本实用新型专利技术公开了一种电磁装置及接触器，电磁装置包括静铁芯和动铁芯；动铁芯包括呈T型设置的连接座及极柱，静铁芯包括底座和分别设置在底座的两侧的侧壁，底座上设置有用于吸附极柱的吸附部，当电磁装置工作时，动铁芯移动至连接座与侧壁的顶端抵接，且极柱与吸附部吸附的位置处；吸附部与极柱中，一者上设置有吸附凸起，另一者上开设有与吸附凸起的形状契合的吸附凹槽；或者，吸附部及极柱上均分别设置有吸附凸起及吸附凹槽，且吸附部上的吸附凸起与极柱上的吸附凹槽形状契合，极柱上的吸附凸起与吸附部上的吸附凹槽形状契合。而相较于2个平面吸附来说，本实用新型专利技术增加了吸附面积，提高了电磁吸力。提高了电磁吸力。提高了电磁吸力。
【技术实现步骤摘要】
一种电磁装置及接触器
[0001]本技术涉及接触器
，尤其是涉及一种电磁装置及接触器。
技术介绍
[0002]现有接触器中，T型电磁铁应用广泛。T型电磁铁的动铁芯的中柱磁极面为平面，与静铁芯通过平面电磁吸附。
[0003]然而，T型电磁铁普遍面临着动铁芯与静铁芯吸附力较小，吸附不稳定的问题。
[0004]因此，如何提高动铁芯与静铁芯的吸附力是本领域技术人员亟待解决的技术问题。
技术实现思路
[0005]有鉴于此，本技术的第一个目的是提供一种电磁装置，以提高电磁铁的动铁芯与静铁芯的磁吸力，进而提高动铁芯与静铁芯的吸附稳定性。
[0006]本技术的第二个目的是提供一种接触器。
[0007]为了实现上述第一个目的，本技术提供了如下方案：
[0008]一种电磁装置，包括静铁芯和动铁芯；
[0009]所述动铁芯包括呈T型设置的连接座及极柱，所述静铁芯包括底座和分别设置在底座的两侧的侧壁，所述底座上设置有用于吸附所述极柱的吸附部，当所述电磁装置工作时，所述动铁芯移动至所述连接座与所述侧壁的顶端抵接，且所述极柱与所述吸附部吸附的位置处；
[0010]所述吸附部与所述极柱中，一者上设置有吸附凸起，另一者上开设有与所述吸附凸起的形状契合的吸附凹槽；或者，所述吸附部及所述极柱上均分别设置有吸附凸起及吸附凹槽，且所述吸附部上的吸附凸起与所述极柱上的吸附凹槽形状契合，所述极柱上的吸附凸起与所述吸附部上的吸附凹槽形状契合。
[0011]在一个具体的实施方案中，所述吸附凹槽为V型槽，所述吸附凸起为V形凸起；
[0012]或者
[0013]所述吸附凹槽为弧形凹槽，所述吸附凸起为弧形凸起。
[0014]在另一个具体的实施方案中，所述吸附凹槽包括多个依次设置的子凹槽，所述吸附凸起包括多个依次设置且与所述凹槽一一对应的子凸起。
[0015]在另一个具体的实施方案中，所述子凹槽为V型槽，所述子凸起为V形凸起；
[0016]或者
[0017]所述子凹槽为弧形凹槽，所述子凸起为弧形凸起。
[0018]在另一个具体的实施方案中，所述侧壁包括侧壁主体和横梁，所述横梁设置在所述侧壁主体的顶端；
[0019]所述底座两侧的横梁均向靠近彼此的方向延伸，并形成允许所述极柱穿过的开口。
[0020]在另一个具体的实施方案中，所述横梁与所述侧壁主体垂直连接，且所述横梁的顶端设置有抵接凸起；
[0021]当所述电磁装置工作时，所述抵接凸起与所述连接座抵接。
[0022]在另一个具体的实施方案中，所述电磁装置还包括绝缘复位件；
[0023]所述绝缘复位件的一端与所述横梁的顶端抵接或者连接，所述绝缘复位件的另一端与所述连接座的底端抵接或者连接，用于驱动所述动铁芯复位。
[0024]在另一个具体的实施方案中，所述绝缘复位件为绝缘弹簧。
[0025]在另一个具体的实施方案中，所述连接座与所述极柱一体成型连接；
[0026]和/或
[0027]所述吸附部与所述底座一体成型连接；
[0028]和/或
[0029]所述底座与所述侧壁一体成型连接。
[0030]根据本技术的各个实施方案可以根据需要任意组合，这些组合之后所得的实施方案也在本技术范围内，是本技术具体实施方式的一部分。
[0031]本技术提供的电磁装置，动铁芯和静铁芯通过动铁芯上的极柱和静铁芯上的吸附部吸附。吸附部与极柱中，一者上设置有吸附凸起，另一者上开设有与吸附凸起的形状契合的吸附凹槽，或者，吸附部及极柱上均分别设置有吸附凸起及吸附凹槽，且吸附部上的吸附凸起与极柱上的吸附凹槽形状契合，极柱上的吸附凸起与吸附部上的吸附凹槽形状契合。而相较于2个平面吸附来说，本技术增加了吸附面积，提高了电磁吸力，进而提高了动铁芯与静铁芯的吸附稳定性。
[0032]为了实现上述第二个目的，本技术提供了如下方案：
[0033]一种接触器，包括接触器主体和如上述中任意一项所述的电磁装置；
[0034]所述电磁装置安装在所述接触器主体上。
[0035]由于本技术提供的接触器包含上述任意一项中的电磁装置，因此，电磁装置所具有的有益效果均是本技术公开的接触器所包含的。
附图说明
[0036]为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出新颖性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0037]图1为本技术一种实施例提供的电磁装置处于动铁芯及静铁芯处于分离状态时的三维结构示意图；
[0038]图2为本技术一种实施例提供的电磁装置处于动铁芯及静铁芯处于分离状态时的主视结构示意图；
[0039]图3为本技术一种实施例提供的电磁装置处于动铁芯及静铁芯处于吸附状态时的三维结构示意图；
[0040]图4为本技术一种实施例提供的电磁装置处于动铁芯及静铁芯处于吸附状态时的主视结构示意图；
[0041]图5为本技术另一种实施例提供的电磁装置处于动铁芯及静铁芯处于分离状态时的主视结构示意图；
[0042]图6为本技术另一种实施例提供的电磁装置处于动铁芯及静铁芯处于吸附状态时的主视结构示意图。
[0043]其中，图1
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图6中：
[0044]电磁装置1000、静铁芯100、动铁芯200、极柱201、连接座202、吸附部101、底座102、吸附凸起201a、吸附凹槽101a、开口104、侧壁103、侧壁主体103a、横梁103b、抵接凸起103b
‑
1、绝缘复位件300。
具体实施方式
[0045]下面将结合本技术实施例中的附图1
‑
图5，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出新颖性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0046]在本技术的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“顶面”、“底面”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的位置或元件必须具有特定方位、以特定的方位构成和操作，因此不能理解为本技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
[0047]结合图1
‑
图6所示，本技术一方面提供了一种电磁装置1000，用于提高电磁铁的动铁芯200与静铁芯100的磁吸力。
[0048]电磁装置1000包括静铁本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种电磁装置(1000)，其特征在于，包括静铁芯(100)和动铁芯(200)；所述动铁芯(200)包括呈T型设置的连接座(202)及极柱(201)，所述静铁芯(100)包括底座(102)和分别设置在底座(102)的两侧的侧壁(103)，所述底座(102)上设置有用于吸附所述极柱(201)的吸附部(101)，当所述电磁装置(1000)工作时，所述动铁芯(200)移动至所述连接座(202)与所述侧壁(103)的顶端抵接，且所述极柱(201)与所述吸附部(101)吸附的位置处；所述吸附部(101)与所述极柱(201)中，一者上设置有吸附凸起(201a)，另一者上开设有与所述吸附凸起(201a)的形状契合的吸附凹槽(101a)；或者，所述吸附部(101)及所述极柱(201)上均分别设置有吸附凸起(201a)及吸附凹槽(101a)，且所述吸附部(101)上的吸附凸起(201a)与所述极柱(201)上的吸附凹槽(101a)形状契合，所述极柱(201)上的吸附凸起(201a)与所述吸附部(101)上的吸附凹槽(101a)形状契合。2.根据权利要求1所述的电磁装置(1000)，其特征在于，所述吸附凹槽(101a)为V型槽，所述吸附凸起(201a)为V形凸起；或者所述吸附凹槽(101a)为弧形凹槽，所述吸附凸起(201a)为弧形凸起。3.根据权利要求2所述的电磁装置(1000)，其特征在于，所述吸附凹槽(101a)包括多个依次设置的子凹槽，所述吸附凸起(201a)包括多个依次设置且与所述凹槽一一对应的子凸起。4.根据权利要求3所述的电磁装置(1000)，其特征在于，所述子凹槽为V型槽，所述子凸起为V形凸起；或者所述子凹槽为弧形凹槽，所述子凸起为弧...
【专利技术属性】
技术研发人员：冉勇，李新叶，
申请(专利权)人：德力西电气有限公司，
类型：新型
国别省市：
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