入所述硅...
【专利技术属性】
技术研发人员：范荣，李士昌，
申请(专利权)人：盛吉盛精密技术宁波有限公司，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。