显示面板的制备方法、显示面板及显示面板生产设备技术

本申请公开了显示面板的制备方法、显示面板及显示面板生产设备，包括以下步骤：提供一玻璃基板；在所述玻璃基板上制备出OLED阵列层；以及在所述OLED阵列层上制备出钝化层和平坦层，在所述平坦层上制备出第一通孔以及在所述钝化层上制备第二通孔；其中，所述在所述钝化层以及所述平坦层上刻蚀出通孔的步骤中：在所述玻璃基板远离所述OLED阵列层的一侧设置一层光阻层；进行氢氟酸喷淋处理，在所述钝化层上形成通孔；剥离所述光阻层。本申请的技术效果在于，在氢氟酸刻蚀钝化层时保护玻璃基板不受腐蚀。不受腐蚀。不受腐蚀。

【技术实现步骤摘要】
显示面板的制备方法、显示面板及显示面板生产设备


[0001]本申请涉及显示领域，具体涉及一种显示面板的制备方法、显示面板及显示面板生产设备。

技术介绍

[0002]现有柔性器件TFT制程中，为了减少一道光照，会选择使用氢氟酸HF对钝化层进行蚀刻，但是在此同时，玻璃基板的背面在经过氢氟酸时也会被腐蚀，在宏观状态下会呈水滴状，存在滚轮印状白色脏污，在微观状态下呈现砂砾状，其最大的影响就是在实际生产时会导致激光剥离时出现剥离困难，器件层受到拉扯后造成显示面脱离，点灯后画面出现黑点、细黑线，严重影响激光剥离(英文全程：Laser Lift Off，简称LLO)制程，甚至会导致器件损坏扯烂等严重后果。

技术实现思路

[0003]本申请的目的在于，提供一种显示面板的制备方法、显示面板及显示面板生产设备，可以解决现有的显示面板制备过程中的氢氟酸刻蚀钝化层的制程中玻璃基板受腐蚀严重、存在滚轮印等技术问题。
[0004]为实现上述目的，本申请提供一种显示面板的制备方法，其包括以下步骤：提供一玻璃基板；在所述玻璃基板上制备出OLED阵列层；以及在所述OLED阵列层上制备出钝化层和平坦层，在所述平坦层上制备出第一通孔以及在所述钝化层上制备第二通孔；其中，所述在所述平坦层上制备出第一通孔以及在所述钝化层上制备第二通孔的步骤包括：在所述玻璃基板远离所述OLED阵列层的一侧设置一层光阻层；进行氢氟酸喷淋处理，在所述钝化层上形成所述第二通孔；剥离所述光阻层。
[0005]进一步的，所述在所述OLED阵列层上制备出钝化层和平坦层的步骤包括：在所述OLED阵列层远离所述玻璃基板的一侧的表面沉积一层绝缘材料，作为钝化层；在所述钝化层远离所述玻璃基板的一侧的表面涂布一层无机材料，形成平坦层；经过曝光、显影、烘烤以及蚀刻后，在所述平坦层上形成所述第一通孔，且所述第一通孔与所述OLED阵列层的漏极对应设置。
[0006]进一步的，所述在所述玻璃基板远离所述OLED阵列层的一侧设置一层光阻层的步骤包括：在所述玻璃基板远离所述OLED阵列层的一侧喷涂光阻材料，并进行烘烤固化处理形成所述光阻层。
[0007]进一步的，在喷涂光阻材料时，在所述玻璃基板的底面采用滚筒式的滚轮滚动，使得所述光阻材料均匀喷涂。
[0008]进一步的，在所述进行烘烤固化处理的步骤中，采用加热丝或极紫外线固化处理。
[0009]进一步的，所述进行氢氟酸喷淋处理的步骤中：进行至少两次氢氟酸喷淋处理，所述钝化层在对应于所述平坦层的第一通孔的位置处形成所述第二通孔，所述第二通孔与所述OLED阵列层的漏极对应设置，所述钝化层的第二通孔与所述平坦层的第一通孔相互连
通。
[0010]进一步的，在所述氢氟酸喷淋步骤之后，进行风干处理。
[0011]进一步的，所述剥离所述光阻层的步骤中，采用激光剥离的方式将所述光阻层与所述玻璃基板分离。
[0012]为实现上述目的，本申请提供一种显示面板，其采用本专利技术所述的显示面板的制备方法制备而成；所述显示面板包括：玻璃基板；OLED阵列层，设于所述玻璃基板一侧的表面；钝化层，设于所述OLED阵列层远离所述玻璃基板一侧的表面，所述钝化层上设有通过氢氟酸刻蚀而成的第二通孔；平坦层，设于所述钝化层远离所述OLED阵列层一侧的表面，所述平坦层上设有第一通孔，所述第一通孔与所述第二通孔相互连通，所述第一通孔和所述第二通孔均与所述OLED阵列层的漏极对应设置。
[0013]为实现上述目的，本申请提供一种用于生产本专利技术所述的显示面板的显示面板生产设备，其包括依次设置的第一生产室、第二生产室、光阻喷涂室、光阻烘烤室、第一氢氟酸喷淋室、第二氢氟酸喷淋室以及风干室；所述第一生产室用于在所述玻璃基板上制备出OLED阵列层；所述第二生产室用于在所述OLED阵列层上制备出钝化层和平坦层；所述光阻喷涂室用于在所述玻璃基板远离所述OLED阵列层的一侧喷涂光阻材料；所述光阻烘烤室用于对所述玻璃基板远离所述OLED阵列层的一侧的光阻材料进行烘烤固化处理形成所述光阻层；所述第一氢氟酸喷淋室及所述第二氢氟酸喷淋室用于在所述钝化层上形成所述第二通孔；所述风干室用于进行风干处理。
[0014]本申请的技术效果在于，在玻璃基板的下表面喷涂一层光阻层，在对钝化层进行氢氟酸喷淋刻蚀时，所述光阻层能起到保护所述玻璃基板的作用，防止其表面留下滚轮印，避免被氢氟酸刻蚀，就能避免所述玻璃基板在宏观状态下呈水滴状和滚轮印状白色脏污，在微观状态下呈现砂砾状等现象，在实际生产时会降低剥离难度，防止OLED阵列层受到拉扯进而造成显示面Peeling、点灯后画面出现黑点、细黑线等问题，改善显示面板的显示效果，提高显示器件的良率。
附图说明
[0015]为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0016]图1是本申请实施例提供的显示面板的制备方法的流程图；
[0017]图2是本申请实施例提供的制备遮光层后的结构示意图；
[0018]图3是本申请实施例提供的制备缓冲层后的结构示意图；
[0019]图4是本申请实施例提供的制备有源层后的结构示意图；
[0020]图5是本申请实施例提供的制备栅极绝缘层后的结构示意图；
[0021]图6是本申请实施例提供的制备栅极层后的结构示意图；
[0022]图7是本申请实施例提供的制备介电层后的结构示意图；
[0023]图8是本申请实施例提供的制备源漏极层后的结构示意图；
[0024]图9是本申请实施例提供的制备第一通孔后的结构示意图；
[0025]图10是本申请实施例提供的制备第二通孔的流程图；
[0026]图11是本申请实施例提供的制备光阻后的结构示意图；
[0027]图12是本申请实施例提供的光阻烘烤室的内部俯视图；
[0028]图13是本申请实施例提供的氢氟酸处理后的结构示意图；
[0029]图14是本申请实施例提供的剥离光阻后的结构示意图；
[0030]图15是本申请实施例提供的显示面板生产设备的结构示意图；
[0031]附图标记说明：
[0032]100、玻璃基板；200、OLED阵列层；300、钝化层；400、平坦层；
[0033]201、遮光层；202、缓冲层；203、有源层；204、栅极绝缘层；205、栅极层；206、介电层；207、源极；208、漏极；
[0034]2061、介电层通孔；
[0035]301、第二通孔；401、第一通孔；
[0036]10、光阻层；20、喷嘴；41、烘烤装置
[0037]1000、显示面板生产设备；
[0038]1、第一生产室；2、第二生产室；3、光阻喷涂室；4、光阻烘烤室；5、第一氢氟酸本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：提供一玻璃基板；在所述玻璃基板上制备出OLED阵列层；以及在所述OLED阵列层上制备出钝化层和平坦层，在所述平坦层上制备出第一通孔以及在所述钝化层上制备第二通孔；其中，所述在所述平坦层上制备出第一通孔以及在所述钝化层上制备第二通孔的步骤包括：在所述玻璃基板远离所述OLED阵列层的一侧设置一层光阻层；进行氢氟酸喷淋处理，在所述钝化层上形成所述第二通孔；剥离所述光阻层。2.如权利要求1所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述在所述OLED阵列层上制备出钝化层和平坦层的步骤包括：在所述OLED阵列层远离所述玻璃基板的一侧的表面沉积一层绝缘材料，作为钝化层；在所述钝化层远离所述玻璃基板的一侧的表面涂布一层无机材料，形成平坦层；经过曝光、显影、烘烤以及蚀刻后，在所述平坦层上形成所述第一通孔，且所述第一通孔与所述OLED阵列层的漏极对应设置。3.如权利要求1所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述在所述玻璃基板远离所述OLED阵列层的一侧设置一层光阻层的步骤包括：在所述玻璃基板远离所述OLED阵列层的一侧喷涂光阻材料，并进行烘烤固化处理形成所述光阻层。4.如权利要求3所述的显示面板的制备方法，其特征在于，在喷涂光阻材料时，在所述玻璃基板的底面采用滚筒式的滚轮滚动，使得所述光阻材料均匀喷涂。5.如权利要求3所述的显示面板的制备方法，其特征在于，在所述进行烘烤固化处理的步骤中，采用加热丝或极紫外线固化处理。6.如权利要求2所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述进行氢氟酸喷淋处理的步骤中：进行至少两次氢氟酸喷淋处理，所述钝化层在对应于所述平坦层的第一...

【专利技术属性】
技术研发人员：李才文，覃事建，
申请(专利权)人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：