本发明专利技术提供一种曝光装置以及图像形成装置。曝光装置包括：发光部，具有基体与配置于所述基体的发光元件；以及位置调整部，具有接触构件、支撑构件以及移动构件，所述接触构件的外周接触至所述基体，所述支撑构件能够旋转地支撑所述接触构件，所述移动构件接触至所述支撑构件，使所述支撑构件朝所述发光部的光照射方向移动。方向移动。方向移动。
【技术实现步骤摘要】
曝光装置以及图像形成装置
[0001]本公开涉及一种曝光装置以及图像形成装置。
技术介绍
[0002]日本专利特开2005
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22259号公报中公开了一种焦点调整装置，是使从与图像形成区域中的主扫描方向的各像素对应地并设的多个发光元件照射的光的焦点位置一致于像保持体表面的、光写入装置的焦点调整装置，所述焦点调整装置的特征在于包括：存储部件，存储图案图像；图像形成部件，在像保持体表面形成与存储在存储部件中的图案图像对应的静电潜像图案；表面电位测定部件，对由所述图像形成部件所形成的像保持体表面上的静电潜像图案区域的表面电位进行测定；以及位移机构，基于由所述表面电位测定部件所测定出的表面电位来使光写入装置相对于像保持体表面的位置发生位移，以使发光元件的光的焦点一致于像保持体表面。
[0003]日本专利特开2005
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14497号公报中公开了一种图像形成装置，包括：像保持体；发光二极管(Light Emitting Diode，LED)打印头，靠近所述像保持体的表面而设，通过光照射来对所述像保持体曝光图像信息；第一定位部件，被固定地设在图像形成装置本体侧，支撑所述像保持体；以及第二定位部件，被设于所述LED打印头，抵接于所述第一定位部件而限制所述像保持体与所述LED打印头的距离，所述图像形成装置的特征在于，在所述第二定位部件与所述LED打印头之间设有弹性部件，所述弹性部件用于朝远离所述LED打印头的规定方向对所述第二定位部件施力。
[0004]日本专利特开2002
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361931号公报中公开了一种光学头的定位装置，其特征在于具有：圆筒形状的感光鼓，沿长边方向延伸；光学头，与所述感光鼓平行地延伸；以及至少一个间隔件，以抵接于所述感光鼓的方式而配设，限制所述光学头与所述感光鼓的表面之间的距离。
技术实现思路
[0005]本公开的目的在于获得一种曝光装置以及图像形成装置，与在支撑构件固定有接触构件的结构相比，能够抑制与发光部的光照射方向正交的方向的位置偏离。
[0006]根据本公开的第一方案，提供一种曝光装置，包括：发光部，具有基体与配置于所述基体的发光元件；以及位置调整部，具有接触构件、支撑构件以及移动构件，所述接触构件的外周接触至所述基体，所述支撑构件能够旋转地支撑所述接触构件，所述移动构件接触至所述支撑构件，使所述支撑构件朝所述发光部的光照射方向移动。
[0007]根据本公开的第二方案，所述接触构件与所述基体之间的摩擦系数小于所述支撑构件与所述接触构件之间的摩擦系数。
[0008]根据本公开的第三方案，所述基体沿一方向延伸，所述发光元件沿所述一方向配置有多个，所述支撑构件为轴构件，所述位置调整部具有支承部，所述支承部将与所述一方向正交的方向作为轴方向而能够旋转且能够沿所述光照射方向移动地支承所述轴构件。
[0009]根据本公开的第四方案，所述移动构件能够沿所述一方向移动，
[0010]在所述移动构件，设有转换部，所述转换部将所述一方向的移动力转换为用于使所述轴构件沿所述光照射方向移动的移动力。
[0011]根据本公开的第五方案，所述转换部是一斜面，所述斜面被设在所述移动构件中的与所述轴构件接触的部分，且相对于所述一方向而倾斜。
[0012]根据本公开的第六方案，所述移动构件具有一对所述斜面，所述一对斜面夹着所述接触构件而分别接触至所述轴构件的两侧部分。
[0013]根据本公开的第七方案，所述支承部是与所述基体的短边方向相向地配置，相向的所述支承部分别支承所述轴构件，在所述轴构件的相向的所述支承部之间配置有所述接触构件。
[0014]根据本公开的第八方案，所述接触构件为一个，所述移动构件在与所述一方向正交的方向上配置有两个，在两个所述移动构件之间配置有所述接触构件。
[0015]根据本公开的第九方案，所述接触构件的外径比作为所述支撑构件的轴构件的外径大。
[0016]根据本公开的第十方案，所述位置调整部具有使所述移动构件沿所述一方向移动的进给构件，所述进给构件与所述接触构件在所述光照射方向上重合。
[0017]根据本公开的第十一方案，所述进给构件是沿所述一方向延伸，且通过绕轴的旋转来使所述移动构件沿所述一方向移动的丝杠构件，所述位置调整部还具有驱动所述丝杠构件旋转的驱动源。
[0018]根据本公开的第十二方案，通过所述接触构件与所述基体的接触点、以及所述移动构件与所述轴构件的接触点的直线沿着所述光照射方向。
[0019]根据本公开的第十三方案，提供一种图像形成装置，包括：像保持体；所述曝光装置，对所述像保持体进行曝光而形成静电潜像，且能够调整所述像保持体与发光元件之间的距离；以及显影装置，对所述像保持体的静电潜像进行显影。
[0020](效果)
[0021]根据所述第一方案，与接触构件被固定于支撑构件的结构相比，能够抑制与发光部的光照射方向正交的方向的位置偏离。
[0022]根据所述第二方案，与接触构件与基体之间的摩擦系数为支撑构件与接触构件之间的摩擦系数以上的结构相比，能够抑制与发光部的光照射方向正交的方向的位置偏离。
[0023]根据所述第三方案，与轴构件沿一方向延伸的情况相比，能够缩短一方向的长度。
[0024]根据所述第四方案，与通过移动构件沿光照射方向移动而使轴构件沿光照射方向移动的结构相比，能够使装置的光照射方向的尺寸变得紧凑。
[0025]根据所述第五方案，能够减小移动构件与轴构件之间的摩擦。
[0026]根据所述第六方案，与移动构件的斜面夹着接触构件而仅接触至轴构件的单侧部分的结构相比，能够抑制轴构件的倾斜。
[0027]根据所述第七方案，与接触构件被配置在轴构件的相向的支承部的外侧的结构相比，能够抑制伴随利用接触构件来调整基体的光照射方向的位置所造成的基体的扭曲。
[0028]根据所述第八方案，既能保持接触构件与移动构件的平衡，又能抑制伴随利用接触构件来调整基体的光照射方向的位置所造成的基体的扭曲。
[0029]根据所述第九方案，与接触构件的外径为轴构件的外径以下的结构相比，即便使基体朝短边方向展开，也能够抑制轴构件干涉到基体。
[0030]根据所述第十方案，与进给构件与接触构件在光照射方向上偏离的结构相比，能够降低移动构件传向轴构件的移动力的损失。
[0031]根据所述第十一方案，与通过驱动安装有移动构件的带旋转来使移动构件沿一方向移动的结构相比，能够对移动构件朝向一方向的移动量进行微调。
[0032]根据所述第十二方案，与通过接触构件与基体的接触点、以及移动构件与轴构件的接触点的直线相对于光照射方向而倾斜的结构相比，能够抑制与发光部的光照射方向正交的方向的位置偏离。
[0033]根据所述第十三方案，与未使用第一形态至第十二形态中任一形态的曝光装置的结构相比，能够形成精度良好的图像。
附图说明
[0034]图1是表示包本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种曝光装置，包括：发光部，具有基体与配置于所述基体的发光元件；以及位置调整部，具有接触构件、支撑构件以及移动构件，所述接触构件的外周接触至所述基体，所述支撑构件能够旋转地支撑所述接触构件，所述移动构件接触至所述支撑构件，使所述支撑构件朝所述发光部的光照射方向移动。2.根据权利要求1所述的曝光装置，其中所述接触构件与所述基体之间的摩擦系数小于所述支撑构件与所述接触构件之间的摩擦系数。3.根据权利要求1或2所述的曝光装置，其中所述基体沿一方向延伸，所述发光元件沿所述一方向配置有多个，所述支撑构件为轴构件，所述位置调整部具有支承部，所述支承部将与所述一方向正交的方向作为轴方向而能够旋转且能够沿所述光照射方向移动地支承所述轴构件。4.根据权利要求3所述的曝光装置，其中所述移动构件能够沿所述一方向移动，在所述移动构件，设有转换部，所述转换部将所述一方向的移动力转换为用于使所述轴构件沿所述光照射方向移动的移动力。5.根据权利要求4所述的曝光装置，其中所述转换部是一斜面，所述斜面被设在所述移动构件中的与所述轴构件接触的部分，且相对于所述一方向而倾斜。6.根据权利要求5所述的曝光装置，其中所述移动构件具有一对所述斜面，所述一对斜面夹着所述接触构件而分别接触至所述轴构件的两侧部分。7.根据权利要求3至6中任一项所述的曝光装置，其中所述支承部是与所述基体的短边...
【专利技术属性】
技术研发人员：鸨巣健太，粕谷洋介，小林孝彦，
申请(专利权)人：富士胶片商业创新有限公司，
类型：发明
国别省市：
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