图像处理装置和测距装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供能够降低电磁波检测中的环境变化、随时间变化的影响的图像处理装置和测距装置。图像处理装置具有：反射强度信息获取部(142)，根据向存在对象(ob)的空间的多个方向照射的电磁波即照射波被对象反射后的反射波，获取对象的位置处的照射波的反射强度信息，并根据反射强度信息生成表示空间中的照射波的反射强度的反射强度图像；图像信息获取部(141)，获取空间的亮度图像；以及对应信息算出部(146)，根据反射强度图像和亮度图像各自中的对象的位置，算出将反射强度图像与亮度图像建立对应关系的对应信息。建立对应关系的对应信息。建立对应关系的对应信息。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】图像处理装置和测距装置
[0001]关联申请的相互参照
[0002]本申请要求日本国专利申请2020
‑
114483号(2020年7月1日申请)的优先权，在此其全部公开内容通过引用并入本文。


[0003]本专利技术涉及一种图像处理装置和测距装置。

技术介绍

[0004]近年来，开发了一种根据检测电磁波的多个检测器的检测结果得到与周围有关的信息的装置。例如，已知一种降低了各检测器的检测结果中的坐标系的差异的电磁波检测装置(参照专利文献1)。
[0005]现有技术文献
[0006]专利文献
[0007]专利文献1：日本特开2018
‑
200927号公报。

技术实现思路

[0008]第一方面的图像处理装置具有：
[0009]反射强度信息获取部，根据向存在对象的空间的多个方向照射的电磁波即照射波被所述对象反射后的反射波，获取所述对象的位置处的所述照射波的反射强度信息，并根据所述反射强度信息生成表示所述空间中的所述照射波的反射强度的反射强度图像；
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种图像处理装置，其中，具有：反射强度信息获取部，根据向存在对象的空间的多个方向照射的电磁波即照射波被所述对象反射后的反射波，获取所述对象的位置处的所述照射波的反射强度信息，并根据所述反射强度信息生成表示所述空间中的所述照射波的反射强度的反射强度图像；图像信息获取部，获取所述空间的亮度图像；以及对应信息算出部，根据所述反射强度图像和所述亮度图像各自中的所述对象的位置，算出将所述反射强度图像与所述亮度图像建立对应关系的对应信息。2.根据权利要求1所述的图像处理装置，其中，所述对应信息包括将所述反射强度图像与所述亮度图像建立对应关系的旋转、放大缩小以及平移的至少一个。3.根据权利要求1或2所述的图像处理装置，其中，配置为所述亮度图像中的规定位置与来自所述规定位置的所述反射波的光轴一致。4.根据权利要求3所述的图像处理装置，其中，所述反射强度信息获取部从检测所述反射波的第一检测部获取所述反射强度信息，所述图像信息获取部从检测所述光的第二检测部获取所述图像信息，所述第一检测部检测从包括所述反射波的电磁波中根据波长而分离的所述反射波，所述第二检测部检测从包括所述反射波的电磁波中根据波长而分离的所述光。5.根据权利要求1～4中任一项所述的图像处理装置，其中，所述亮度图像具有比所述反射强度图像更高的分辨率，所述对应信息算出部使用分辨率降低后的所述亮度图像和所述反射强度图像算出所述对应信息、或者使用所述亮度图像和分辨率提高后的...

【专利技术属性】
技术研发人员：冈田浩希，高山喜央，
申请(专利权)人：京瓷株式会社，
类型：发明
国别省市：