【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】转印膜及层叠体的制造方法
[0001]本专利技术涉及一种转印膜及层叠体的制造方法。
技术介绍
[0002]通过光的照射而固化的感光性组合物用于多种用途。例如,在专利文献1中,公开了将包含作为聚合引发剂的特定结构的α
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氨基烷基苯酮化合物、固化性树脂、稀释剂及填充剂的组合物用于形成阻焊剂。
[0003]以往技术文献
[0004]专利文献
[0005]专利文献1:日本特开2016
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90857号公报
技术实现思路
[0006]专利技术要解决的技术课题
[0007]近年来,由于用于获得规定图案的工序数少,因此广泛使用在隔着掩模对使用转印膜设置于任意的基板上的感光性组合物层进行曝光之后进行显影的方法。
[0008]在此,有时将对感光性组合物层进行曝光及显影而获得的固化膜用作用于保护触摸面板中的传感器电极及引出配线的保护膜(触摸面板电极保护膜)。
[0009]本专利技术人等使用参考专利文献1的记载而获得的感光性组合物制作了具有感光性组合 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种转印膜,其具有临时支承体及配置于临时支承体上的感光性组合物层,所述感光性组合物层包含碱溶性树脂、聚合性化合物以及由式I或式II表示的聚合引发剂,所述聚合引发剂的含量相对于所述感光性组合物层的总质量为0.1质量%~3.0质量%,式I中,X1表示由
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S
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R
11
表示的基团或由
‑
R
12
表示的基团,R
11
及R
12
分别独立地表示碳原子数2以上的1价的有机基团,式II中,X2表示n价的连接基团,式I及式II中,Y1及Y2分别独立地表示任选地具有取代基的烷基或任选地具有取代基的芳基,式I及式II中,Z1及Z2分别独立地表示任选地具有取代基的烷基或任选地具有取代基的芳基,其中,当Z1及Z2为任选地具有取代基的烷基时,Z1与Z2任选地连接而形成环,式I及式II中,X3为1价的取代基,式I及式II中,m表示0~3的整数,当m为2以上时,多个X3彼此相同或不同,式II中,n为2或3。2.根据权利要求1所述的转印膜,其中,式I中,X1为具有芳香环的基团。3.根据权利要求1或2所述的转印膜,其中,所述感光性组合物层还包含除了由所述式I表示的聚合引发剂及由所述式II表示的聚合引发剂以外的聚合引发剂。4.根据权利要求3所述的转印膜,其中,所述感光性组合物层中的、由所述式I表示的聚合引发剂及由所述式II表示的聚合引发剂的总含量相对于除了由所述式I表示的聚合引发剂及由所述式II表示的聚合引发剂以外的聚合引发剂的含量的质量比为0.5~10。5.根据权利要求1至4中任一项所述的转印膜,其中...
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