【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】转印膜、层叠体的制造方法
[0001]本专利技术涉及一种转印膜及层叠体的制造方法。
技术介绍
[0002]由于用于获得规定形状的图案的工序数少,因此广泛使用在使用转印膜经由包含所期望的图案的掩模对设置于任意的基板上的感光性组合物层进行曝光之后进行显影的方法。
[0003]例如,有时使用具有感光性组合物层的转印膜,以形成用于保护触摸面板中的传感器电极及引出配线的保护层。更具体而言,专利文献1中公开有一种薄膜(转印膜),其具备包含碱溶性粘合剂聚合物、光聚合性化合物及光聚合引发剂的感光性树脂层(感光性组合物层)。
[0004]以往技术文献
[0005]专利文献
[0006]专利文献1:日本特开2019
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175226号公报
技术实现思路
[0007]专利技术要解决的技术课题
[0008]另一方面,近年来,要求更进一步提高由感光性组合物层形成的图案的形状。具体而言,要求在所形成的图案的边缘部分中不产生凸凹,而从基板的法线方向视觉辨认基板上的图案时,边缘部分为直 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种转印膜,其具有临时支承体及感光性组合物层,所述感光性组合物层包含光聚合引发剂、碱溶性树脂及聚合性化合物,所述光聚合引发剂包含第1光聚合引发剂及第2光聚合引发剂,所述第1光聚合引发剂的波长365nm下的摩尔吸光系数ε1为500L/mol
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cm以上,所述第2光聚合引发剂的波长365nm下的摩尔吸光系数ε2相对于所述第2光聚合引发剂的波长313nm下的摩尔吸光系数ε3之比为0.200以下。2.根据权利要求1所述的转印膜,其中,所述第2光聚合引发剂的波长365nm下的摩尔吸光系数ε2相对于所述第2光聚合引发剂的波长313nm下的摩尔吸光系数ε3之比为0.100以下。3.根据权利要求1或2所述的转印膜,其中,所述第2光聚合引发剂的极大吸收波长为320nm以下。4.根据权利要求1至3中任一项所述的转印膜,其中,所述第2光聚合引发剂的极大吸收波长为300nm以下。5.根据权利要求1至4中任一项所述的转印膜,其中,所述第2光聚合引发剂包含选自由氨基苯甲酸酯系光聚合引发剂、烷基苯酮系光聚合引发剂及酰基氧化膦系光聚合引发剂组成的组中的至少一种。6.根据权利要求1至5中任一项所述的转印膜,其中,所述第2光聚合引发剂包含氨基苯甲酸酯系光聚合引发剂。7.根据权利要求1至6中任一项所述的转印膜,其中,所述第1光聚合引发剂包含选自由肟酯系光聚合引发剂及烷基苯酮系光...
【专利技术属性】
技术研发人员:丰冈健太郎,有年阳平,霜山达也,
申请(专利权)人:富士胶片株式会社,
类型:发明
国别省市:
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