一种二级加热反应腔体装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术实施例公开了一种二级加热反应腔体装置，涉及原子层沉积技术领域，能够降低能源的消耗。本实用新型专利技术包括：进气端密封法兰，第一级加热装置，第二级加热装置，压力表，真空泵，出气端密封法兰，反应腔体，气动阀Ⅱ，气动阀Ⅰ。所述的进气端密封法兰和出气端密封法兰，用来对反应腔体进行密封，保证必要的真空度和避免反应物外泄。所述的第一级加热装置，采用电加热方式，用来对前驱体源路进行预加热，使流经参与反应的前驱体源满足一定的温度要求，激发其活性。所述第二级加热装置，采用激光加热方式，通过控制激光的通断，来对待沉积样品进行灵活加热，既能满足反应效率，又能满足反应所需的具有能量。满足反应所需的具有能量。满足反应所需的具有能量。

【技术实现步骤摘要】
一种二级加热反应腔体装置


[0001]本技术涉及原子层沉积
，尤其涉及一种二级加热反应腔体装置。

技术介绍

[0002]近年来，随着集成电路、半导体装备制造的快速发展，原子层沉积装备(ALD)引起了广泛的关注。在原子层沉积过程中，一个完整的反应被打断成两个半反应，只有当表面的活性位点被消耗殆尽后，第一个半反应才会停止，然后进行另一个半反应，由于这样的自限制化学反应，不仅所制造薄膜的厚度能被精确控制，在复杂形貌基底上的薄膜的均匀性也能很好地被保持，同时由于对过量的前驱体不敏感，所以具有很高的可重复性。因此，原子层沉积在集成电路、半导体和传感器等领域，具有重要的应用价值。
[0003]原子层的沉积过程是通过循环次数控制的，每一个循环次数包括两个或多个前驱体源的反应和清洗，其中，反应过程需要高温来提供能量，清洗过程是不需要高温环境的。但是，传统的原子层沉积反应腔体，采用电加热的单级加热方式提供高温环境，由于电加热效率低，往往需要进行提前加热，并且由于一个原子层沉积的循环时长较短，一般几秒到几十秒，为了给下一个循环的反应过程做好准备，需要本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种二级加热反应腔体装置，其特征在于，所述装置的组成部分包括：进气端密封法兰(1)、第一级加热装置(2)、第二级加热装置(3)、压力表(4)、真空泵(5)、出气端密封法兰(6)、反应腔体(8)、气动阀Ⅱ(9)和气动阀Ⅰ(10)；反应腔体(8)的出气端和进气端，分别安装有出气端密封法兰(6)和进气端密封法兰(1)，进气端密封法兰(1)和出气端密封法兰(6)用于对反应腔体(8)进行密封；第一级加热装置(2)和第二级加热装置(3)构成二级加热结构，第二级加热装置(3)采用激光器；气动阀Ⅱ(9)和气动阀Ⅰ(10)安装于反应腔体(8)外，并分别通过输气管穿过进气端密封法兰(1)伸入反应腔体(8)。2.根据权利要求1所述的二级加热反应腔体装置，其特征在于，真空泵(5)通过输气管连接出气端密封法...

【专利技术属性】
技术研发人员：吕俊彦，黄亚洲，周雨轲，张云飞，訾豪，杨东方，
申请(专利权)人：南京工程学院，
类型：新型
国别省市：