一种镀膜均匀的镀抗反射薄膜装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种镀膜均匀的镀抗反射薄膜装置，包括外箱体、加料管、镀膜液箱、观察窗和固定座，所述外箱体内部底端安装有固定座，所述外箱体内部顶端安装有镀膜液箱，所述外箱体顶端安装有加料管，且加料管底端穿过外箱体与镀膜液箱相连接，所述镀膜液箱底端安装有电子枪，且电子枪底端安装有连接软管，所述连接软管底端安装有镀膜头，所述外箱体前端安装有观察窗。本实用新型专利技术不仅能够通过往复丝杆转动带动滑块往复移动，进而带动镀膜头往复移动进行均匀镀膜，而且能够通过转动杆转动带动锥形块移动带动，进而推动清洁条转动，还能够通过清洁条与限位块贴合，便于清洁条对锥形块进行挤压，进而便于转动杆越过清洁条。进而便于转动杆越过清洁条。进而便于转动杆越过清洁条。

【技术实现步骤摘要】
一种镀膜均匀的镀抗反射薄膜装置


[0001]本技术涉及镀膜加工装备
，尤其涉及一种镀膜均匀的镀抗反射薄膜装置。

技术介绍

[0002]镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种，真空镀膜机在镀膜完成时不便于观察镀膜情况，而且在镀膜过程中镀膜的涂料会飞溅到装置上，影响观察的情况。
[0003]目前使用的镀抗反射薄膜装置存在一定缺陷，缺少均匀镀膜功能，造成镀膜头不方便均匀往复移动，进而不方便将镀膜液均匀喷涂在固定座上工件上，因此，提出一种镀膜均匀的镀抗反射薄膜装置显得非常必要。

技术实现思路

[0004]本技术的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的一种镀膜均匀的镀抗反射薄膜装置。
[0005]为了实现上述目的，本技术采用了如下技术方案：
[0006]一种镀膜均匀的镀抗反射薄膜装置，包括外箱体、加料管、镀膜液箱、观察窗和固定座，所述外箱体内部底端安装有固定座，所述外箱体内部顶端安装有镀膜液箱，所述外箱体顶端安本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种镀膜均匀的镀抗反射薄膜装置，包括外箱体(1)、加料管(2)、镀膜液箱(3)、观察窗(7)和固定座(8)，所述外箱体(1)内部底端安装有固定座(8)，所述外箱体(1)内部顶端安装有镀膜液箱(3)，所述外箱体(1)顶端安装有加料管(2)，且加料管(2)底端穿过外箱体(1)与镀膜液箱(3)相连接，所述镀膜液箱(3)底端安装有电子枪(4)，且电子枪(4)底端安装有连接软管(5)，所述连接软管(5)底端安装有镀膜头(6)，所述外箱体(1)前端安装有观察窗(7)，其特征在于，所述外箱体(1)内部右壁上固定安装有空心壳(9)，且空心壳(9)内部转动安装往复丝杆(10)，所述往复丝杆(10)环形侧面上转动安装有滑块(11)，且滑块(11)端固定安装有连接杆(12)，所述连接杆(12)另一端固定安装在镀膜头(6)上，所述外箱体(1)后端固定安装有电动机(21)，且电动机(21)前端与往复丝杆(10)相连接，所述往复丝杆(10)前端延伸至空心壳(9)前端并固定安装有转动杆(13)，所述外箱体(1)内部前壁右侧转动安装有清洁条(14)，所述外箱体(1)内部前壁左侧固定安装有限位块(18)。2.根据权利要求1所述的一种镀膜均匀的镀抗反射薄膜装置，其特征在于，所述外箱体(...

【专利技术属性】
技术研发人员：唐波，王鹏，费明跃，
申请(专利权)人：赫得纳米科技重庆有限公司，
类型：新型
国别省市：