一种滤光片制造技术

本实用新型专利技术公开了一种滤光片，属于滤光设备技术领域，旨在解决现有的具有投影功能电子产品投影效果较差的问题；包括：玻璃基片，其特征在于：所述玻璃基片的顶面设置有高反膜，制作材料为二氧化硅和五氧化三钛；本实用新型专利技术由于在滤光片上镀有30层制作材料为二氧化硅和五氧化三钛的高反膜，使得55

【技术实现步骤摘要】
一种滤光片


[0001]本技术涉及滤光设备
，具体是一种滤光片。

技术介绍

[0002]滤光片是一种可从复合光中分离出某一波段单色光的光学器件，其被广泛的应用于各种光电产业领域，例如投影设备。滤光片是通过在透光基片上镀电介质金属膜制成的，其利用电介质金属膜的干涉作用从入射光中选取特定波段的光使其通过滤光片。根据不同应用领域的需要，不同的带通滤光片往往需要具有不同的带通波段，这样就需要在透光基片的一侧表面上镀不同厚度的电介质金属膜系，带通越窄的滤光片往往需要在透光基片上镀的电介质金属膜系越厚。
[0003]现有的具有投影功能电子产品，需要反射来自DLP投影引擎的可见光和芯片的红外光，但是只能反射0
°‑
55
°
的光源，投影效果较差。

技术实现思路

[0004]本公开的目的之一是提供一种能够克服现有技术中至少一个缺陷的滤光片。
[0005]为解决上述技术问题，本申请实施例公开了如下技术方案：一种滤光片，包括：玻璃基片，所述玻璃基片的顶面设置有高反膜，制作材料包括二氧化硅和五氧化三钛。
[0006]优选地，本申请实施例还公开了：所述玻璃基片的形状采用但不限于矩形。
[0007]优选地，本申请实施例还公开了：所述高反膜的层数为但不限于30层。
[0008]本申请实施例中提供的一个或多个技术方案，至少具有如下技术效果或优点：由于在滤光片上镀有30层制作材料包括二氧化硅和五氧化三钛的高反膜，使得55
°
光源反射百分比平均比现有滤光片提升5％，且还可以反射60
°‑
75
°
的光源，大大提高反射范围，使得投影杂光减少、成像更加清晰，使得高反膜在400
‑
700nm、850
‑
950nm反射光Ravg>95％,大大的增强光的反射。
附图说明
[0009]图1为本技术实施例的一种滤光片的结构示意图。
[0010]附图标记说明：
[0011]1、玻璃基片；2、高反膜。
具体实施方式
[0012]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0013]需要说明的是，在本技术的描述中，术语“中”、“上”、“下”、“横”、“内”等指示
的方向或位置关系的术语是基于附图所示的方向或位置关系，这仅仅是为了便于描述，而不是指示或暗示所述装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。
[0014]此外，还需要说明的是，在本技术的描述中，除非另有明确的规定和限定，术语“设置”、“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域技术人员而言，可根据具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。
[0015]实施例：
[0016]参照图1，本实施例公开了一种滤光片，包括：玻璃基片1，所述玻璃基片1的顶面设置有高反膜2，制作材料包括二氧化硅和五氧化三钛。
[0017]具体的来说：所述玻璃基片1的形状采用但不限于矩形，厚度为1mm，制作材料为D263T；所述高反膜2的层数为30层，高反膜由二氧化硅和五氧化三钛交替设计，二氧化硅和五氧化三钛的工艺参数如下表：
[0018][0019]镀膜设备采用：日本进口光驰1550型镀膜机，镀膜机加热烘烤温度采用200℃。
[0020]显然，本领域的技术人员可以对本技术进行各种改动和变型而不脱离本技术的精神和范围。这样，倘若本技术的这些修改和变型属于本技术权利要求及其等同技术的范围之内，则本技术也意图包含这些改动和变型在内。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种滤光片，包括：玻璃基片(1)，其特征在于：所述玻璃基片(1)的顶面设置有高反膜(2)，制作材料包括二氧化硅和五氧化三钛。2.根据权利要求1所述的一种滤光...

【专利技术属性】
技术研发人员：潘帅，胡庆国，吴佳佳，张梅骄，
申请(专利权)人：杭州秋光科技有限公司，
类型：新型
国别省市：