蒸发装置及真空蒸镀系统制造方法及图纸

本公开提供了一种蒸发装置及真空蒸镀系统，蒸发装置包括：基座；蒸发源支架，设置在基座上，蒸发源支架包括至少一个承载单元，用于承载至少一种蒸发材料；电子束发射器，设置在基座上，包括：发射丝，用于发射电子；第一电极，与发射丝的一端连接，用于与第一负高压连接；第二电极，与发射丝的另一端连接，用于与第二负高压连接；以及至少一个隔离柱，设置在第一电极和第二电极之间，用于隔离第一电极和第二电极。电极。电极。

【技术实现步骤摘要】
蒸发装置及真空蒸镀系统


[0001]本公开涉及真空镀膜
，特别涉及一种蒸发装置及真空蒸镀系统。

技术介绍

[0002]真空蒸镀法是目前应用较为广泛的一种镀膜方法，是真空内的电子束轰击材料从而实现蒸发镀膜。常见蒸发源包括单个坩埚和用于偏转电子束的磁偏转装置，电子束发射装置通过电极连接高压电后发射电子束，再通过磁偏转装置将电子束偏转并聚焦至坩埚内，对材料进行轰击。
[0003]传统的电子束发射装置的正负电极普遍采用螺栓固定，从而使正负电极分离开一定的空隙防止短路。但是电子束发射装置在发射电子束时温度极高，螺栓易产生形变，从而造成正负电极从原本的安装位置松脱，继而相互接触造成短路，严重时可能损毁整个镀膜设备，具有极大的安全隐患。

技术实现思路

[0004]本公开提供了一种蒸发装置，其特征在于，包括：基座；蒸发源支架，设置在基座上，蒸发源支架包括至少一个承载单元，用于承载至少一种蒸发材料；电子束发射器，设置在基座上，包括：发射丝，用于发射电子；第一电极，与发射丝的一端连接，用于与第一负高压连接；第二电极，与发射丝的另一端连接，本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种蒸发装置，其特征在于，包括：基座；蒸发源支架，设置在所述基座上，所述蒸发源支架包括至少一个承载单元，用于承载至少一种蒸发材料；电子束发射器，设置在所述基座上，包括：发射丝，用于发射电子；第一电极，与所述发射丝的一端连接，用于与第一负高压连接；第二电极，与所述发射丝的另一端连接，用于与第二负高压连接；以及至少一个隔离柱，设置在所述第一电极和所述第二电极之间，用于隔离所述第一电极和所述第二电极。2.根据权利要求1所述的蒸发装置，其特征在于：所述第一电极包括：至少一个第一定位销，用于将所述第一电极定位在所述基座上；所述第二电极包括：至少一个第二定位销，用于将所述第二电极定位在所述基座上。3.根据权利要求2所述的蒸发装置，其特征在于，所述电子束发射器还包括：绝缘片，设置在所述基座上，其中，所述第一电极和所述第二电极设置在所述绝缘片上，所述至少一个第一定位销与所述绝缘片的至少一个第一定位孔相配合，所述至少一个第二定位销与所述绝缘片的至少一个第二定位孔相配合。4.根据权利要求3所述的蒸发装置，其特征在于，所述第一电极和所述第二电极通过螺栓固定在所述绝缘片上，所述螺栓与所述第一电极和所述第二电极的材料不同。5.根据权利要求1所述的蒸发装置，其特征在于，所述第一电极包括至少一个第一抵接孔，所述第二电极包括至少一个第二抵接孔，所述隔离柱抵接在所述第一抵接孔和第二抵接孔之间。6.根据权利要求1所述的蒸发装置，其特征在于，所述电子束发射器还包括：偏转磁体组件，用于偏转电子以使电子向工作承载单元发射。7.根据权利要求6所述的蒸发装置，其特征在于，所述偏转磁体组件还包括：至少一个磁体；以及导磁体组件，与所述至少一个磁体磁耦合，所述导磁体组件包括：第一导磁体，与所述蒸发源支架滑动连接，设置在所述工作承载单元的第一侧；以及第二导磁体，与所述蒸发源支架滑动连接，设置在所述工作承载单元的第二侧，所述第二侧与所述第一侧相对。8.根据权利要求7所述的蒸发装置，其特...

【专利技术属性】
技术研发人员：阿力甫，
申请(专利权)人：费勉仪器科技上海有限公司，
类型：新型
国别省市：