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本实用新型公开了一种镀膜均匀的镀抗反射薄膜装置，包括外箱体、加料管、镀膜液箱、观察窗和固定座，所述外箱体内部底端安装有固定座，所述外箱体内部顶端安装有镀膜液箱，所述外箱体顶端安装有加料管，且加料管底端穿过外箱体与镀膜液箱相连接，所述镀膜液箱...
该专利属于赫得纳米科技重庆有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过赫得纳米科技重庆有限公司授权不得商用。

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