【技术实现步骤摘要】
一种真空腔体用升降结构及系统
[0001]本技术涉及真空镀膜
,更具体地说,涉及一种真空腔体用升降结构及系统。
技术介绍
[0002]真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面,它是以真空技术为基础,利用物理或化学方法,并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术,为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。简单地说,在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射,使其在被涂覆的物体(称基板、基片或基体)上凝固并沉积的方法,称为真空镀膜。为了满足高产能的要求,真空镀膜设备的腔体和加热板、电极板等功能板已经大尺寸化;为了拓宽工艺窗口,需要镀膜距离可调,即功能板可升降。
[0003]现有技术中的真空设备中的升降方案为:腔体底部安装一个升降模组,该升降模组上有升降平台,其上有四个或多个支撑柱穿过腔体底部并支撑着功能板升降;支撑柱周边的密封方案为焊接波纹管和密封圈进行密封。现有功能板的升降方案存在的问题是:
[0004]一、机构的尺寸大且质量重,安装维护时需拆装整个模组,模组的尺寸大且质量重导致安装
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种真空腔体用升降结构,其特征在于:包括,支撑机构(100),所述支撑机构(100)设置在腔体内部,所述支撑机构(100)下端固定连接升降机构(200),所述支撑机构(100)包括上平台(101)、密封件(102)以及导向柱(103),所述密封件(102)设置在升降机构(200)与支撑机构(100)连接处,所述密封件(102)上设有导向柱(103),所述上平台(101)上设有导向孔(101a),所述导向柱(103)贯穿所述导向孔(101a)与上平台(101)滑动连接,所述密封件(102)下端固定连接在腔体的底部;以及,升降机构(200),所述升降机构(200)上端伸入腔体内部固定连接上平台(101)。2.根据权利要求1所述的真空腔体用升降结构,其特征在于:所述升降机构(200)包括旋转件(201)以及移动件(202),所述旋转件(201)上设有外螺纹,所述移动件(202)一端设有内螺纹,所述旋转件(201)与移动件(202)螺纹配合,所述移动件(202)一端固定连接上平台(101)。3.根据权利要求2所述的真空腔体用升降结构,其特征在于:所述升降机构(200)还包括壳体(203)、升降停止件(204)以及驱动件(205),所述壳体(203)一端固定在密封件(102)上,所述壳体(203)内部设有腔室,所述旋转件(201)以及移动件(202)均设置在腔室内,所述驱动件(205)设置在壳体(203)远离密封件(102)一端,所述驱动件(205)伸入壳体(203)内部与旋转件(201)固定连接。4.根据权利要求3所述的真空腔体用升降结构,其特征在于:所述旋转件(201)为丝杆,所述丝杆一端固定连接驱动件(205),所述丝杆上套设有移动件(202)。5.根据权利要求2所述的真空腔体用升降结构,其特征在于:所述移动件(...
【专利技术属性】
技术研发人员:李王俊,王凤明,房现飞,蒋建新,王青松,
申请(专利权)人:苏州迈为科技股份有限公司,
类型:新型
国别省市:
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